『壹』 請問半導體廠房用的純水和廢水處理是怎麼收費的，按流量計費每立方大約多少錢是否和普通自來水收費不同
是按照多少量來計費的，在多少噸以內是多少錢，然後在按噸收取費用 。
『貳』 水處理設備一般多少錢一台，質量怎麼樣
水處理設備是一個廣義的名詞，也是通用設備，因用途不同，水處理設備可能從幾十塊錢一套，到幾千萬一套。
『叄』 電鍍日處理廢水1600噸的處理站投資需多少萬元每噸廢水的處理費用是多少
一般情況下每噸電鍍廢水的工程造價在3000元/噸左右，即投資在500萬無左右。
每噸廢水處理要看達到什麼標准，如果做到一級達標排放，每噸處理費用在2.5元左右吧。
『肆』 水處理基本知識 工業廢水零排放
現代水處理技術發展聚焦於兩大方向：超純水制備與廢水零排放。超純水制備主要服務於半導體、精密電子、光伏與精密化工等產業的快速發展，依賴於成熟應用的RO、EDI、離子交換等技術，其驅動核心為技術創新。廢水零排放則基於日益嚴格的環境保護需求，結合膜分離、蒸發結晶等技術，實現廢液無排放，政策驅動顯著。
工業廢水零排放設計涉及三階段：預處理、回用、蒸發結晶。預處理階段運用傳統廢水處理工藝，產出水滿足工業回用標准；回用階段主要通過膜分離技術，綜合超濾、納濾、反滲透（含DTRO、STRO）與離子交換等技術，實現水的高效循環利用；蒸發結晶階段通過低溫蒸發、低溫刮刀結晶或多效蒸發等工藝，實現濃縮液的結晶和蒸汽冷凝回用。
DTRO膜技術，以其獨特的開放式流道和雙」S」形路線設計，能有效處理高濃度、高鹽、高有機物廢水，常在反滲透工藝後，蒸發結晶工藝前，減輕後者的負擔。STRO膜則結合開放式流道與卷式元件優勢，抗壓能力強，適用於高鹽、高有機物廢水的濃縮處理。
蒸發結晶階段採用低溫蒸發器、低溫刮刀結晶器或MVR蒸發器等設備，合理設計低溫真空處理、熱泵低溫真空乾燥結晶或低溫與低壓汽蒸技術相結合的工藝流程，實現濃縮液結晶和蒸汽冷凝回用。
案例解析顯示，電泳廢水零排放設計依據生產工藝、回用需求與廢水處理量不同，而選擇不同的預處理、回用與蒸發結晶工藝。電鍍廢水零排放則通過分類處理與部分零排放工藝，實現廢水處理與資源回收。中水回用與二次凈化案例，則通過超濾、反滲透、EDI等技術，達到純化水標准。
總結而言，工業廢水零排放設計需綜合考慮預處理、回用與蒸發結晶三階段技術選擇，以實現廢水資源化利用與環境保護目標。項目實施過程中，經驗積累與客戶理解至關重要，需充分考慮水質變化與長期運行需求，確保系統穩定與高效運行。
『伍』 污水處理丨厭氧氨氧化工藝的工程化應用進展
厭氧氨氧化（Anammox）工藝在污水處理中的應用進展顯著。Anammox工藝是基於專性厭氧自養菌催化，將亞硝酸鹽作為電子受體，氨氧化為氮氣的過程。與傳統異養反硝化工藝相比，Anammox脫氮技術無需外加有機碳源，曝氣量小，效率高，最高容積氮去除速率達到9.5kg·N/(m³·d)，遠超傳統硝化反硝化工藝（容積氮去除率<0.50kg·N/(m³·d)）。其處理費用僅為0.75歐元/kg·N，遠低於傳統生物脫氮工藝的2~5歐元/kg·N。Anammox工藝因其經濟性、可持續性、低運行費用和佔地小等優點，被認為是目前最經濟、最可持續發展的生物脫氮工藝之一。
厭氧氨氧化（Anammox）工藝的工程化應用在多個領域取得進展。在市政城市污水方面，Anammox工藝已應用於主流和側流污水處理。主流Anammox工程實例包括奧地利Strass污水處理廠和新加坡樟宜污水處理廠，分別在低溫和高水溫條件下實現穩定運行。側流工程如荷蘭鹿特丹Dokhaven污水處理廠和瑞典馬爾默Sjölunda污水處理廠，利用其獨特的水質特點實現高效脫氮。而北京高碑店、北京小紅門等污水處理廠則採用Anammox技術處理污泥消化液，實現高氨氮廢水的高效脫氮。
工業廢水處理領域，Anammox工藝在焦化、發酵、制葯、製革、半導體、食品加工等行業應用成功。例如，內蒙古金煤化工廢水處理項目和荷蘭半導體工廠通過Anammox工藝處理焦化廢水和半導體晶元廢水，分別實現低成本、高效脫氮。在發酵廢水處理方面，Anammox工藝在通遼市梅花生物科技有限公司、山東省濱州市安琪酵母公司和河北玉峰實業集團的高氨氮工業廢水處理中得到應用，實現經濟高效的脫氮效果。
養殖廢水處理方面，Anammox工藝成為處理集約化規模養殖廢水的備選方法。旬方飛等在ASBR中成功啟動厭氧氨氧化過程，處理養豬場廢水，實現高總氮去除率。瀏陽市萬豐中型養豬場和長沙縣鑫廣安路口豬場採用改良「AO+Anammox+BAF」工藝，實現污水處理效率高、運行成本低。
厭氧氨氧化（Anammox）工藝的工程化應用在不同領域的進展展示了其在污水處理中的巨大潛力。未來，通過解決低溫啟動、快速增殖、抑制因素控制等關鍵問題，Anammox工藝有望在實現污水處理的低能耗和高效脫氮方面發揮更重要作用。
『陸』 如何處理半導體(LED)廢水
隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。