① 定期清洗鍋爐內的水垢.水垢的主要成分之一是氫氧化鎂,請寫出稀鹽酸與氫氧化鎂反應的化學方程式______
氫氧化鎂與稀鹽酸反應生成氯化鎂和水,故填:Mg(OH)2+2HCl=MgCl2+2H2O.
② 用醋酸除水垢的離子方程式
水垢的主要成分為Mg(OH)2和CaCO3
醋酸能與水垢的主要成分發生反應,生成可溶性醋酸鹽的緣故版。有關化學方程式為權:
Mg(OH)2+2HAc=Mg(Ac)2+2H2O
CaCO3+2HAc=Ca(Ac)2+H2O+CO2↑
離子反應方程式為:
Mg(OH)2+2HAc=Mg2+ + 2Ac- + 2H2O
CaCO3+2HAc=Ca2+ + 2Ac- + H2O +CO2↑
醋酸的化學式為CH3COOH,醋酸的化學式還可簡寫為HAc
如有疑問請網路HI我。。樂意為您解答。。望採納。。謝謝
③ 引起鍋爐受熱面結生水垢的離子是
水垢成分以鹽酸鈣和磷酸鈣為主。
當水中含有硫酸鈣、硅酸鈣、硅酸鎂內時,如離子濃度超過溶容度積時也會發生沉澱,沉積在設備管壁上。因此,水中二氧化硅含量不可超過150mg/L。此外水中含有氧,還會造成金屬腐蝕,形成鐵垢。
由於鍋爐的形成不同,操作條件不同,各地水質的差異,形成的垢性質不同。鍋爐水垢,尤其是高壓鍋爐中的垢,主要是鈣鎂的硫酸鹽和硅酸鹽、鐵垢,它們在高溫下形成堅硬緻密的復合鹽;熱水鍋爐中的垢多以鈣鎂的碳酸鹽垢、鐵垢為主,垢疏鬆。而換熱器垢多為碳酸鹽、硫酸鹽、鐵垢、硅垢及生物黏泥等,垢多孔疏鬆,為非水溶性鈣鎂碳酸鹽及各種鹼式鐵鹽。因此,鍋爐酸洗除垢要比一般熱水器除垢難的多,工藝復雜。
高壓鍋爐垢的組成是以鐵、銅、鎳、鋁的氧化物為主;中壓低壓鍋爐垢的組成是以碳酸鹽、硅酸鹽、硫酸鹽、氧化鐵等為主。
④ 醋酸除水垢的離子方程式
水垢一般指MgCO3,Mg(OH)2,CaCO3,醋酸是弱電解質,在離子方程式中不拆:
MgCO3+2CH3COOH=Mg2++2CH3COO-+H2O+CO2(氣體版)
Mg(OH)2+2CH3COOH=Mg2++2CH3COO-+2H2O
CaCO3+2CH3COOH=Ca2++2CH3COO-+H2O+CO2(氣體)
望采權納o!!!
⑤ ①長期使用的鍋爐需要定期除水垢,否則會降低燃料的利用率.水垢中含有的CaSO4,可先用Na2CO3溶液處理,
①CaSO4 轉化為抄CaCO3的離子方襲程式為CaSO4(s)+CO32-(aq)=CaCO3(s)+SO42-(aq),
由平衡CaSO4(s)?Ca2+(aq)+SO42-(aq)可知,加入Na2CO3溶液後,CO32-與Ca2+結合生成CaCO3沉澱Ca2+濃度減少,使CaSO4的沉澱溶解平衡向溶解方向移動,發生:CaSO4(s)+CO32-(aq)=CaCO3(s)+SO42-(aq);
故答案為:CaSO4(s)+CO32-(aq)=CaCO3(s)+SO42-(aq);CO32-與Ca2+生產更難溶的CaCO3沉澱,使CaSO4的沉澱溶解平衡向右移;
②Na2CO3存在兩步水解,NaHCO3只有一步水解,Na2CO3的水解程度大於NaHCO3,所以等物質的量濃度的Na2CO3溶液和NaHCO3溶液,Na2CO3的PH大於NaHCO3;
故答案為:>;相同濃度的CO32-水解程度大於HCO3-的水解程度.
⑥ 用鹽酸除水垢中的碳酸鈣離子方程式
碳酸鈣難溶於水,在離子方程式中不拆。這個反應實質是氫離子參與反應,且HCl在水中完全電離,故寫氫離子,省略氯離子。 離子方程式是: CaCO3 +2H+ → Ca2+ +CO2↑+H2O
⑦ 下列與處理方法對應的方程式不正確的是()A.用碳酸鈉溶液浸泡鍋爐水垢:CO32-+CaSO4=CaCO3↓+SO42-
A、用碳酸鈉溶液浸泡鍋爐水垢,碳酸根離子濃度增大,和鈣離子乘積達到回溶度積常數生答成碳酸鈣沉澱:CO32-+CaSO4=CaCO3↓+SO42-,故A正確;
B、煤的鈣基固硫是利用石灰石分解生成的氧化鈣和二氧化硫反應生成亞硫酸鈣生成硫酸鈣,防止二氧化硫的污染.燃煤中加入石灰石可以減少SO2的排放:O2+2CaCO3+2SO2=2CO2↑+2CaSO4,故B正確;
C、氫氟酸和二氧化硅反應生成四氟化硅和水,故C正確;
D、酚羥基不能和碳酸氫鈉反應,故D錯誤;
故選D.
⑧ 下列解釋事實的離子方程式不正確的是()A.用Na2CO3溶液除去鍋爐中的水垢:CO32-+CaSO4═CaCO3+SO42
A.硫酸鈣屬於微溶物、碳酸鈣屬於難溶物,所以可以用碳酸鈉除去硫酸鈣,內離子反應方程式容為CO32-+CaSO4═CaCO3+SO42-,故A正確;
B.硫化鉛的溶度積大於硫化銅,所以離子反應方程式為Cu2++SO42-+PbS═CuS+PbSO4,故B正確;
C.鹼性條件下,鐵離子和鹼反應生成氫氧化鐵,所以離子方程式為Fe3++3NH3?H2O═Fe(OH)3↓+3NH4+,故C正確;
D.用鉑電極電解氯化鎂溶液,陽極上氯離子放電、陰極上氫離子放電,同時溶液中生成氫氧根離子,氫氧根離子和鎂離子反應生成氫氧化鎂沉澱,所以離子方程式為:Mg 2++2Cl-+2H2O