⑴ 水處理 EDI
看你用國產還是進口的膜堆.每一個廠家的型號都不一樣.至於電源這個在市場上有二種,一種是叫高頻電源,一種叫工頻電源.都可以達到恆流的目的.
⑵ 脫鹽水處理和反滲透處理工作原理
脫鹽水處理的設備飯為很大，如下：
1、簡單的脫除硬度鈣鎂離子的工藝，鈉離子樹脂交版換器，也叫權做軟水器。
2、大面積脫鹽的最早工藝：陽樹脂+陰樹脂+混床（陰陽樹脂混合）
3、電滲析裝置，脫鹽率大概在60-80%
4、反滲透裝置，脫鹽率安反滲透膜 計算最高在99.7%
5、EDI裝置也叫做連續電除鹽。
以上是脫鹽水的處理工藝，也有的把上面幾種結合使用。具體原理相對較多，網路一下都可以找到。
⑶ edi出水水質報告單怎麼寫
脫鹽水系統環環相扣EDI出水硬度高，都會導致系統出現問題，任何一個環節出現問回題，反滲透系統出答現問題的可能性較大，EDI進水水質要求硬度≤2ppm或者更低，同樣不應該讓EDI來完成去除硬度的任務。一般情況下，該反滲透負擔的，前端會通過軟化或者在反滲透之前投加阻垢劑，該預處理來負擔的，不應該讓反滲透來負擔，說明前級裝置出現了問題
⑷ 脫鹽水EDI電流不變電壓突然高什麼原因
脫鹽水1 dl電流不變，電壓突然變高的話，這是因為它的變穩壓器已經壞掉了
⑸ edi膜塊結垢的清洗方法
EDI設備的化學清洗及再生
膜塊堵塞的原因主要有下面幾種式：
o 顆粒/膠體污堵
o 無機物污堵
o 有機物污堵
o 微生物污堵
清洗方法時間（分） 備注
酸洗30-50
鹼洗30-50
鹽水清洗35-60
消毒25-40
沖洗≥50
再生≥120 根據系統的工藝要求直至達到出水電阻率要求指標
單個膜塊清洗時葯液配用量
型號葯液配用量（升） 備注
MX-50 50 1. 酸洗溫度15-25℃
2. 鹼洗溫度25-30℃
3. 配葯液用水必須是RO產水
或高於RO產水的去離子水
MX-100 80
MX-200 110
MX-300 150
• 對於膜塊數量大於1塊時，按表中配液的數量乘以膜塊數量
EDI膜塊的再生
o 確認EDI膜塊內沒有任何的化學葯品殘留存在。
o 使系統構建成一個閉路自循環管路。
o 按照正常運行的模式調節好所有的流量和壓力。
o 給EDI送電，調節電流從2A開始分步緩慢向EDI載入電流（最大不能超
過4A）。
o 直至產水電阻率達工藝要求到或者≥12MΩ.cm
o 提示：膜塊的再生是一個比較長的時間，有時可能會長達10-24小時甚
至更長的時間。
EDI運行維護注意事項
注意:試車、操作及維護前,請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊. 本注意事項僅提醒使用者於試車、操作及維護時需要特別注意之事項,詳細操作維護內容請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊.
一、 進流水質要求與必要之附屬設備
(一)進流水質要求: 前處理系統一定要有 RO 系統,且要確保 RO 系統操作正常. 進流水質最低要求如下:
1 導電度(包括 SiO2 及CO2) μs/cm < 40
2 溫度 ℃ 5 - 45
3 壓力 Psi 20-100
4 自由余氯(Cl2) ppm < 0.02
5 鐵(Fe)、錳(Mn) ppm < 0.01
6 硫化物(S- ) ppm < 0.01
7 pH 4-11
8 總硬度(as CaCO3) ppm < 1.0
9 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.0
10 總有機碳(TOC) ppm < 0.5
備注: 1. 導電度計算方式=導電度計測量之導電度+2.66xCO2 濃度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)
2. 啟動初期應特別注意進流硬度、二氧化硅濃度,應避免超過1.0ppm.
(二)附屬設備： 為了保護模塊及便利後續系統監測,強烈建議 EDI 系統應至少包括下列附屬設備:
1. 穩定的電源供應設備：為了維持系統操作穩定,電源供應系統應供給穩定的直流電源給模塊,且系統能在定電流模式下操作(V=IR, 亦即設定電流(I)後,電流並不會隨進流水質改變,進流水質改變 僅會影響電阻(R)及電壓(V)).
2. 流量開關或流量控制設備：為了保護模塊,當沒有水進入模塊時, 模塊電源必須馬上被關閉,流量開關需與電源供應連動.
3. 壓力計：應至少於進流端與產水、濃縮水出水端設置壓力計,以監 測進出水壓力.
4. 進出水流量計：方便調整產水率.可使用附控制點之流量計(可作為流量開關使用).
5. 系統控制(PLC 控制)：系統除了控制沒水進入時之斷電裝置外,亦應控制在進流水進入一段時間後,若電源仍無供應,應停止進流(例 如泵啟動30 秒後(視泵至EDI 距離調整時間),若電源仍無供應, 則應關閉泵,並發出警報),以避免EDI 膜堆內樹脂飽和,影響後續產水水質。
二、 試車注意事項：
(一)試車前檢查
1. 試車前應檢查管路、配件及控制系統是否安裝完成,各項檢查前應先關閉電源,以維護人員安全.
2. 模塊扭矩檢查：依照操作手冊 3.2 節檢查並鎖緊. 聯接螺栓 扭矩 1-8 25 ft.lbs. 11-14 12.5 ft.lbs. 9, 10 10 ft.lbs. 工具：扭矩扳手(19mm)+活動扳手
3. 管路檢查：檢查配管路線及閥門開關.
4. 電源控制檢查(以Ionpure 原廠電源控制為例)：
1.)檢查整流器及顯示板 Jumper 的選擇是否正確：
甲、 ACV：例如 LX30,需要 660V,則選擇 660V(共有 440,550, 660 三個選項).
乙、 DC ：選擇最高電流限制,例如：LX 選擇10A(共有 2.5, 4, 6.5, 10A 四個選項).選擇之電流需與顯示板上之選擇相同.
丙、 頻率：選擇 60Hz 或50Hz.
2.)檢查變壓器至控製版接線(T1, T2)及至模塊接線.
3.)檢查接地線(DC-).
4.)選擇控制模式：選擇定電流控制(A)或定電壓(V)(建議選擇定電流控制).
5.)檢查流量開關.
5. 確認進流泵容量：進流泵之汲水流量需滿足系統所需之流量,同時其揚程需能克服各項設備及管路壓損(LX 模塊壓損約 1.5-2bar(與處理量相關)).
Ionpure 原廠顯示板背面 Jumper 調整 Ionpure 原廠控制板背面 Jumper 調整及接線
(二)試車所需注意事項
1. 確認 RO 系統操作是否正常?建議 RO 系統操作穩定後,才將進流水 切換至 EDI 系統,以避免 RO 啟動初期水質較差,影響模塊性能.
2. 檢測進流水水質：檢測進流水水質,以確認進流水質符合要求,檢測項目至少包括導電度、總硬度、二氧化硅、總氯及 CO2.若水質有任一項不符前述進流水質要求,即不可將水汲入 EDI 模塊,並需檢查 前處理是否有問題. 若進流水 CO2 濃度太高(超過 5ppm),即不建議將濃縮水迴流至 RO 系統前貯槽(除非先將 CO2 去除),以避免造成 CO2 累積,影響產水水質.
3. 清洗管路：注意：為避免管路中殘留管屑等污染物進入模塊造成堵塞,建議在未試車前(包括架台配管時),先不要將原廠所附進出口之紅色套頭取出(但試車前一定要將該物取出). 在水進入模塊前,需先確定其前處理管路中已無管屑等污染物.建議 於啟動前先將模塊進水接頭拆開,並以 RO 水沖洗管路.
4. 測試各項安全保護裝置：
1.)測試進流水泵浦與EDI 連動裝置：測試進流水泵浦與 EDI 連動裝置,使得 EDI 只有在進流泵浦啟 動時才開啟電源,且當 EDI 電源沒有開啟一段時間後要關閉進流 水泵浦.
2.)流量開關測試：啟動前需先測試流量開關是否會動作,亦即沒水時電源關閉,通水啟動流量開關後(迴路連通),直流電源才供應至模塊.
5. 系統啟動注意事項
1.)當上述安全保護測試完成後,再一次檢查管路閥門開關,確定閥門開關正確後,才啟動進流泵浦.
2.)進流泵浦啟動後,檢查電源供應是否正常啟動.例如,以Ionpure 原廠顯示板為例,顯示板上燈號會由 Standby 跳至 On,若無,先關閉進流泵浦,並檢查流量開關及各接線是否正常.
3.)進流泵浦啟動後,以手動閥(最好是用膜片閥,以方便調整)調整產水及濃縮水流量,初期產水率先調整為 90%.
4.)剛啟動時,先將電流調小(例如 0.5A),確定水流及電源沒問題後, 再將電流慢慢調整到軟體計算所需之電流值(與進流水質、水量相關),觀察電壓及出水水質. 啟動初期水質可能較差,切勿因水質不佳,即貿然調高電流至遠超 過軟體所計算之值. 例如:進流水質導電度– 10μs/cm, CO2 – 8mg/l, SiO2 – 0.2mg/l 時, 以計算軟體計算所需之電流為 2.43 安培,則設定電流在約 2.5 安培 即可(以水質最差時計算),切勿一開始即將電流調整超過該值(例如4.0 安培),以避免損壞模塊.
5.)觀察進出水壓力,並以手動閥調整,使產水水壓略高於濃縮水壓約 2-5psi(若產水出口壓力低於濃縮水壓力,會影響產水水質).
6.)為避免 EDI 啟動初期產水水質不佳,建議於產水端設置二隻自動控制閥,並以 PLC 控制:當產水水質低於要求時,將EDI 產水迴流至 EDI 前貯槽,當水質高過設定水質時,才切換至下一處理設 備.
7.)當系統在穩定狀態(水質符合要求且操作穩定)時,應依據操作手冊4.0 章最後所附的資料表上記錄操作資料(檢測項目至少需包括進水溫度、導電度、總硬度、CO2,產水電阻值,進出口流量及壓力(含濃縮端),操作電壓、電流),以利後續設備檢修.
三、 操作維護注意事項
1. 應每天填寫IP-LX 系統記錄表,以便及早發現是否有可能會使保修失效或對膜堆造成破壞的問題.
2. 應至少每六個月對膜堆進行一次膜塊外觀檢測,檢查是否有漏水或鹽類沈積;並定期旋緊所有電氣連接頭及按照 3.2 章節的規定,檢查膜堆螺栓的扭矩.
3. 在下述情況下,膜堆可能需要清洗:
溫度和流量不變,產水壓降增加50%;
溫度和流量不變,濃水壓降增加50%;
溫度、流量、或進水電導率不變,產水水質下降;
溫度不變,膜堆的電阻增加25%. 清洗方法請參考操作維護手冊.
4. 若模塊發生故障可參考原廠所附操作維護手冊內之膜堆故障檢測流程或聯絡當地en-link服務商.
四、 有助於 EDI 系統穩定及水質提升的前處理設計為增加EDI系統穩定度及提升產水水質,可於前處理增加下列設備
1. 去除 CO2 設備:一般 RO 產水皆含有一定量之CO2,若能將進流水CO2 濃度降低,將有助於產水水質提升及減少結垢可能性；
2. UV:於EDI 前增設紫外線殺菌器(UV)可減少模塊長菌可能；
3. 精密過濾器:於EDI 前增設精密過濾器可避免微細顆粒物進入模塊,造成堵塞；
4. Two pass RO:當原水硬度及二氧化矽濃度相對較高或變化較大時, 為避免原水水質變化大或軟化系統出問題時,RO 產水硬度、二氧化硅濃度超過EDI 進流水標准,或減少EDI 模塊結垢可能性,建議前處理採用 Two pass RO 系統。
⑹ 熱電站脫鹽水制水工藝
反滲透是一種藉助於選擇透過（半透過）性膜的工力能以壓力為推動力的膜分離技術，當系統中所加的壓力大於進水溶液滲透壓時，水分子不斷地透過膜，經過產水流道流入中心管，然後在一端流出水中的雜質，如離子、有機物、細菌、病毒等，被截留在膜的進水側，然後在濃水出水端流出，從而達到分離凈化目的。
反滲透設備應用膜分離技術，能有效地去除水中的帶電離子、無機物、膠體微粒、細菌及有機物質等。是高純水制備、苦鹹水脫鹽和廢水處理工藝中的最佳設備。廣泛用於電子、醫葯、食品、輕紡、化工、發電等領域。
反滲透超純水設備典型工藝流程為：
1: 預處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點
2: 預處理－一級反滲透－二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
3: 預處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
4: 預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點
水質符合美國ASTM標准，電子部超純水水質標准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）
一般包括預處理系統、反滲透裝置、後處理系統、清洗系統和電氣控制系統等。
預處理系統一般包括原水泵、加葯裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。預處理系統的設備配置應該根據原水的具體情況而定。
反滲透裝置主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。
後處理系統是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。後處理系統能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。
清洗系統主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。
電氣控制系統是用來控制整個反滲透系統正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制櫃等。
超濾設備，是利用多孔材料的攔截能力，以物理截留的方式去除水中一定大小的雜質顆粒。在壓力驅動下，溶液中水、有機低分子、無機離子等尺寸小的物質可通過纖維壁上的微孔到達膜的另一側，溶液中菌體、膠體、顆粒物、有機大分子等大尺寸物質則不能透過纖維壁而被截留，從而達到篩分溶液中不同組分的目的。該過程為常溫操作，無相態變化，不產生二次污染。超濾設備就是以超濾膜為核心產品對水質進行過濾。產出來的水就是我們通常所說的礦泉水。
以壓力為推動力，利用超濾膜不同孔徑對液體進行分離的物理篩分過程。其分子切割量（CWCO）一般為6000到50萬，孔徑為100nm（納米）。超濾所用的膜為非對稱膜，其表面活性分離層平均孔徑約為10-200，能夠截留分子量為500以上的大分子與膠體微粒，所用操作壓差在0.1—0.5MPa。
在水處理領域中，超濾設備可以除去水中的細菌、病毒、熱源和其它膠體物質，因此用於製取電子工業超純水、醫葯工業中的注射劑、各種工業用水的凈化以及飲用水的凈化。
超濾設備廣泛用於物質的分離、濃縮和提純，還承接其他環保水處理工程. 超濾技術是一種廣泛用於水的凈化，溶液分離、濃縮，以及從廢水中提取有用物質，廢水凈化再利用領域的高新技術。特點是使用過程簡單，不需加熱，能源節約，低壓運行，裝置佔地面積小。
中空纖維超濾膜是超濾技術中最為成熟與先進的一種形式。中空纖維外徑
⑺ 脫鹽水工藝處理
脫鹽水處理工藝介紹：
1：離子交換工藝
早期人們所熟知的脫鹽水處理工藝主要為預處理＋陽床＋陰床＋混床的全離子交換工藝，即傳統法處理流程。對於地表水，常規的預處理方法多是多介質過濾＋活性炭過濾，用陽床＋陰床＋混床的全離子交換可確保出水水質穩定達標。長期實踐已證明，傳統法處理工藝是一種成熟有效的水處理工藝。但傳統法因預處理和離子交換工藝的局限，存在著設備佔地面積大、系統操作維護頻繁復雜、出水水質呈周期性波動的缺陷，並且需要投加絮凝劑和耗費大量的酸鹼，不利於環境保護；同時，離子交換器多為直徑較大的罐體，體積大、重量大，不便於運輸及安裝調試，施工周期長。
2：膜法工藝
膜法工藝是指超濾＋反滲透＋混床除鹽（EDI）的脫鹽水處理工藝，該工藝主要採用膜分離技術製取脫鹽水。
超濾原理是一種膜分離過程原理，超濾是利用一種壓力活性膜，在外界推動力（壓力）作用下截留水中膠體、顆粒和分子量相對較高的物質，而水和小的溶質顆粒透過膜的分離過程。通過膜表面的微孔篩選可截留分子量為3×10000～1×10000的物質。當被處理水藉助於外界壓力的作用以一定的流速通過膜表面時，水分子和分子量小於300～500的溶質透過膜，而大於膜孔的微粒、大分子等由於篩分作用被截留，從而使水得到凈化。也就是說，當水通過超濾膜後，可將水中含有的大部分膠體硅除去，同時可去除大量的有機物等。超濾對原水的適應性好，濁度在200以下的地表水均可有效處理，對於膠體硅的去除率大大高於傳統法的多介質和活性炭過濾。超濾的採用大大提升了預處理的效果，可保證其出水SDI值穩定在3以下，增強了對反滲透系統的產水率，膜的使用壽命更可從傳統法保證的3年延長到5年。
3：EDI即連續電脫鹽水處理工藝
是利用混合離子交換樹脂吸附水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被去除的過程。這一過程中離子交換樹脂是被電連續再生的，因此不需要使用酸和鹼對之再生。這一技術可以替代傳統的離子交換裝置，生產出電阻率高達18MΩ•cm的超純水。該工藝技術被稱為是水處理工業的革命。與傳統的離子交換相比，EDI具有以下優點：EDI無需化學再生；EDI再生時不需要停機；提供穩定的水質；能耗低；操作方便，勞動強度小；運行費用低。
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⑻ edi出水硬度高是什麼原因
EDI出水硬度高，說來明前級裝置出自現了問題，EDI進水水質要求硬度≤2ppm或者更低。一般情況下，前端會通過軟化或者在反滲透之前投加阻垢劑，反滲透系統出現問題的可能性較大，脫鹽水系統環環相扣，該預處理來負擔的，不應該讓反滲透來負擔，該反滲透負擔的，同樣不應該讓EDI來完成去除硬度的任務，任何一個環節出現問題，都會導致系統出現問題。
⑼ 什麼是脫鹽水脫鹽有哪些方法一般工藝流程怎樣
脫鹽水（來desalted water）是將所含自易於除去的強電解質除去或減少到一定程度的水。脫鹽水中的剩餘含鹽量應在1～5 毫克/升之間。
製取脫鹽水的方法主要有以下三種：
①蒸餾法，使含鹽的水加熱蒸發，將蒸氣冷凝即得脫鹽水；
②離子交換法，使含鹽的水通過裝有泡沸石或離子交換劑的交換柱（見離子交換），鈣、鎂等離子留在交換柱上，濾過的水為脫鹽水；
③電滲析法，借離子交換膜對離子的選擇透過性，在外加電場作用下，使兩種離子交換膜之間的水中的陽、陰離子，分別通過交換膜向陰、陽兩極集中。於是膜間區成為淡水區，膜外為濃水區。從淡水區引出的水即為脫鹽水。
蒸餾法多用於實驗室用來洗刷容器或制備溶液，適用於量不多純度要求較高場所。離子交換法與電滲析法多用於化工業如鍋爐用水可以減少結垢和腐蝕，適用於量大純度要求不是很高的場所。
⑽ 脫鹽水呈弱酸性是什麼原因
脫鹽水？你說的是反滲透的滲透水？
我覺得主要是通過反滲透膜脫鹽處理，水中各類離子金屬離子，酸根離子被脫除，但是水中還有大量溶解性氣體，特別是二氧化碳，它能水解成碳酸，然後有氫離子和酸根，這個造成了水顯酸性。如果要用超純水，一般二級反滲透以後EDI，特別還要專門的脫氣，不然電阻率上不去。