① 定期清洗锅炉内的水垢．水垢的主要成分之一是氢氧化镁，请写出稀盐酸与氢氧化镁反应的化学方程式______
氢氧化镁与稀盐酸反应生成氯化镁和水，故填：Mg（OH）2+2HCl=MgCl2+2H2O．
② 用醋酸除水垢的离子方程式
水垢的主要成分为Mg(OH)2和CaCO3
醋酸能与水垢的主要成分发生反应，生成可溶性醋酸盐的缘故版。有关化学方程式为权：
Mg(OH)2＋2HAc＝Mg(Ac)2＋2H2O
CaCO3＋2HAc＝Ca(Ac)2＋H2O＋CO2↑
离子反应方程式为：
Mg(OH)2＋2HAc＝Mg2+ ＋ 2Ac- ＋ 2H2O
CaCO3＋2HAc＝Ca2+ ＋ 2Ac- ＋ H2O ＋CO2↑
醋酸的化学式为CH3COOH，醋酸的化学式还可简写为HAc
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③ 引起锅炉受热面结生水垢的离子是
水垢成分以盐酸钙和磷酸钙为主。
当水中含有硫酸钙、硅酸钙、硅酸镁内时，如离子浓度超过溶容度积时也会发生沉淀，沉积在设备管壁上。因此，水中二氧化硅含量不可超过150mg/L。此外水中含有氧，还会造成金属腐蚀，形成铁垢。
由于锅炉的形成不同，操作条件不同，各地水质的差异，形成的垢性质不同。锅炉水垢，尤其是高压锅炉中的垢，主要是钙镁的硫酸盐和硅酸盐、铁垢，它们在高温下形成坚硬致密的复合盐；热水锅炉中的垢多以钙镁的碳酸盐垢、铁垢为主，垢疏松。而换热器垢多为碳酸盐、硫酸盐、铁垢、硅垢及生物黏泥等，垢多孔疏松，为非水溶性钙镁碳酸盐及各种碱式铁盐。因此，锅炉酸洗除垢要比一般热水器除垢难的多，工艺复杂。
高压锅炉垢的组成是以铁、铜、镍、铝的氧化物为主；中压低压锅炉垢的组成是以碳酸盐、硅酸盐、硫酸盐、氧化铁等为主。
④ 醋酸除水垢的离子方程式
水垢一般指MgCO3，Mg(OH)2，CaCO3，醋酸是弱电解质，在离子方程式中不拆：
MgCO3+2CH3COOH=Mg2++2CH3COO-+H2O+CO2（气体版）
Mg(OH)2+2CH3COOH=Mg2++2CH3COO-+2H2O
CaCO3+2CH3COOH=Ca2++2CH3COO-+H2O+CO2(气体)
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⑤ ①长期使用的锅炉需要定期除水垢，否则会降低燃料的利用率．水垢中含有的CaSO4，可先用Na2CO3溶液处理，
①CaSO4 转化为抄CaCO3的离子方袭程式为CaSO4（s）+CO32-（aq）=CaCO3（s）+SO42-（aq），
由平衡CaSO4（s）?Ca2+（aq）+SO42-（aq）可知，加入Na2CO3溶液后，CO32-与Ca2+结合生成CaCO3沉淀Ca2+浓度减少，使CaSO4的沉淀溶解平衡向溶解方向移动，发生：CaSO4（s）+CO32-（aq）=CaCO3（s）+SO42-（aq）；
故答案为：CaSO4（s）+CO32-（aq）=CaCO3（s）+SO42-（aq）；CO32-与Ca2+生产更难溶的CaCO3沉淀，使CaSO4的沉淀溶解平衡向右移；
②Na2CO3存在两步水解，NaHCO3只有一步水解，Na2CO3的水解程度大于NaHCO3，所以等物质的量浓度的Na2CO3溶液和NaHCO3溶液，Na2CO3的PH大于NaHCO3；
故答案为：＞；相同浓度的CO32-水解程度大于HCO3-的水解程度．
⑥ 用盐酸除水垢中的碳酸钙离子方程式
碳酸钙难溶于水，在离子方程式中不拆。这个反应实质是氢离子参与反应，且HCl在水中完全电离，故写氢离子，省略氯离子。 离子方程式是: CaCO3 +2H+ → Ca2+ +CO2↑+H2O
⑦ 下列与处理方法对应的方程式不正确的是（）A．用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢：CO32-+CaSO4=CaCO3↓+SO42-
A、用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢，碳酸根离子浓度增大，和钙离子乘积达到回溶度积常数生答成碳酸钙沉淀：CO32-+CaSO4=CaCO3↓+SO42-，故A正确；
B、煤的钙基固硫是利用石灰石分解生成的氧化钙和二氧化硫反应生成亚硫酸钙生成硫酸钙，防止二氧化硫的污染．燃煤中加入石灰石可以减少SO2的排放：O2+2CaCO3+2SO2=2CO2↑+2CaSO4，故B正确；
C、氢氟酸和二氧化硅反应生成四氟化硅和水，故C正确；
D、酚羟基不能和碳酸氢钠反应，故D错误；
故选D．
⑧ 下列解释事实的离子方程式不正确的是（）A．用Na2CO3溶液除去锅炉中的水垢：CO32-+CaSO4═CaCO3+SO42
A．硫酸钙属于微溶物、碳酸钙属于难溶物，所以可以用碳酸钠除去硫酸钙，内离子反应方程式容为CO32-+CaSO4═CaCO3+SO42-，故A正确；
B．硫化铅的溶度积大于硫化铜，所以离子反应方程式为Cu2++SO42-+PbS═CuS+PbSO4，故B正确；
C．碱性条件下，铁离子和碱反应生成氢氧化铁，所以离子方程式为Fe3++3NH3?H2O═Fe（OH）3↓+3NH4+，故C正确；
D．用铂电极电解氯化镁溶液，阳极上氯离子放电、阴极上氢离子放电，同时溶液中生成氢氧根离子，氢氧根离子和镁离子反应生成氢氧化镁沉淀，所以离子方程式为：Mg 2++2Cl-+2H2O