鍋爐除垢的離子方程式

⑴ 用碳酸鈉溶液浸泡鍋爐水垢離子方程式問題

鍋爐水垢的主要成分為caco3、caso4、mg(oh)2，在處理水垢時，通常先加入飽和na2co3溶液浸泡，
caso4
會轉變版成更權難溶的caco3
所以
caso4
+
na2co3===caco3
+
na2so4

⑵ 家用鍋爐如何清洗水垢

1．小蘇打可以除去水垢：

在鋁水壺里燒開水時，加入1湯匙小蘇打，煮沸幾分鍾，去除沸水回。

2．離子交換除垢答法：

用特殊的陽離子交換樹脂用鈉離子代替水中的鈣、鎂離子。由於鈉鹽的高溶解度，避免了因溫升而結垢。

3．除垢清潔劑去除垢垢：

除垢劑主要由羥基丙酸組成，原料安全、無毒、環保。使用方便，效果好。用量正確，使用說明詳細，適合家庭使用。

(2)鍋爐除垢的離子方程式擴展閱讀：

注意事項：

在高溫下，含有微溶性水的硫酸鈣由於水的蒸發而析出，水中的碳酸鹽與鈣鎂等離子體結合，產生水不溶性碳酸鈣和碳酸鎂，即水鹼。隨著水的蒸發濃縮，水、鹼含量逐漸增加，達到飽和，形成水垢。

按化學成分分類，可分為碳酸鹽垢、硫酸鹽垢、硅酸鹽垢和混合垢。碳酸鹽垢的主要成分為碳酸鈣和碳酸鎂。硫酸鹽水垢和硅酸鹽水垢的主要成分是硫酸鈣和硅酸鹽化合物。混合標度主要是上述三種標度的混合。

⑶ 鍋爐水垢中含有的caso4去除方法及原理

1.硫酸鈣屬於微溶物質,而碳酸鈣屬於難容物質,溶解度相對較小,所以根據離子反應的理論是可版以生成更難溶的權物質的
2.Ca2+ + CO3 2- ===CaCO3
CaCO3 + 2H+ ====H2O + Ca2+ + CO2

⑷ 化學除鍋爐水垢配方

水垢的主要成份是CaCO3，一般通過與醋酸（CH3COOH）反應可以達到目的，就是酸性不能回太強，太強了會腐答蝕鍋爐，不能太弱，太弱了達不到除垢效果。
CaCO3+CH3COOH---->Ca(CH3COO)2+H2O+CO2.
Ca(CH3COO)2溶於水，這樣就達到除垢目的。
如果說實在多的話，可以用很稀的HCL來除垢。但這個對鍋爐是有一定的損傷的。

⑸ 鍋爐水垢，通常先加入飽和碳酸鈉溶液後，水溝成分發生的化學反應方程式

鍋爐水垢的主來要成分為源CaCO3、CaSO4、Mg(OH)2，在處理水垢時，通常先加入飽和Na2CO3溶液浸泡， CaSO4 會轉變成更難溶的CaCO3
所以 CaSO4 + Na2CO3===CaCO3 + Na2SO4

⑹ 電站鍋爐的水處理

第一章 工業鍋爐用水的基礎知識
第一節 工業鍋爐用水及鍋爐水循環
一、鍋爐用水名稱
二、天然水中的雜質
三、鍋爐水循環
第二節 水質不良對鍋爐的危害
一、水垢
二、腐蝕
三、汽水共騰
第三節 工業鍋爐水處理工作的任務
一、汽水監督
二、鍋爐用水處理
三、鍋爐腐蝕的防護
四、鍋爐的化學清洗
第四節 工業鍋爐用水所涉及的量的概念
一、摩爾
二、等一價基本單元物質的量規則
第五節 工業鍋爐用水所涉及的溶液的概念
一、溶液概念
二、溶液的濃度及其表示法
第六節 工業鍋爐常用的水質指標
一、水質指標和水質標准
二、給水和鍋水監測的指標及意義
第七節 水質指標間的關系及工業鍋爐水質標准
一、硬度與鹼度的關系
二、鹼度與相對鹼度的關系
三、鹼度與pH值的關系
四、溶解固形物與氯化物間的關系
五、工業鍋爐水質標准
第二章 鍋爐水質分析基本知識
第一節 工業鍋爐水處理所涉及的化學基礎知識
一、化學反應速度和化學平衡
二、強電解質與弱電解質
三、弱電解質的電離平衡
四、水的電離和pH值
五、同離子效應和緩沖溶液
六、鹽類的水解
七、沉澱物的溶解平衡
八、離子反應方程式
九、氧化還原反應及原電池
第二節 水質分析的基本知識
一、水樣的採集
二、化學試劑的性質及等級標志
三、標准溶液的配製及滴定度
四、分析數據處理
五、水質分析方法簡介
第三節 重量分析法
一、重量分析法介紹
二、重量分析法的基本操作
第四節 容量分析法
一、容量分析法介紹
二、容量分析法的基本操作
三、容量分析法中法定計量單位的應用
第三章 工業鍋爐用水的預處理
第一節 地表水的預處理
一、混凝
二、沉澱和澄清
三、過濾
第二節 地下水的預處理
一、無鐵地下水的預處理
二、含鐵地下水的預處理
第三節 自來水的預處理
一、游離性余氯的性質
二、除氯方法
第四節 高硬度與高鹼度水的預處理
一、石灰處理法
二、石灰、純鹼處理法
第四章 離子交換樹脂及離子交換原理
第一節 離子交換樹脂的結構及性能
一、離子交換樹脂的結構
二、離子交換樹脂的分類
三、離子交換樹脂的物理性質
四、離子交換樹脂的化學性質
第二節 離子交換樹脂的使用及管理
一、離子交換樹脂的管理
二、離子交換樹脂的使用及鑒別
三、離子交換樹脂的污染和復甦
四、離子交換樹脂交換能力的調整
第三節 離子交換基本理論
一、離子交換平衡
二、離子交換速度
第四節 離子交換器的工作過程
一、離子交換器的運行過程
二、離子交換器的再生過程
三、離子交換器中樹脂的利用率
四、離子交換器計算基本公式
第五章 水的除鹽處理
第一節 水的化學除鹽
一、化學除鹽原理
二、化學除鹽系統
三、化學除鹽水質
四、除鹽系統的布置原則及水質要求
第二節 電滲析除鹽
一、電滲析除鹽原理及過程
二、離子交換膜
三、離子交換膜作用機理
四、電滲析器的構造與組裝
五、電流效率
六、極限電流密度
七、極化和沉澱
八、電滲析器適用范圍及故障排除
第三節 反滲透
一、滲透和反滲透
二、反滲透膜
三、反滲透膜脫鹽機理
四、反滲透膜組件
五、反滲透除鹽系統
第六章 鍋內加葯處理
第一節 水垢的生成及危害
一、水垢的生成過程
二、水垢的危害
第二節 鍋內加葯處理法
一、概述
二、鍋內水處理常用葯劑的種類和性質
三、鍋內水處理常用葯劑配方及其選擇
四、鍋內水處理常用葯劑用量的計算
第三節 鍋爐的排污
一、排污的目的和意義
二、排污的方式和要求
三、排污量的測定
四、排污率的計算
五、鍋水的化驗監督
六、鍋水監督的核心指標
第七章 鍋爐腐蝕及防腐蝕
第一節 金屬腐蝕類型及腐蝕速度
一、金屬腐蝕類型
二、金屬腐蝕速度
三、金屬腐蝕速度的測定方法
四、化學腐蝕
第二節 電化學腐蝕
一、原電池及電極反應
二、原電池的極化
三、去極化作用
四、電極表面積對腐蝕的影響
第三節 鍋爐運行中的腐蝕及防腐蝕
一、鍋爐腐蝕原因
二、防止酸鹼腐蝕的方法
三、給水物理除氧方法
四、給水化學除氧方法
五、給水的其他除氧方法
第四節 停用鍋爐的腐蝕及防腐蝕
一、停用鍋爐腐蝕原因
二、停用鍋爐保護方法
第八章 鍋爐化學清洗
第一節 水垢的種類及其分析方法
一、水垢的分類及組成
二、水垢的取樣及鑒定方法
三、水垢化學成分的測定
第二節 鍋爐酸洗除垢
一、酸洗除垢原理
二、酸洗過程中緩蝕劑的作用
三、酸洗工藝
第三節 鍋爐鹼洗除垢
一、鹼洗除垢原理
二、鹼洗葯劑用量
三、鹼洗工藝
附錄 鍋爐水處理作業人員考核大綱

⑺ 高中鍋爐除垢原理

鍋爐除垢的原理就是酸和碳酸鹽反應將難溶於水的碳酸鹽變成易溶於水的硫酸鹽或者是碳酸鹽。然後通過溶於廢水中清除干凈

⑻ 氫氧化鋇溶液與過量CO2反應離子方程式

氫氧化鋇溶液與過量CO₂反應

離子方程式：CO₂ + OH⁻=HCO₃⁻

氫氧化鋇溶液分子量315.47，為無色單斜晶體，相對密度2.18，溶點78℃，沸點：780℃，加熱失水變成無水氫氧化鋇。兩者都有毒。

氫氧化鋇用作分析試劑，也用於分離沉澱硫酸根和製造鋇鹽，測定空氣中的二氧化碳。葉綠素的定量。糖及動植物油的精製。鍋爐用水清潔劑。

(8)鍋爐除垢的離子方程式擴展閱讀：

Ba(OH)₂具有強鹼性，其鹼性是鹼土金屬氫氧化物中最強的，能使酚酞溶液變紅，紫色石蕊變藍。

Ba(OH)₂能從空氣中吸收二氧化碳，轉變成碳酸鋇。

Ba(OH)₂ + CO2== BaCO3↓ + H₂O

Ba(OH)₂能與酸發生中和反應，其中遇硫酸生成沉澱：Ba(OH)₂+H2SO4==BaSO4↓+2H₂O

主要用途制特種肥皂、殺蟲劑，也用於硬水軟化、甜菜糖精製、鍋爐除垢、玻璃潤滑等 ，用於有機合成和鋇鹽制備。

⑼ 向氫氧化鋇溶液中加入過量硫酸氫氨溶液的離子方程式

離子方程式：NH4（+）+HSO4（-）+Ba（2+）+2OH（-）===NH3·H2O+BaSO4↓+H2O。

反應流程：硫酸氫氨(NH4)H2SO4先和氫氧化鋇Ba(OH)2生成較溶於水的硫酸銨(NH4)2SO4，然後硫酸銨再與多餘的氫氧化鋇生成難溶於水的硫酸鋇BaSO4和氨水NH3·H2O。

(9)鍋爐除垢的離子方程式擴展閱讀

氫氧化鋇在工業、化學領域的用途：

1、用作合成酚醛樹脂的催化劑，縮聚反應易控制，製得的樹脂黏度低，固化速度快，催化劑易除去。參考用量為苯酚的1%～1.5%。

2、也用作水溶性尿素改性苯酚一甲醛膠黏劑的催化劑，固化產物為淡黃色，殘存在樹脂中的二價鋇鹽不影響介電性和化學穩定性。

3、用作分析試劑，也用於分離沉澱硫酸根和製造鋇鹽，測定空氣中的二氧化碳，葉綠素的定量。糖及動植物油的精製，鍋爐用水清潔劑，殺蟲劑，橡膠工業。

⑽ 下列解釋事實的離子方程式不正確的是（）A．用Na2CO3溶液除去鍋爐中的水垢：CO32-+CaSO4═CaCO3+SO42

A．硫酸鈣屬於微溶物、碳酸鈣屬於難溶物，所以可以用碳酸鈉除去硫酸鈣，內離子反應方程式容為CO₃^2-+CaSO₄═CaCO₃+SO₄^2-，故A正確；
B．硫化鉛的溶度積大於硫化銅，所以離子反應方程式為Cu²⁺+SO₄^2-+PbS═CuS+PbSO₄，故B正確；
C．鹼性條件下，鐵離子和鹼反應生成氫氧化鐵，所以離子方程式為Fe³⁺+3NH₃?H₂O═Fe（OH）₃↓+3NH₄⁺，故C正確；
D．用鉑電極電解氯化鎂溶液，陽極上氯離子放電、陰極上氫離子放電，同時溶液中生成氫氧根離子，氫氧根離子和鎂離子反應生成氫氧化鎂沉澱，所以離子方程式為：Mg ²⁺+2Cl^-+2H₂O