edi出水钠高

① 为什么超纯水设备EDI的电压会不断升高，有400伏，之前只有50V左右。到底离子交换树脂出了什么问题

首先要说明的是EDI系统随着运行时间的延长，电压是会逐步升高的。一般电压超过600伏的时候，就应该停用检修维护，因为模块因高电压而发热，将树脂烧坏。

引起电压不断升高的原因：

1）如果一开始投用，短时间内就出现电压快速升高的现象，那么你首先得去检查树脂的装填量是否到位，如果装填量不够，那么就会出现空穴，会出现电压不断升高，而电流却没有的现象；

2）如果是长时间使用后出现电压不断升高，原因一般是因为电离水对树脂的再生速度与树脂交换离子释放的速度不能同步，可以理解为水电离生成的H＋与OH－没来得及再生失效态的树脂引起的。

3）国产EDI和进口EDI系统的区别就是国产设备的运行时间较短，出水指标偏低而且不够稳定。维护周期比进口设备要提前。

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EDI模块的污染主要分为硬度、金属氧化物、有机物和生物污染四种。若发现EDI模块压差增大、产水，浓水或极化水流量减小、电压增大或产水水质降低，则预示着EDI模块可能产生了污染。

产水电阻率低原因分析

1、可以分析如下运行情况：各模块的平均电流；各模块的实际电流；淡水室和浓水室的压力；流量过低；运行情况随时间变化的趋势。

2、可以分析检测仪表：电极常数；校验；温度补偿；探头接线；仪表接地；取样流经探头的流量太小而导致取样很差。

3、可以分析进水以下参数：电导率；pH；CO2；硅含量；硬度；检查反渗透设备情况；对水质作实验室分析。

产水电导率大于进水电导率原因

1、一个或多个模块电极反向：浓水室反向进入淡水室；立即停止EDI系统运，并检测原因。

2、浓水室压力大于淡水室压力。

3、电流增加，产水水质反而下降原因。

② edi压力高,不出水是怎么回事

那是你的edi堵了

③ EDI高纯水设备的工作原理

自来水中常含有钠、钙、镁、氯、硝酸盐、矽等溶解盐。这些盐是由负电离子（负离子）和正电离子（正离子）组成。反渗透可以除去其中超过99%的离子。自来水也含有微量金属，溶解的气体（如CO2）和其他必须在工业处理中去除的弱离子化的化合物（如矽和硼）。
RO反渗透出水（EDI进水）一般为60-40μ/cm（电导），根据不同需要，超纯水或去离子水一般电阻为2-18MΩμm。
交换反应在模组的纯化学室进行，在那里阴离子交换树脂用它们的氢氧根据离子（OH-）来交换溶解盐中的阴离了（如氯离子C1）。相应地，阳离子交换树脂用它们的氢离子（H+）来交换溶解盐中的阳离子（如Na+）。
在位于模组两端的阳极（+）和阴极（-）之间加一直流电场。电势就使交换到树脂上的离子沿着树脂粒的表面迁移并通过膜进入浓水室。阳极吸引负电离子（如OH-，CI-）这些离子通过阴离子膜进入相临的浓水流却被阳离子选择膜阻隔，从而留在浓水流中。阴极吸引纯水流中的阳离子（如H+，Na+）。这些离子穿过阳离子选择膜，进入相临的浓水流却被阴离子膜阴隔，从而留在浓水流中。当水流过这两种平行的室时，离子在纯水室被除去并在相临的浓水流中聚积，然后由浓水流将其从模组中带走。在纯水及浓水中离子交换树脂的使用是EDI技术和专利的关键。一个重要的现象在纯水室的离子交换树脂中发生。在电势差高的局部区域，电化学反应分解的水产生大量的H+和OH-。在混床离子交换树脂中局部H+和OH-的产生使树脂和膜不需要添加化学药品就可以持续再生。
要使EDI处于最佳工作状态、不出故障的基本要求就是对EDI进水要求进行适当的预处理。进水中的杂质对去离子模组有很大影响。并可能导致缩短模组的寿命。

④ 您好！水处理：混床出水进EDI和EDI出水进混床，这两种接法有没有什么区别呢谢谢！！

一、混床与EDI的性能对比：

1、EDI与混床运行对比

混床

混床在有效的交换周期内，出水水质稳定，其电阻率可达14MΩ，一旦到达失效终点，则电导率会急剧上升，出水水质也随之不稳定。由于其交换周期受操作工的操作水平、再生剂质量、预处理水质以及树脂本身的质量等因素的影响，故存在有效周期时间长短不确定的因素。

所以，在反渗透＋混床的系统中至少存在两个混床，一用一备，以减小混床突然失效带来的风险。

EDI

又称连续电除盐（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization），是将两种已经成熟的水净化技术－－电渗析和离子交换相结合，溶解的盐在低能耗的条件下被去除，在运行过程中不需要化学再生，并且其出水电阻率较混床出水还要高，可达10-18.2MΩ.CM，满足国家电子级水I级标准。

EDI对一级反渗透出水电导率没有太高的要求，进水电导率在4-30us∕cm其都能够合格产水。可能需增加软化装置，去除水中的钙、镁离子。

若电导率较高时只需调节运行电流的大小和加药量（氯化钠）的大小。

属于环保型技术，离子交换树脂不需酸、碱化学再生，节约大量酸、碱和清洗用水，大大降低了劳动强度。更重要的是无废酸、废碱液排放，属于非化学式的水处理系统，它无需酸、碱的贮存、处理及无废水的排放。

2、EDI与混床操作对比

混床

混床再生时间比较长，再生中需耗用大量的RO水将混床冲洗合格。混床的设备操作在纯化水系统中是比较复杂的，从一开始的配酸、碱到最后的再生结束最少需经过两个班、多人的配合，劳动强度较大，同时由于混床的交换有效周期的缩短带来了混床的频繁再生，进一步加大了再生时的劳动强度。

混床再生时操作工需与酸、碱进行接触，是一种危险性的操作，而且再生时虽然操作工穿戴有劳动保护用品，但仍使操作工的人身安全存在一定危险。

混床再生后的使用有效期与操作工的经验、工作责任心及再生用酸碱的质量有很大的关系，由于其操作大部分靠经验操作，难免会出现混床再生后在备用期内就失效，不能使用的事情。这样就有可能会影响正常生产。

EDI

EDI是由几个每小时产水量相同的模块组成，根据实际纯水的使用量开启或停止EDI模块，手动操作相对频繁，但操作比较简单，只需开启EDI进水阀门、极水阀门和浓水阀门，以及打开电源同时根据出水水质调节加药量（氯化钠）、电解电压和电流的大小即可，对操作工的责任心要求较高。

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EDI相对与混床具有如下的优势：

1、无需再生化学品的再生；

2、不需要中和池及中和的酸碱；

3、地面和高空作业能够极大地减少；

4、所有的水处理系统操作都能够在控制室内完成– 无需前往现场；

5、减小了EHS风险；

6、连续工作，不是间歇操作，长时间稳定的出水水质；没有废弃树脂污染排放的风险。

⑤ edi出水硬度高是什么原因

EDI出水硬度高，说来明前级装置出自现了问题，EDI进水水质要求硬度≤2ppm或者更低。一般情况下，前端会通过软化或者在反渗透之前投加阻垢剂，反渗透系统出现问题的可能性较大，脱盐水系统环环相扣，该预处理来负担的，不应该让反渗透来负担，该反渗透负担的，同样不应该让EDI来完成去除硬度的任务，任何一个环节出现问题，都会导致系统出现问题。

⑥ 西门子EDI模块产水出水只有8兆欧姆，，电流和电压都很高，，哪个高手帮忙解决一下

EDI模块的出水电阻率低可能原因：

1、设备本身线路问题(电源线松动等)

2、运行电压变化

3、水量高于模块最大进水量/低于模块最小进水量

4、进水水质不符合要求

5、模块堵塞或者结垢

⑦ 反渗透,混床,EDI进出水电导率一般是多少有谁知道

以原水电导1000，单级反渗透一般产水在10-50之间，双级反渗透一般在2-10之间，EDI产水电阻一般在12-16mΩ/cm,一般混床产水8-12MΩ/cm，抛光混床产水在16-18.25mΩ/cm.也不一定准，主要看原水水质和配件质量。

⑧ EDI出水以后是否对ph值有影响

这个可能应该从EDI的工作原理方面去考虑
再生时水电解成氢根和氢氧根
然后再生装填的树脂使其回复去除效果
在运行过程中通过阳膜和阴膜对离子的吸纳
最终实现离子的去除
也许就是在这个过程中pH也会发生这样的变化

⑨ EDI出水电导率升高的原因有哪些 追加分数

也要考虑EDI的工作电压、电流是否正常；若添加饱和食盐水，其浓度和加药泵是否正常

⑩ EDI产水金属离子超标咋解决

EDI是通过用氢离子或氢氧根离子将RO水中的残余盐类交换并将它们送至浓水流中而除去，EDI是将电渗析和离子交换相互结合在一起的除盐新工艺 1，EDI工作原理答：交换反应在膜块的纯化室进行，在那里阴离子交换树脂用它们的氢氧根离子(OH-)来交换溶解盐中的阴离子(如氯离子Cl-)。相应地，阳离子交换树脂用它们的氢离子(H+)来交换溶解盐中的阳离子(如Na+)。在位于膜块两端的阳极(+)和阴极(-)之间加一直流电场。电势就使交换到树脂上的离子沿着树脂粒的表面迁移并通过膜进入浓水室。阳极吸引负电离子(如Cl-，OH-)，这些离子通过阴离子选择膜进入相临的浓水流却被阳离子选择膜阻隔，从而留在浓水流中。阴极吸引浓水流中的阳离子(如Na+，H+)。这些离子通过阳离子选择膜进入相临的浓水流却被阴离子选择膜阻隔，从而留在浓水流中。当水流过这两种平行的室时，离子在纯水室被除去并在相临的浓水流中聚集，然后由浓水流将其从膜块中带走。 在纯水和浓水中离子交换树脂的使用是EDI技术的关键。一个重要的现象在纯水室的离子交换树脂中发生。在电势差高的局部区域，电化学反应分解的水产生大量的H和OH。在混床自理交换树脂中局部H和OH的产生使树脂和膜不需要添加化学药品就可以持续再生。 2，EDI的概述答：市政自来水→原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→保安过滤器→一级增压泵→一级RO反渗透→中间水箱→二级增压泵→二级RO反渗透→纯水箱→纯水泵→0.45μ精密过滤器→TOC脱除器→EDI装置→电阻率仪→抛光混床→0.22μ精密过滤器→电阻率仪→清洗机