❶ 為什麼反滲透裝置的產水會下降如何處理
反滲透的產水下降是很正常，通常增加反滲透前高壓泵的壓力，或是清洗膜，會使產水量恢復。膜表面有無機物有機物，或生物污染，都會使膜產水量下降，這時只能化學清洗來恢復膜通量。
❷ 反滲透膜的清洗步驟
物理清洗方法：
1.停止裝置
慢慢的把操作壓力降低，逐步停止裝置。，因為如果一下子停止裝置會導致裝置中的壓力快速的下降形成水錘，沖擊對管道、壓力容器以及膜元件造成一定的損傷。
2.調節閥門
首先把濃溶液的水閥門全部打開；之後把進水的閥門關閉；接著把產水閥門打開到最大。如果把關閉閥門順序搞錯了，就可能會產生背壓對壓力容器中的後端的膜元件造成械性的損害
3.清洗作業
首先把低壓清洗泵打開；然後再慢慢的把進水閥打開，這時候一定要注意觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門一直調到流量和壓力都達到預先設計好的值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。
化學清洗方法：
化學清洗方法是利用化學葯劑進行清洗的，針對不同的污染物要選用不同的化學葯劑，下面也會給大家介紹什麼污染物選用什麼化學葯劑。
反滲透膜清洗化學葯劑選用圖
檸檬酸清洗
在採用檸檬酸溶液進行清洗之前，先用軟化水或者 RO 產品水對膜元件進行沖洗。向清洗水箱中添加檸檬酸（白色粉末），對溶液進行連續的攪動，使檸檬酸迅速和充分溶解，使檸檬酸溶液濃度達到 2%（質量百分比）。在添加葯品之前，將大塊的葯品敲碎，以避免對攪拌器和水泵造成損壞。
十二烷基磺酸鈉(Na-SDS)清洗劑清洗
配製 0.025%（質量百分比濃度）十二烷基磺酸鈉和 0.1%（質量百分比濃度）NaOH 溶液，控制溶液溫度小於 30℃，其 pH 控制范圍在 pH12 以內。此種方法最好作為系統的第一步化學清洗。
六聚偏磷酸鈉+鹽酸的清洗
向水中添加 SHMP（白色粉末），小批量逐步添加，以達到 1.0%濃度（質量百分比）溶液。使用攪拌器連續地攪拌溶液，使化學葯品均勻混合。
緩慢的將鹽酸（HCl）添加到 SHMP 溶液中，直到溶液的 pH 值達到 2。鹽酸（HCl）是一種腐蝕性的無機酸，在處理鹽酸時要注意安全規則。
溶液的 pH 值應該接近，但是要大於 2。 如果在清洗期間溶液的 pH 值升高超過 3.5，則要添加鹽酸（HCl）直到 pH 值恰好大於 2。如果 pH 值降低到小於 2，使用 NaOH 進行調節。NaOH 是一種腐蝕性無機鹼，在使用時要注意安全規則。
如果看完還是不怎麼清洗的話這時有詳細的介紹網頁鏈接
❸ 反滲透產水量下降是什麼原因
反滲透膜產水量下降的原因：
1.反滲透膜產水量下降的原因有很多，但是專最常見的原因主要屬有三種：工作壓力、反滲透膜的污染程度和運行溫度。
2.工作壓力：
不同型號的反滲透膜所需的工作壓力不同，可以根據實際情況，適當提高進水壓力，可以增加產水量。
3.反滲透膜的污染程度：
一般原水中都會有一定濃度的懸浮物和溶解性物質。其中懸浮物主要是無機鹽、膠體和微生物、藻類等生物性顆粒。溶解性物質主要是易溶鹽和難溶鹽、金屬氧化物、酸鹼等。
在反滲透膜運行過程中，這些染質會依附在膜上，導致膜元件的水流道被堵塞、增加了水通過反滲透膜時的阻力。難溶鹽在超過其飽和極限時，會從濃水中沉澱出來，在膜面上形成結垢，降低RO膜的通量，增加運行壓力和壓力降，並導致產品量下降。
4. 運行溫度：
通常情況下反滲透膜的產水量是基於25℃設計的，如果運行的溫度每降低1℃，產水量就會下降2-3%。
5.在運轉中反滲透裝置壓差上升
改進預處理裝置的運行管理，改善進反滲透水質用葯品清洗膜組件
6.油分的混入
主要油絕對不能進入給水更換膜組件
詳細的可以看這里網頁鏈接
❹ 如何清洗反滲透
反滲透膜元件，作為深層的過濾手段，其表面不可避免的會殘留有膠體、微生物、雜質顆粒及難溶鹽類在其表面的析出，因此，在多種領域使用的反滲透裝置，一旦投入使用，最終都需要清洗，只是清洗周期的長短不同而已。通常情況下，根據污染情況的不同，反滲透清洗採用不同的清洗方式，其中包括在線清洗和離線清洗兩種。
在線清洗
反滲透清洗清洗條件
當反滲透系統參數出現如下變化，您的系統馬上要做在線清洗：
1)系統的段間壓差：一段壓差≤0.2Mpa;二段壓差≤0.1Mpa。
2)在系統運行參數不變的情況下，通過溫度校正系統的產水量恢復設計產水量的85%以上。
3)產水脫鹽率變化不超過5%
反滲透清洗清洗步驟
一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
二、用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。
三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。
四、清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。
五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
六、在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。
反滲透清洗離線清洗
編輯
反滲透清洗反滲透離線清洗的條件
(1)反滲透膜元件污染符合「重度污染」標准;
(2)反滲透系統通過在線清洗不能夠達到系統額定標準的;
(3)水處理系統由於供水緊張而不能夠進行在線清洗或沒有在線清洗設備的;
(4)反滲透污染類型較為復雜，通過在線清洗容易引起交叉污染的;(反滲透系統前段污染物可能會通過在線清洗被帶入系統後段，而使後段膜元件遭受污染的稱為交叉污染)
反滲透清洗反滲透離線清洗的一般步驟
1 首先用性能優良的備用膜元件替換反滲透系統上的待清洗膜元件，以保證反滲透系統不停止運行，保證整個生產工藝的持續穩定。 [1]
2 反滲透膜元件性能測試：
對每一支膜元件單獨測試其各項性能指標，包括：脫鹽率、產水量、壓差、重量等，並作好測試前記錄脫鹽率、產水量和壓差測試條件：符合不同類型膜廠商提供的標准。
3 系統清洗前了解系統目前運行狀況;
4 採集運行反滲透系統的各參數指標，作好原始記錄;
5 根據用戶原水全分析報告、性能測試結果及所了解的系統信息判斷清洗流程;
6 污染物的鑒定。首先根據3.5的分析結果初步判定，再通過特殊的設備、器具作進一步的驗證，以確定具體污染物類型。
7
根據5、6的分析結果，確定所需清洗配方。當RO膜上的污染物確定後，我們可以選擇膜製造商提供的系列配方，選擇較為合適的一種或兩種配方;或者選擇特殊配方(當RO膜被特殊的污染物污染時，採用普通的配方效果欠佳，或者從經濟性角度比較時，特殊配方較為經濟)。目前，國內外有許多反滲透膜元件清洗的專用葯劑，如開元恆業的KY410膜專用清洗劑、KY420膜專用清洗劑和殺菌劑，根據筆者的經驗，使用效果良好，且同傳統葯劑比較，經濟性也不錯。
8 在反滲透專用清洗設備上用以上清洗劑結合物理處理清洗手段進行試驗性清洗，以選擇恰當的清洗配方和清洗程序;
9 確定清洗方法，對以上所有膜元件進行處理;
10 對清洗後的膜元件進入測試平台進行測試並作記錄，不符合要求的將重新送入清洗設備進行處理;
11 整理清洗數據資料，寫出清洗總結報告。
——格瑞水務
❺ 反滲透膜表面看著很乾凈，但是就是產水量不行是怎麼回事一般是什麼污染
只有產水量不行嗎？？ 脫鹽率和壓力有沒有變化？去我的博客看一看，有幾篇反滲回透膜的文章，答希望對你有幫助http://blog.163.com/szshuli@126/
❻ 剛反滲透清洗沒多久 反滲透的產水量又在下降 請問什麼原因
通常反滲透的有機污染要比無機污染嚴重，查一下你的前處理進水的SDI，確定PAC加葯量沒有問題，主要是測加葯後的SV30，主要還是要看下你的前處理余氯控制和阻垢劑是否OK
❼ 反滲透剛清洗沒多久 產水量就又在慢慢下降 一級壓力上升 二級壓力降低
預處理系統有問題，沒能將原水處理成合格的反滲透系統進水要求，導致膜容易堵專塞，一級產水量屬下降，壓力增高，間接導致二級供水不足，二級壓力降低，產水量下降。
解決辦法：檢查原水水質，相對應安置過濾設備，鐵錳高除鐵錳，硬度高除硬度等。
❽ 反滲透產水量下降的原因及處理方法
膜組件數量的減少
按照設計的膜組件數量運行
低壓力運轉
按照設內計的基準容壓力運行
發生膜組件的壓密 當在大大超過基準壓力的條件下運轉就會發生膜組件的壓密，必須更換膜組件
運轉溫度的降低
按照設計溫度25ºC運行
在較高的回收率條件下運轉
當在75%以上回收率條件下運轉時，濃水的水量就減少，這樣膜組件內水的濃縮倍率就上升，結果造成給水水質嚴重下降。由於這種給水的滲透壓上升，導致透過水量的減少。嚴重時，將在膜面上析出鹽垢。必須按設計回收率產水。
金屬氧化物和污濁物附著在膜面上
每天進行低壓沖洗
在運轉中反滲透裝置壓差上升
改進預處理裝置的運行管理，改善進反滲透水質用葯品清洗膜組件
❾ 反滲透如何反洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。