㈠ 在哪些行業可以用到超純水設備
在哪些行業可以復用到超純水制設備?
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製
集成電路生產中高純水清洗矽片
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
高品質顯像管、螢光粉生產
晶元材料生產、加工、清洗
超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
實驗室和中試車間
汽車、家電、建材產品表面塗裝等其它要求的表面處理用純水
光電產品、其他高科技精微產品
電鍍(鍍金、鍍銀、塑料電鍍、鍍鉻、鍍鋅等)用水
玻璃鍍膜用高純水
超聲波清洗用純水，電泳用純水
㈡ 純化水系統回水循環是多少
GMP要求純水系統的管道回水流速要大於1米/秒。
高純水，一般是指陽離子濃度小於0.02ppb的純水。
反滲透水一般是指反滲透裝置的出水，一般電導率從0.5us/cm到50us/cm@25℃左右。
去離子水一般是經過反滲透或樹脂交換，去除水中陰陽離子後的水，水質一般沒有加以區分，可以是高純水，也可以是反滲透產水。
一般根據行業要求，同樣是高純水，對水質細分，水質要求還是有差異的。例如：基因工程，電子工程，醫葯，化工等水質側重點有很大差異。同樣是電子，加工材料的特性對水質要求也完全不同，例如，硅材料，有些需求對純水硅含量的要求可能沒有那麼高，有些工藝過程，對水中硅含量的要求非常高。
㈣ 如何去除反滲透純水設備的硅酸鹽
硅在原水中以晶體顆粒和膠體形態存在,並且硅的存在形式與水的pH值有關.當給水版pH8時,硅酸會權轉化成硅酸根離子,它可與高價陽離子,如鈣、鎂、鐵、鋁等,形成不溶的硅酸鹽,在反滲透後段析出沉積而污堵.
反滲透膜中的硅酸鹽的清除方法:①0.4%二氯化銨清洗;②0.1%氫氟酸+0.4%Hcl清洗
同時水處理設備使用廠家應該控制控制二氧化硅濃度以保障反滲透設備系統的運行安全。因為，當PH小於9時，二氧化硅在水中的溶解度為125mg/l，隨溫度的升高而升高。所以控制二氧化硅濃度小於100mg/l，當進水中濃度小於20mg/l時不會發生結垢。
㈤ 半導體純水為什麼對硅含量有要求
1)
本徵半導體是一種完全純凈的、結構完整的半導體晶體。絕對零度時價帶被價版電子填滿，權導帶是空的。
2)
隨著溫度的升高，本徵載流子濃度迅速地增加，在本徵時器件不能穩定工作。而對於摻雜半導體，室溫附近載流子主要來源於雜質電離，在雜質全部電離的情況下，載流子濃度一定，器件就能穩定工作。所以，製造半導體器件一般都會用含有何當雜志的半導體材料，而且每一種半導體材料製成的器件都有一定的極限工作溫度，超過這一溫度後，器件就會失效。
3)
雜質在元素半導體
Si和Ge中的作用：是半導體Si\Ge的導電性能發生顯著的改變。
復制別人的
呵呵
還是希望能幫助你