❶ 用椭偏仪测薄膜的厚度和折射率时，对角度有何要求
会。纳米级的薄膜会有纳米尺寸效应，导致材料性质大变。折射率会变，我看过一篇文献，讲的大致内容是椭偏仪测金属薄膜厚度（<50纳米），虽然能测，但是测不准，因为纳米级金属材料折射率随尺寸影响，你可以去查查。至于消光系数，本人是控制专业的，隔行如隔山，就不知道了!
❷ 用椭偏仪测薄膜的的厚度和折射率时，对薄膜有何要求
在现代科学技术中，薄膜有着广泛的应用。因此测量薄膜的技术也有了很大的发展，椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一。
❸ 用反射型椭偏仪测量薄膜厚度时，对样品的制备有什么要求
样品应为均匀透明各向同性的薄膜系统，
反射率较高一点，以便于增强反射光的强度，
而且薄厚均匀透明，从而利于实验的进行和精度要求。
❹ 椭偏仪测量膜厚时为什么不采用多点测量
是由他们的一些多点车辆，这样是能测量的，更加准确，更加精致
❺ 椭偏仪可以测量所有半导体薄膜厚度吗
可以，单晶倾斜大概四十五度角测量，多晶放平测就可以。
❻ 椭偏仪和反射式膜厚测量仪在测量纳米薄膜时有何差别
1.二者原理不同:
椭偏仪：通过测量光波经样品反射后偏振态的变化来获得样品的信，可测量膜层厚度d、折射率n和消光系数k，或者直接测量固相材料的折射率n和消光系数k。
反射式膜厚测量仪：一般是利用白光干涉的原理，通过测量光波经样品反射后幅值（或者说光强）的变化来获得膜层的厚度d、折射率n和消光系数k信息。
2.二者适用范围不同：
椭偏仪适合：厚度为0.1nm到几微米的薄膜测量，其厚度测量精度可达到原子层量级，即0.1nm以下。
反射式膜厚测量仪适合：厚度为50纳米到几十微米的稍后些的薄膜，其厚度测量精度为1nm以上。
❼ 椭偏仪检测的是光学厚度吗
激光椭偏仪可测量纳米薄膜的层构特性（如，膜层厚度）和物理特性（如，在激光波长下的折射率n、消光系数k，或介电函数）。激光椭偏仪最常用的场合是测量单层膜样品，可同时测量两个未知参数，如折射率n和膜厚th。也可测量多膜层中的两个未知参数。 北京量拓科技有限公司
❽ 用椭偏仪测薄膜厚度和折射率是对薄膜有何要求
椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率
在现代科学技术中，薄膜有着广泛的应用。因此测量薄膜的技术也有了很大的发展，椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一。椭偏法测量具有如下特点：
能测量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2个数量级。
是一种无损测量，不必特别制备样品，也不损坏样品，比其它精密方法：如称重法、定量化学分析法简便。
可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数。因此可以作为分析工具使用。
对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感。是研究表面物理的一种方法
椭偏仪的光路图
椭偏仪的基本原理
入射光的P分量
入射光的S分量
反射光的P分量和S分量的比值—椭圆参量
r=RP/Rs=tanyexp(iD)=f(n1, n2, n3,f1，d，l）