粗SiHCl3蒸餾提純反應

『壹』 工業上用「三氯氫硅還原法」，提純粗硅的工藝流程如圖所示： （1）三氯氫硅的制備原理：Si（s）+3HCl（g

『貳』 粗硅提純要什麼條件

首先，方法不同，條件不同。
方法一：（1）SiO2+2C=(條件:3270K)Si+2CO
(2)Si(粗)+2Cl2(g)==(720~770k)==SiCl4(l)
(3) SiCl4+2H2==電爐==Si(純)+4HCl
方法二：(1)Si(粗)+3HCl(g)==可逆(520~570k)==SiHCl3(l)+H2(g)
(2)精餾方法，提純SiHCl3
(3)提純後再用氫氣還原。H2+SiHCl3=(1084℃)==Si(純)+3HCl
方法三：(4)Na2SiF6+4Na====6NaF+Si 摘自冀師大版(無機.下)P510
方法優缺點：方法一需要高溫，耗能大，一般工業上常用
方法二反應溫度較低，耗能少，但生成的三氯硅甲烷易自燃，實驗室常用
方法三較廉價
註：方法二制備過程中必須無水無氧。提純後再用氫氣還原若混入氧氣，硅被氧化得不到高純硅且還會引起爆炸。

『叄』 粗硅提純常見方法之一是先將粗硅與HCl製得SiHCl3，經提純後再用H2還原：SiHCl3（g）+H2（g）Si（s）+3HC

①兩種反應物，增加其中一種，另一種物質的轉化率增大，自身的轉化率反而減小，橫坐標表示氫氣的量增多，所以縱坐標表示的轉化率提高應為SiHCl₃，
故答案為：SiHCl₃；
②當

『肆』 sihcl3沸點低

蒸餾不恰當.分餾正確.分餾甚至可以分開差別幾攝氏度的化合物

『伍』 粗溴苯如何提純

水洗（初步洗去溴和其他雜質）——用10%的氫氧化納溶液洗滌（洗去溴）——水洗（洗去氫專氧化鈉）——用干屬燥劑乾燥（除去水）——蒸餾（使溴苯和苯、乾燥劑分離）
因為苯和溴要在催化劑如Fe3+作用下才反應的。

『陸』 粗硅與氯化氫氣體反應完全後，經冷凝得到SiHCl3(沸點33度)中含有少量SiCl4(沸點57度)

不是因為沸點都低，是因為沸點有梯度差別

『柒』 提純SiHCL3的方法

它是利用氯氣和氫氣合成HCl,HCl和工業硅粉在一定的溫度下合成SiHCl3,然後對SiHCl3進行分離精餾提純,提純後的SiHCl3在氫還原爐內進行化學氣相沉積反應得到高純多晶硅料。

『捌』 工業上用「三氯氫硅還原法」，提純粗硅的工藝流程如圖所示：（1）三氯氫硅的制備原理：Si（s）+3HCl（g）

（1）用催化劑、增大壓強或HCl濃度，加快SiHCl₃的生成速率而又不降低硅的轉化率提高；
故答案為：催化劑、增大壓強或HCl濃度；
（2）①SiHCl₃（l）和SiCl₄（l）是互溶的液體，採用蒸餾的方法分離；
故答案為：蒸餾；
②Si（s）+3HCl（g）?SiHCl₃（g）+H₂（g）△H=-210kJ/mol①
Si（s）+4HCl（g）?SiCl₄（g）+2H₂（g）△H=-241kJ/mol②
根據蓋斯定律則②-①得：SiHCl₃（g）+HCl（g）?SiCl₄（g）+H₂（g）△H=-31kJ/mol，故答案為：-31；
③由圖示可知反應物有粗硅、HCl、H₂；反應過程中生成物有：SiHCl₃、H₂、SiCl₄、HCl，所以在反應物中和生成物中都有的物質是HCl、H₂，所以流程中可循環使用的物質是HCl、H₂，故答案為：氯化氫、氫氣．

『玖』 粗硅的提純如何反應

【氯化氫法】能耗多，原料便宜重復利用。
Si+3HCl=加熱=SiHCl3+H2
SiHCl3+H2=高溫=Si+3HCl
【氯化再氫氣還原】原料貴，反應較容易。
Si+2Cl2=加熱=SiCl4
SiCl4+2H2=加熱=Si+4HCl
希望對你有幫助O(∩_∩)O

『拾』 提純SiHCl3的主要化學操作名稱是 同標題

SiHCl3沸點31.8℃ 因此用蒸餾的方法可以提純SiHCl3