真空去離子和鍍膜試驗

① 真空鍍膜清洗最佳方法

真空鍍膜清洗的最佳方法需根據設備部件、污染類型及工藝要求綜合選擇，以下是目前行業推薦的幾種高效清洗方案：

一、化學清洗法

• 氫氟酸溶液浸泡
  適用於襯板等耐酸部件，通過調整氫氟酸與水的比例控制浸泡時間（通常濃度不超過10%），可有效去除鍍層殘留而不損傷基材。清洗後需徹底擦乾水分並烘乾，避免水汽影響真空度。

• 化學葯劑噴淋與浸泡

  • 噴淋：針對大面積腔體表面，使用專用化學溶劑（如丙酮或酒精）高壓噴淋，去除鬆散污染物。

  • 超聲波輔助浸泡：對精密工件或小部件，結合超聲波震盪（頻率建議20-40kHz）增強去污效果，尤其適合縫隙中的頑固沉積物。

二、物理清洗法

• 機械打磨
  對工作室襯板、工作架等非拆卸部件，採用砂紙（400-600目）打磨去除厚膜層，需注意避免產生金屬粉塵污染。

• 乾冰或等離子清洗
  高精度場景下，可採用乾冰噴射或低壓等離子體清洗，無化學殘留且能處理微米級縫隙，適合隔板等復雜結構的清潔。

三、標准化清洗流程

• 預處理：移除大塊殘留物，用無塵布擦拭表面。

• 深度清洗：按部件材質選擇化學或物理方法，襯板建議酸洗後超聲漂洗，腔體採用分步噴淋。

• 後處理：

  • 漂洗：去離子水沖洗3次以上，確保無溶劑殘留。
  • 烘乾：80-120℃熱風乾燥2小時，或真空烘箱低溫除濕。

四、關鍵注意事項

• 安全防護：氫氟酸操作需穿戴防酸手套及面罩，廢液需中和處理。

• 密封檢查：清洗後裝配需測試隔板氣密性，防止漏氣（參考氦質譜檢漏標准）。

• 周期管理：連續生產設備建議每周清洗襯板，每月全面維護腔體。

五、工藝驗證標准

清洗效果應滿足：

• 真空抽速恢復至新機的90%以上；

• 鍍膜工件表面無斑點、氣泡（白燈檢測合格）；

• 系統極限真空度達到5×10⁻⁵ Pa以下。

以上方法綜合了化學高效性與物理安全性，實際應用中需根據設備型號調整參數，建議優先參考設備手冊並做小樣測試。

② 光學鍍膜「真空濺射」和「離子鍍」工作方法

在光學鍍膜中，真空濺射和離子鍍是兩種常用的物理氣相沉積（PVD）技術，它們都是在真空環境下工作，通過將目標材料的原子或分子轉移到基板上，從而形成薄膜。
**真空濺射**：
真空濺射主要是利用離子束（通常是惰性氣體，如氬）轟擊目標材料，使得目標材料的原子被余槐"濺射"出來，這些原子會穿過真空室並沉積在基板（如光學元件）上，形成薄膜。真空濺射可以制備出具有高密度、良好附著力和均勻厚度的薄膜，因此在光學、半導體和其他工業領域得到了廣泛的應用。
**離子鍍**：
離廳喚子鍍則是一種更復雜的物理氣相沉積技術。在離子鍍中，目標材料被加熱到蒸發，然後在高電壓的作用下，蒸發出的原子豎伏友或分子被電離為離子。這些離子被加速並引導到基板上，形成薄膜。離子鍍可以制備出具有高密度、低應力和高抗蝕性的薄膜，特別適用於制備高反射鏡和防反射膜等高性能光學膜。
需要注意的是，這兩種技術都需要精密的控制和優化，包括控制真空環境、離子源的能量、目標材料的溫度等，以達到所需的薄膜性能。

③ 真空鍍膜和光學鍍膜有什麼區別

一、概念的區別

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

二、原理的區別

1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固並沉積的方法。

2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是藉助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，塗鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。

隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬頻增透膜的發展。為各種應用需要，利用高反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜後，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

三、方法和材料的區別

1、真空鍍膜的方法材料：

(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。

(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。

2、光學鍍膜方法材料

(1)氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。

(2)二氧化硅：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

(3)氧化鋯：白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

④ 有人知道電鍍UV水鍍和真空鍍有什麼區別

電鍍工藝是常見的表面處理方法，電鍍UV水鍍和真空鍍之間的區別如下：
1.水電鍍：又稱濕法電鍍，顧名思義與水及水溶液有關，電化學反應原理，是化學過程。由於大量使用水/水溶液，污染大。
2.UV鍍膜：使用UV塗料，在真空或超低壓狀態，利用電場的作用，使UV塗料遷移到被塗覆的零件表面，這個過程是物理過程。被塗覆UV塗料的零件，在紫外線（UV）的作用下，固化。該項技術廣 泛用於小電器、電子產品、化妝品包裝盒等外觀塗覆。
3.真空電鍍：實際上不能稱為電鍍，它通常是物理變化，或是化學變化，但不是電化學過程。真空電鍍分類較多，應用比較廣 泛的是電場遷移技術。UV真空電鍍，屬於真空電鍍范疇。
電鍍知識延伸之電鍍除油方法：
在常見的電鍍基材中，ABS、PC或者ABS+PC、TPU等材質都是通過注塑成型，如果在脫模階段使用了脫模劑的話，那麼會導致脫模劑油污在注塑成型素材上的沾附，導致後續的真空電鍍工藝出現例如油點、油斑、火山口等不良現象，因此需要進行前處理除油處理。
炅.盛真空電鍍油污處理劑的作用就是通過噴塗的方式，覆蓋於沾有油污的素材上，經過遮蓋力的作用遮蓋油污以及改善面漆的流平效果等，達到解決電鍍時出現的油點以及油斑等不良缺陷。其使用方法也非常的簡單，有別於白電油浸泡以及除油粉清洗的方式，通過噴塗在底材上，進行有效的遮蓋，就可以解決油污問題，同時在環境保護方面，其無鹵無鄰苯無重金屬的特性，也更加適應環境需求。