A. 如何判断离子交换的程度
如何判断离子交换的程度
前面的文章中提到过，混床也叫阴阳床，作用是阴阳离子交换，核心部件是离子交换树脂，下面给大家分析几个离子交换数字失效的原因。
树脂有时会减少，原因可能是阴阳离子交换器再生过程中反洗流量过大或布水滤网发生泄漏，造成树脂漏掉；或者上下布水器破裂造成树脂漏了。如果树脂一直在减少，那么减少到一定程度也就起不到相应的作用了。
混床的除盐系统是串联式除盐系统，如果树脂失效了，根据设备失效时阴床出水或除掉盐水的指标来确定交换容量低的交换器是一种检测办法。当设备失效时，如果系统出来的水里二氧化硅含量增加了，而电导率变化不大，就可以判断为阴床失效或混床中阴离子交换树脂失效。反之系统出水电导率增加，而二氧化硅含量变化不大的话，就是阳床或混床中阳离子交换树脂失效。
树脂失效了，水自然处理不好。所以要实时检测，如果有相应的失效症状就赶快去修复，弥补一下。
B. 混床再生处理后为什么二氧化硅超标，比进水还要大
混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐. 由于 RO 为物理除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。
C. 混床正在运行电导突然升高的原因
混床SI的监测，能体现出混床对活性二氧化硅的监测。当混床出水中二氧化硅超标时，那么说明此时混床中的阴离子早已穿透，所以此时需要结合混床产水电导来监测。
而当混床中的阳树脂量偏少或者再生时酸浓度异常或者酸纯度异常等情况，前面得运行阳床中的钠离子穿透将直接穿透混床。
所以混床硅和电导都合格的情况下钠可能会超标。正常情况下，只需要监测混床出口的活性二氧化硅和电导。手动取样分析是监测钠，只是通过测定来分析混床运行或再生时，是否存在异常。用来辅助再生和运行操作
D. 阳床对混床的影响，为什么阳床对混床的DD影响大
阴床对混床的二氧化硅影响大,是因为阴床去除硅酸根，是阴离子
电导升高检查是否混床将失效，又或者混床再生时阳树脂效果不好？
E. 混床运行两天，钠离子突然升高电导率突然升高怎么办
混床SI的监测，能体现出混床对活性二氧化硅的监测。当混床出水中二氧化硅超标时专，那么说明此时混床中的阴离子属早已穿透，所以此时需要结合混床产水电导来监测。
而当混床中的阳树脂量偏少或者再生时酸浓度异常或者酸纯度异常等情况，前面得运行阳床中的钠离子穿透将直接穿透混床。
所以混床硅和电导都合格的情况下钠可能会超标。正常情况下，只需要监测混床出口的活性二氧化硅和电导。手动取样分析是监测钠，只是通过测定来分析混床运行或再生时，是否存在异常。用来辅助再生和运行操作
F. 脱盐水混床为什么要控制SiO2和Na+的含量
阳离子交换树脂是利用H+---Na+离子（含其他阳离子，如钾、钙、镁、铜等重金属离子回）的交换，使水中所含钠答离子转成氢离子；而阴离子交换树脂是利用OH- --- CL-（或SiO3-2，含其他阴离子，如硫酸根、碳酸根、硝酸根、亚硝酸根、磷酸根等等阴离子）的离子交换，使水中所含氯离子(或硅酸根离子等)转成氢氧根离子，而氢离子与氢氧根离子结合则成为纯水。在离子交换中当电导率下降（即导电能力增强）时，说明离子交换树脂临近失效，必须采用稀氢氧化钠溶液和稀盐酸溶液进行再生，逆向置换又成为氢离子、氢氧根离子型，可以重新工作。
G. 混床更换树脂后，除盐水二氧化硅高，而未更换树脂的混床产水正常，二氧化硅高怎么处理
混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐回. 由于 RO 为物理答除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。
H. 混床和复床哪个好
复床是离子交换树脂柱式操作方式之一。即把装有阳离子交换树脂的柱与装有阴离子交换回树脂的柱先后串联起答来使用以达到同时除去电解质溶液中的阳离子与阴离子或两种以上不同物质的目的。
所谓混床，就是把一定比例的阳、阴离子交换树脂混合装填于同一交换装置中，对流体中的离子进行交换、脱除。
运行中正常的阴床出水电导小于等于10us/cm,SiO2小于等于100ug/L,超过该值说明快失效了。混床出水电导小于等于0.2，二氧化硅小于等于20。