『壹』 请问半导体厂房用的纯水和废水处理是怎么收费的，按流量计费每立方大约多少钱是否和普通自来水收费不同
是按照多少量来计费的，在多少吨以内是多少钱，然后在按吨收取费用 。
『贰』 水处理设备一般多少钱一台，质量怎么样
水处理设备是一个广义的名词，也是通用设备，因用途不同，水处理设备可能从几十块钱一套，到几千万一套。
『叁』 电镀日处理废水1600吨的处理站投资需多少万元每吨废水的处理费用是多少
一般情况下每吨电镀废水的工程造价在3000元/吨左右，即投资在500万无左右。
每吨废水处理要看达到什么标准，如果做到一级达标排放，每吨处理费用在2.5元左右吧。
『肆』 水处理基本知识 工业废水零排放
现代水处理技术发展聚焦于两大方向：超纯水制备与废水零排放。超纯水制备主要服务于半导体、精密电子、光伏与精密化工等产业的快速发展，依赖于成熟应用的RO、EDI、离子交换等技术，其驱动核心为技术创新。废水零排放则基于日益严格的环境保护需求，结合膜分离、蒸发结晶等技术，实现废液无排放，政策驱动显著。
工业废水零排放设计涉及三阶段：预处理、回用、蒸发结晶。预处理阶段运用传统废水处理工艺，产出水满足工业回用标准；回用阶段主要通过膜分离技术，综合超滤、纳滤、反渗透（含DTRO、STRO）与离子交换等技术，实现水的高效循环利用；蒸发结晶阶段通过低温蒸发、低温刮刀结晶或多效蒸发等工艺，实现浓缩液的结晶和蒸汽冷凝回用。
DTRO膜技术，以其独特的开放式流道和双”S”形路线设计，能有效处理高浓度、高盐、高有机物废水，常在反渗透工艺后，蒸发结晶工艺前，减轻后者的负担。STRO膜则结合开放式流道与卷式元件优势，抗压能力强，适用于高盐、高有机物废水的浓缩处理。
蒸发结晶阶段采用低温蒸发器、低温刮刀结晶器或MVR蒸发器等设备，合理设计低温真空处理、热泵低温真空干燥结晶或低温与低压汽蒸技术相结合的工艺流程，实现浓缩液结晶和蒸汽冷凝回用。
案例解析显示，电泳废水零排放设计依据生产工艺、回用需求与废水处理量不同，而选择不同的预处理、回用与蒸发结晶工艺。电镀废水零排放则通过分类处理与部分零排放工艺，实现废水处理与资源回收。中水回用与二次净化案例，则通过超滤、反渗透、EDI等技术，达到纯化水标准。
总结而言，工业废水零排放设计需综合考虑预处理、回用与蒸发结晶三阶段技术选择，以实现废水资源化利用与环境保护目标。项目实施过程中，经验积累与客户理解至关重要，需充分考虑水质变化与长期运行需求，确保系统稳定与高效运行。
『伍』 污水处理丨厌氧氨氧化工艺的工程化应用进展
厌氧氨氧化（Anammox）工艺在污水处理中的应用进展显著。Anammox工艺是基于专性厌氧自养菌催化，将亚硝酸盐作为电子受体，氨氧化为氮气的过程。与传统异养反硝化工艺相比，Anammox脱氮技术无需外加有机碳源，曝气量小，效率高，最高容积氮去除速率达到9.5kg·N/(m³·d)，远超传统硝化反硝化工艺（容积氮去除率<0.50kg·N/(m³·d)）。其处理费用仅为0.75欧元/kg·N，远低于传统生物脱氮工艺的2~5欧元/kg·N。Anammox工艺因其经济性、可持续性、低运行费用和占地小等优点，被认为是目前最经济、最可持续发展的生物脱氮工艺之一。
厌氧氨氧化（Anammox）工艺的工程化应用在多个领域取得进展。在市政城市污水方面，Anammox工艺已应用于主流和侧流污水处理。主流Anammox工程实例包括奥地利Strass污水处理厂和新加坡樟宜污水处理厂，分别在低温和高水温条件下实现稳定运行。侧流工程如荷兰鹿特丹Dokhaven污水处理厂和瑞典马尔默Sjölunda污水处理厂，利用其独特的水质特点实现高效脱氮。而北京高碑店、北京小红门等污水处理厂则采用Anammox技术处理污泥消化液，实现高氨氮废水的高效脱氮。
工业废水处理领域，Anammox工艺在焦化、发酵、制药、制革、半导体、食品加工等行业应用成功。例如，内蒙古金煤化工废水处理项目和荷兰半导体工厂通过Anammox工艺处理焦化废水和半导体芯片废水，分别实现低成本、高效脱氮。在发酵废水处理方面，Anammox工艺在通辽市梅花生物科技有限公司、山东省滨州市安琪酵母公司和河北玉峰实业集团的高氨氮工业废水处理中得到应用，实现经济高效的脱氮效果。
养殖废水处理方面，Anammox工艺成为处理集约化规模养殖废水的备选方法。旬方飞等在ASBR中成功启动厌氧氨氧化过程，处理养猪场废水，实现高总氮去除率。浏阳市万丰中型养猪场和长沙县鑫广安路口猪场采用改良“AO+Anammox+BAF”工艺，实现污水处理效率高、运行成本低。
厌氧氨氧化（Anammox）工艺的工程化应用在不同领域的进展展示了其在污水处理中的巨大潜力。未来，通过解决低温启动、快速增殖、抑制因素控制等关键问题，Anammox工艺有望在实现污水处理的低能耗和高效脱氮方面发挥更重要作用。
『陆』 如何处理半导体(LED)废水
随着单个LED光通亮和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LED显示器背光源等市场广阔。 LED生产过程中绝大部分废水产生在原材料和芯片制造过程中，分为拉晶、切磨抛和芯片制造，主要含一般酸碱废水、含氟废水、有机废水、氨氮废水等几种水质，在黄绿光晶片制造过程中还会有含砷废水排出。 2、LED芯片加工废水特点：主要污染物为LED芯片生产过程中排放的大量有机废水和酸碱废水，另有少量含氟废水。有机废水主要污染物为醇、乙醇、双氧水;酸碱废水中主要污染物为无机酸、碱等。 3、LED切磨抛废水特点：主要污染物为大量清洗废水，主要成分为硅胶、弱酸、硫酸、盐酸、研磨砂等。 4、酸碱废水排放：主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水，采用化学中和法处理。 含砷废水：主要来自背面减薄及划片/分割工序，采用化学沉淀法处理。 一般废水：排放方式均为连续排放，主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类，采用生化法去除。 含氟废水：主要清洗废水中含有HF，使用混凝沉淀去除。 高氨氮废水：使用折点加氯法，将废水中的氨氮氧化成N2。投加过量氯或次氯酸钠，使废水中氨完全氧化为N2的方法，称为折点氯化法，其反应可表示为： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生产加工之蓝宝石拉晶废水 污水水质、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小时连续)废水水质：PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后进入有机废水调节池。人工收集到含氟废水收集池，加药剂进行沉淀。上清液达标排放，污泥排入污泥浓缩池处理。 利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能，向池内投加厌氧性水解菌，池内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质，为后继处理单元提供部分水解处理服务。 废水经过调节后经泵提升进入进入厌氧水解池。 厌氧水解池采用上向流布水形式，利用循环管网系统加强池底部的混流强度，提高反应器内的传质效果。利用微生物的水解酸化作用将废水中难降解的大分子有机物转化为易降解的小分子有机物，将复杂的有机物转变成简单的有机物，提高废水的可生化性，有利于后续的好氧生化处理。出水自流进入接触氧化池。接触氧化池的混合液进入二沉池进行泥水沉淀分离。为保证COD排放达标的处理要求，将二沉池出水导入BAF进行处理。生物曝气滤池的出水流入清水池，为生物曝气滤池提供滤料的反冲洗水，其余的清水达标排放。 5.2、LED生产加工之切磨抛废水 污水水质、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小时连续)废水水质：1PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺根据业主废水的水质情况，在吸取以往同类废水处理装置设计的成功经验和一些同类废水处理装置的实际运行经验，设计污水处理主体工艺路线如下： 格栅池+清洗废水调节池+反应池+物化沉淀池达标排放 污泥处理主体工艺采用工艺路线为： 污泥浓缩+污泥调理+板框压滤泥饼外运 5.3、LED生产加工之芯片废水 污水水质、水量： 有机废水水量：19.4t/h(24小时连续)水质：PH值6.0-8.0无量纲 酸碱废水水量：70t/h(24小时连续)水质：PH值4.0-11.0无量纲 含氟废水水量：4t/h(24小时连续)水质：PH值2.0-4.0无量纲 氟化物≤200mg/L处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后达标排放。含氟废水收集调节后与投加的药剂反应生成不溶性氟化物沉淀，上清液达标排放。