A. 觸摸屏清洗用水採用什麼設備製取,需要達到什麼樣的水質
需要觸摸屏清洗超純水設備
觸摸屏清洗超純水設備典型工藝流程為:
1、預處理-反滲回透-純化水箱-離子交換器-紫外燈答-純水泵-用水點
2、預處理-一級反滲透-二級反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
3、預處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點
4、預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC
UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點
B. 用實驗室製取蒸餾水的裝置製取純凈水的過程中,水分子的間隔先變______,後變______
實驗室製取蒸餾水的過程:首先要對天然水加熱,使水變成水蒸氣進入到冷凝管中,這是一個汽化過程,進入冷凝管中的水蒸氣遇冷,變成小水滴,這是一個液化的過程.汽化過程中水分子之間的間隔變大,液化過程中水分子之間的間隔變小.
故填:大;小.
C. 純水制備裝置產生的廢活性炭是不是危廢
我覺得這個要看我們用來制備純水的水源,若是含重金屬的水的話,那這個活性炭就得按危廢處理。
D. 實驗室用純化水、稀硫酸、高錳酸鉀製取氨水的裝置
A、高錳酸鉀在加復熱條件下制生成錳酸鉀、二氧化錳和氧氣,屬於固體加熱型製取氣體;鋅和稀硫酸製取氫氣屬於固液常溫型製取氣體;發生裝置不同,故選項說法錯誤.
B、氧氣不易溶於水,氫氣難溶於水,均可以用排水法收集,可以使用同一種氣體收集方法,故選項說法正確.
C、高錳酸鉀製取氧氣屬於分解反應,鋅和稀硫酸製取氫氣屬於置換反應,不是同一種反應類型,故選項說法錯誤.
D、高錳酸鉀製取氧氣需要加熱,石灰石和稀鹽酸製取二氧化碳在常溫下就能進行,反應條件不同,故選項說法錯誤.
故選:B.
E. 學生實驗室制備去離子水的實驗裝置
蒸餾裝置:鐵架台、酒精燈(或者本生燈)、石棉網、蒸餾燒瓶、冷凝管、尾接管、錐形瓶。
F. 什麼是去離子水制備裝置如果要用去離子水制備裝置到哪裡去找
去離子水設備既是離子交換系統,離子交換系統是通過陰、陽離子交回換樹脂對水中的各種陰、陽離子答進行置換的一種傳統水處理工藝,陰、陽離子交換樹脂按不同比例進行搭配可組成離子交換陽床系統,離子交換陰床系統及離子交換混床系統,而混床系統又通常是用在反滲透等水處理工藝之後用來製取超純水,高純水的終端工藝,它是用來制備超純水、高純水不可替代的手段之一。其出水電導率可低於1uS/cm以下,出水電阻率達到1MΩNaN以上,根據不同的水質及使用要求,出水電阻率可控制在1~18MΩNaN之間。被廣泛應用在電子、電力超純水,化工,電鍍超純水,鍋爐補給水及醫葯用超純水等工業超純水,高純水的制備上。
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水澤環保技術員,希望能幫你!
G. 純水制備裝置產生的廢活性炭是不是
純水制備裝置產生的廢活性炭是不是
我覺得這個要看我們用來制備純水的水源,若是含重金屬的水的話,那這個活性炭就得按危廢處理.
H. 初三化學水蒸氣蒸餾製取純凈水裝置問題:如下圖
絕對不可以
下進上出可以保證冷凝管中始終充滿水,同時蒸氣流方向與水流方向相反,冷凝效果更好
希望能幫到你