半導體超純水水質要求

⑴ 什麼是超純水

它比自來水干凈一千萬倍，純凈到幾乎沒有任何雜質。這種超純水的溶解性極強，它可能會奪走人體組織里的礦物質。

⑵ 半導體廠超純水Cl含量如何控制

摘要 純水中，電阻率，微粒子，氣泡(溶解氧，溶解氮)和TOC是非常重要的指標，略微差異，可能導致元器件生產過程的產品質量和合格率的下降，所以超純水的制備技術在半導體工業的發展中是非常重要的一環。近年半導體工業，超純水的部分指標可能更加嚴格於表1中ITRS浸沒式超純水的要求。目前掌握最尖端的超純水製造工藝主要還是國外的企業為主，如日本的栗田工業和美國的英特爾公司等等。

⑶ 超純水設備的水質標准

其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
間歇式離子交換
這種操作方式是將離子交換樹脂和待處理的原水混合加以適當攪拌，基本達到交換平衡，使平衡後的水質萍蹤設計需求。此方式通常用於小型生產或實驗需要。
固定床離子交換
是一種最常用的離子交換方式，是將離子交換樹脂置於交換柱內，被處理的原水以一定流速流經樹脂床層，達到交換目的。此方式設備簡單，操作方便，實用於各種規模的生產，但是其樹脂的利用率較低，再生費用較高。 其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調節→中間水箱→二級反滲透→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。 EDI超純水設備技術的優點
EDI超純水設備被制葯行業、微電子行業、發電行業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面塗裝、電解行業、化工行業和太陽能光伏行業的應用也日趨廣泛。
EDI可代替傳統的混合離子交換技術（MB-DI）生產穩定的去離子水。EDI技術與混合離子交換技術相比有以下優點：
1.離子交換樹脂的用量少，約相當於傳統離子交換法樹脂用量的5%。
2.離子交換樹脂不需酸，鹼化學再生，節約大量酸、鹼和清洗用水，大大降低勞動強度。
3.無廢酸、廢鹼液排放，是清潔的生產技術，屬環保產品。
4.過程易實現自動控制，產水水質穩定，與RO等水處理技術相結合，能形成完善的純水、超純水生產線。
5.產水水質高，可達到國家電子級水I級標准，電阻率為15～18MΩ·cm，細菌內毒素 含量小於0.1mg/L可完全滿 足《中國葯典》《美國葯典》對葯用水的要求。
6.有優異的除弱解離物質（如二氧化碳、硅、硼、氨等）地能力，更適用於超純水的需要。
7.純水生產過程連續進行，無需像離子交換床那樣一套在用一套再生地重復設置
在國內專注EDI超純水設備的廠商並不多，匯通源環保科技生產出來的EDI超純水設備是這個行業的領先者。匯通源與國內眾多大型企業合作,制葯行業、微電子行業,化工行業等。其中客戶有深圳惠民制葯有限公司、深圳市鎧瑞麟科技有限公司、東莞市易升電池有限公司、深圳美景金屬製品有限公司、深圳艾柯森自動化設備有限公司等等.均由我們提供EDI超純水設備。我司希望在這方面的技術能得到更多客戶的認可，從而能更進一步推廣EDI技術在水處理行業發展的重要性。
EDI的工作原理
EDI模塊(膜堆)是EDI工作的核心。一個簡單的EDI膜堆主要由兩個電性相反的電極和多個模塊單元對組成，一個膜單元對由一個填滿陽離子和陰離子交換樹脂的淡水室(D-室)、一個陽膜、一個陰膜、一個濃水室(C-室)組成。EDI膜堆包含多個膜單元對。在每個膜堆的內部有兩個帶有600V電壓的電極，這是通過每個膜堆必需的電壓。正極帶正電壓，負極帶負電壓，電流在正極和負極之間通過30個膜單元。任一個淡水室都包含著陽樹脂和陰樹脂，它相當於一個8千米厚的混床。一個陽膜朝著陰極的方向把淡水室和濃水室分開，在另外一邊，陰膜也把淡水市和濃水室分開。EDI用的膜和反滲透用的膜很不相同，反滲透用的膜允許小顆粒的分子污染物和離子以及水通過，而EDI膜象離子交換樹脂一樣是用聚苯乙烯材料製作的，只允許帶適當電荷的離子通過，水基本上不能通過。樹脂通過水的分離持續的再生。
在電場中，給水中的水分子被分離成H+和OH- ，被異性電荷相吸，H+通過陽陽樹脂移向陰極的方向，OH-通過陰樹脂移向陽極的方向。這種H+和OH-的遷移再生了樹脂，陽膜允許H+通過進入濃水室，陰膜允許 OH-通過也進入濃水室，H+和OH-結合生成生產的水。濃水室中自己水的流動將帶走水中的陰陽離子。膜阻止帶相反電荷的離子的進入淡水室在水流通過淡水室的過程中，離子被樹脂去處，所以膜的有效側(淡水室)就會產生純水。
運行流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透主機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

⑷ 各行業使用純水的標準是什麼

電導率≤10μS/CM 動物飲用純水(醫葯)、普通化工原料配料用純水、食品行業配料用純水等。

電導率≤專4μS/CM 電鍍化屬學品生產用純水、化工行業表面活性劑生產用純水、醫用純化純水、白酒生產用純水、啤酒生產用純水、民用飲用純凈純水用純水、普通化妝品生產用純水、血透純純水機用純水。

電阻率5~10MΩ.CM 鋰電池生產用純水、蓄電池生產用純水、化妝品生產用純水、電廠鍋爐用純水等。

電阻率>17 ML2 CM 磁性材料鍋爐用軟化純水、敏感新材料用純水、半導體材料生產用純水、尖端金屬材料用純水、防

老化材料實驗室用純水、有色金屬; 貴金屬冶煉用純水、鈉米級新材料生產用純水、航空新材料生產用純水、太陽能電池

生產用純水、純水晶片生產用純水、超純化學試劑生產用純水、實驗室用高純水、其它有相同純水質要求的用純水;

5、電阻率>18 ML2 C ITO導電玻璃製造用純水、化驗室用純水、電子級無塵布生產用純水等其它有相同純水質要求的用純水。

⑸ 超純水水質標准

超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

制備
在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

應用
超純水可以在以下領域使用：

（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

（4）高壓變電器的清洗等

⑹ 純水和超純凈水的標准各是什麼

純水和超抄純水一般都沒有統一襲的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。

⑺ 純水的標準是什麼是超純凈水的標準是什麼

純水和超純來水一般都沒有源統一的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。

⑻ 半導體製造對去離子水的要求

可以飲用，但必須確保是去離子水而不是無色無味的化學葯液。

帶RO反滲膜的家用凈水機和超市賣的不添加氯化鎂/鈣的純凈水其實就是去離子水。半導體工廠的去離子水和超市裡的純凈水都是經過反滲膜過濾的去離子水，不過半導體工廠的去離子水雜質和離子去除率更高。

長期大量喝純凈水/去離子水會導致礦物質缺乏，如缺鈣，但不是很嚴重，食物里還是含有很多礦物質。

據說很多實驗室會用某哈哈純凈水代替去離子水，效果不錯，雜質少離子少，價格比專門買去離子水便宜很多。
半導體從業者對晶元都有一定程度的了解，但我相信除了在晶圓廠的人外，很少有人對工藝流程有深入的了解。在這里我來給大家做一個科普。首先要做一些基本常識科普：半導體元件製造過程可分為前段製程（包括晶圓處理製程、晶圓針測製程）；還有後段（包括封裝、測試製程）。

零、概念理解 所謂晶圓處理製程，主要工作為在硅晶圓上製作電路與電子元件（如電晶體、電容體、邏輯閘等），為上述各製程中所需技術最復雜且資金投入最多的過程 ，以微處理器（Microprocessor）為例，其所需處理步驟可達數百道，而其所需加工機台先進且昂貴，動輒數千萬一台，其所需製造環境為為一溫度、濕度與 含塵（Particle）均需控制的無塵室（Clean-Room），雖然詳細的處理程序是隨著產品種類與所使用的技術有關；不過其基本處理步驟通常是晶圓先經過適 當的清洗（Cleaning）之後，接著進行氧化（Oxidation）及沈積，最後進行微影、蝕刻及離子植入等反覆步驟，以完成晶圓上電路的加工與製作。

晶圓針測製程則是在製造好晶圓之後，晶圓上即形成一格格的小格 ，我們稱之為晶方或是晶粒（Die），在一般情形下，同一片晶圓上皆製作相同的晶片，但是也有可能在同一片晶圓 上製作不同規格的產品；這些晶圓必須通過晶片允收測試，晶粒將會一一經過針測（Probe）儀器以測試其電氣特性， 而不合格的的晶粒將會被標上記號（Ink Dot），此程序即 稱之為晶圓針測製程（Wafer Probe）。然後晶圓將依晶粒 為單位分割成一粒粒獨立的晶粒。

IC封裝製程（Packaging）：利用塑膠或陶瓷包裝晶粒與配線以成集成電路；目的是為了製造出所生產的電路的保護層，避免電路受到機械性刮傷或是高溫破壞。而後段的測試則是對封裝好的晶元進行測試，以保證其良率。

⑼ 光伏行業晶體管，半導體集成電路為什麼一定要用純水

半導體工業就是通過在本徵半導體（比如純硅）里摻雜質來調節半導體材料導內電性和其它容物理化學性能的，極微量雜質就會劇烈改變半導體材料的性能，所以整個生產過程必須用去離子水，以減少非必要雜質的引入。去離子水是高純水，自來水乃至蒸餾水都達不到去離子水的純度。