plasma等离子去光胶机

『壹』 plasma清洗机等离子处理只是前处理工艺吗

plasma清洗机等离子前后处理工艺要根据处理对象的制程，看等离子工艺加在制程的哪一段。比如等离子清洗技术在晶圆芯片封装工艺中的铜引线框架，引线键合，倒装芯片封装，晶圆光刻胶去除等工序中都需要用到plasma清洗机处理

『贰』 等离子清洗机的介绍

等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

『叁』 PLASMA-PREEN 等离子清洗/蚀刻系统有哪几款型号呢最好都附有图片，急需，谢谢！

1. PLASMA-PREEN I等离子体清洗机
反应舱： 圆筒形
反应舱口径： 4.1”
反应舱深： 6.0”
反应舱材质： 派热克斯玻璃
(可选配石英玻璃)

由于等离子化过程会伴随着热量的释放，当清洗的部件对热比较敏感时，就必须有冷却系统，PLASMA-PREEN Ⅱ就是因此而设计的。对于不同尺寸，共有两种型号可以选择：862和973。
2. PLASMA-PREEN Ⅱ 862等离子体清洗机

反应舱： 方形
尺寸： 8”(L) x 6”(W) x 2”(H)
冷却面： 8” x 6”
反应舱材质： 派热克斯玻璃 & 铝材
外部尺寸： 28”(W) x 12”(H) x 13”(D)
装运重量： 65 pounds(约29.5公斤)

3. PLASMA-PREEN Ⅱ 973等离子体清洗机

反应舱： 方形
尺寸： 9”(L) x 7”(W) x 3”(H)
冷却面： 9” x 7”
反应舱材质： 派热克斯玻璃 & 铝材
外部尺寸： 28”(W) x 12”(H) x 13”(D)
装运重量： 80 pounds(约38.5公斤)
更详细的资料可在迈可诺技术有限公司查询

『肆』 Axic, PlasmaStar 200射频去胶机对样品表面有轰击吗有损失吗

摘要 您好，据查，这个仪器主要是通过在反应腔内布置的电极之间产生辉光放电现象，使得工艺气体被电离成为带电等离子体，促进光刻胶与工艺气体的反应生成可挥发物质，从而达到干法去除光刻胶的目的。

『伍』 plasma处理机 plasma处理机

plasma处理机广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。 plasma处理机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择多种射频电源发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。主要应用于LCD、LED、连接器、键合前等大规模生产领域。 所有元器件及核心部件采用进口，保证了整机的稳定性和使用寿命 深圳奥坤鑫科技有限公司专业从事plasma处理机的生产与销售。在福永，可以去了解一下

『陆』 等离子清洗机应用在PCB上的作用是什么

等离子清洗机也就是plasma，其作用就是除胶渣。一般在HDI，软板上应用比较广泛。

『柒』 等离子清洗机是干什么用的它的功能和作用是什么

等离子清洗是等离子表面改性的其中较为常见的一种方式。达因特等离子清洗的作用主要是：

（1）对材料表面的刻蚀作用--物理作用

等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

（2）激活键能，交联作用

等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。

（3）形成新的官能团--化学作用

如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。

『捌』 plasma是什么加工方式

这个就是等离子的英文字母。上海轩仪知道的一般就是等离子表面处理机。具体是什么加工方式，您可以从等离子表面处理机的原理来判断下。
简单来讲就是依靠电能，会产生高压、高频的能量。这些能量在喷枪钢管中被激活和被控制的辉光放电中产生低温等离子体，借助压缩空气将等离子体喷向处理表面，使处理表面产生相应的物理变化和化学变化。这些过程的运行，有利于产品的粘合、喷涂、印刷及密封。
等离子处理机是一种在线式处理，它拥有增加表面张力，精细清洁，去除静电，活化表面等功能。除了这个众所周知的优点，可在线操作，固定在生产流水线上，产品流过时直接用喷出的等离子在产品上做一个表面处理。除此之外，在纺织行业、数码行业、汽车制造等各种行业均有应用。

『玖』 谁能说说plasma离子清洗机的工作原理

等离子清洗机 工作原理分析：
电浆与材料表面可产生的反应主要有两种，一种是靠自由基来做化学反应，另一种则是靠等离子作物理反应，以下将作更详细的说明。
（1）化学反应（Chemical reaction）
在化学反应里常用的气体有氢气（H2）、氧气（O2）、甲烷（CF4）等，这些气体在电浆内反应成高活性的自由基，其方程式为：
这些自由基会进一步与材料表面作反应。
其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应，在压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须控制较高的压力来近进行反应。
（2）物理反应（Physical reaction）
主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有得能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有的作撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较的压力下来进行反应，这样清洗效果较好，为了进一步说明各种设备清洗的效果。

等离子体清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。

2.等离子清洗机的清洗分类：

2.1 反应类型分类
等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。
以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性；缺点就是对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较，化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。
典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。

2.2 激发频率分类
等离子态的密度和激发频率有如下关系：
nc=1.2425×108v2
其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。
常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。
不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响最大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗

『拾』 plasma清洗的工作原理，比如纯氧气体清洗水印的！

等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子表面处理仪（plasma surface treatment）,是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。 等离子清洗机(plasma cleaner)
1.等离子体基础知识： 等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 2.等离子清洗原理：[1] 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性 .....