㈠ 反滲透低壓沖洗的步驟
1、打開濃水排放閥、產水排放閥、進水閥；2、啟動供水泵（不啟動高壓泵）；3、開始沖洗，沖洗水都排放；4、關閉供水泵；5、關閉濃水排放閥、產水排放閥、進水閥。
㈡ 反滲透怎麼沖洗
反滲透膜物理清洗操作步驟：
（1）停止裝置
緩慢地降低操作壓力，逐步停止裝置。急速停車造成的壓力急速下降會形成水錘，將會對管道、壓力容器以及膜元件造成沖擊性損傷。
（2）調節閥門
首先全開濃縮水閥門；然後關閉進水閥門；接著全開產水閥門（如關閉系統後關閉了產水閥門）。如果錯誤的關閉產水閥門，壓力容器中的後端的膜元件可能因為產水背壓而造成膜元件機械性損傷。
（3）清洗作業
首先啟動低壓清洗泵；然後緩慢地打開進水閥，同時觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門直至流量和壓力調節到設計值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。
反滲透膜化學清洗操作步驟：
（1）在4Bar（60Psi）或更低壓力條件下進行低壓沖洗，即從清洗水箱中（或合適的水源）向壓力容器中泵入清潔水並排放幾分鍾。沖洗水必須是潔凈的、去除硬度、不含過渡金屬（Fe、Mn等）和余氯的RO產品水或去離子水。
（2）在清洗水箱中配製指定的清洗溶液。配製用水必須是去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。將清洗液的溫度和pH應調到所要求的值。
（3）啟動清洗泵將清洗液泵入膜組件內，循環清洗約1小時或是要求的時間。在初始階段，在清洗液返回至RO清洗水箱之前，應將最初的迴流液排放掉，以免系統內滯留的水稀釋清洗溶液。在化學葯劑與RO裝置接觸後，裝置內的污染物在化學反應的作用下會被大量沖出，為了避免污染清洗液，這些清洗液也應該被排放掉，直至清洗液顏色轉淡再進入循環清洗。在循環清洗最初的5分鍾內，緩慢地將流速調節到最大清洗流速的1/3。並在第二個5分鍾內，增加流速至最大設計流速的2/3，最後再增加流速至最大清洗流速值。如果需要，當pH的變化大於0.5，就要重新添加葯品調整pH值。
（4）根據需要可交替採用循環清洗和浸泡程序。浸泡時間可根據製造商的建議選擇1至8小時。在整個清洗過程中要謹慎地保持合適的溫度和pH值。
（5）化學清洗結束後，要用清潔水（去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產品水或去離子水）進行低壓沖洗，從清洗裝置及相關管路中沖洗殘留化學葯劑，排放並沖洗清洗水箱，然後再用清潔水完全注滿清洗水箱。從清洗水箱中泵入所有的沖洗水沖洗壓力容器並排放。直至RO裝置內的殘留化學葯品基本被清除。
（6）採用清潔水完全沖洗後，就可用預處理給水進行最終的低壓沖洗。給水壓力應低於4bar，最終沖洗持續進行直至沖洗水干凈，且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要15-60分鍾。操作人員可用干凈的燒瓶取樣，搖勻，監測排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行，如沖洗水至排放出水的電導在給水電導的10-20%以內，可認為沖洗已接近終點；pH表也可用於測定沖洗水與排放水的pH值是否接近。
（7）低壓沖洗結束後，RO裝置可以重新開始運行，但初始的產品水要進行排放並監測，直至RO產水可滿足工藝要求（電導、pH值等）。這一段恢復時間有時需要從幾小時到幾天，才得到穩定的RO產水水質，尤其是在經過高plH清洗後。
詳情可見官網：網頁鏈接
㈢ 為什麼要對反滲透進行沖洗
給水進入反滲透系統後分成兩路，一路透過反滲透膜表面變成產水，另一路沿反滲回透膜表答面平行移動並逐漸濃縮，在這些濃縮的水流中包含了大量的鹽分，甚至還有有機物、膠體、微生物和細菌、病毒等。在反滲透系統正常運行時，給水／濃水流沿著反滲透膜表面以一定的流速流動，這些污染物很難沉積下來，但是如果反滲透系統停止運行，這些污染物就會立即沉積在膜的表面，對膜元件造成污染。膜表面產生的污垢將加速系統性能下降，如減少產水流量，降低脫鹽率，進水和濃水間壓差增加。利用干凈的水源對膜元件表面進行停運沖洗，以防止這些污染物的沉積。
㈣ 如何清洗反滲透
反滲透膜元件，作為深層的過濾手段，其表面不可避免的會殘留有膠體、微生物、雜質顆粒及難溶鹽類在其表面的析出，因此，在多種領域使用的反滲透裝置，一旦投入使用，最終都需要清洗，只是清洗周期的長短不同而已。通常情況下，根據污染情況的不同，反滲透清洗採用不同的清洗方式，其中包括在線清洗和離線清洗兩種。
在線清洗
反滲透清洗清洗條件
當反滲透系統參數出現如下變化，您的系統馬上要做在線清洗：
1)系統的段間壓差：一段壓差≤0.2Mpa;二段壓差≤0.1Mpa。
2)在系統運行參數不變的情況下，通過溫度校正系統的產水量恢復設計產水量的85%以上。
3)產水脫鹽率變化不超過5%
反滲透清洗清洗步驟
一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
二、用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。
三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。
四、清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。
五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱(或相應水源)打入壓力容器中並排放幾分鍾。
六、在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑(通常15~30分鍾)。
反滲透清洗離線清洗
編輯
反滲透清洗反滲透離線清洗的條件
(1)反滲透膜元件污染符合「重度污染」標准;
(2)反滲透系統通過在線清洗不能夠達到系統額定標準的;
(3)水處理系統由於供水緊張而不能夠進行在線清洗或沒有在線清洗設備的;
(4)反滲透污染類型較為復雜，通過在線清洗容易引起交叉污染的;(反滲透系統前段污染物可能會通過在線清洗被帶入系統後段，而使後段膜元件遭受污染的稱為交叉污染)
反滲透清洗反滲透離線清洗的一般步驟
1 首先用性能優良的備用膜元件替換反滲透系統上的待清洗膜元件，以保證反滲透系統不停止運行，保證整個生產工藝的持續穩定。 [1]
2 反滲透膜元件性能測試：
對每一支膜元件單獨測試其各項性能指標，包括：脫鹽率、產水量、壓差、重量等，並作好測試前記錄脫鹽率、產水量和壓差測試條件：符合不同類型膜廠商提供的標准。
3 系統清洗前了解系統目前運行狀況;
4 採集運行反滲透系統的各參數指標，作好原始記錄;
5 根據用戶原水全分析報告、性能測試結果及所了解的系統信息判斷清洗流程;
6 污染物的鑒定。首先根據3.5的分析結果初步判定，再通過特殊的設備、器具作進一步的驗證，以確定具體污染物類型。
7
根據5、6的分析結果，確定所需清洗配方。當RO膜上的污染物確定後，我們可以選擇膜製造商提供的系列配方，選擇較為合適的一種或兩種配方;或者選擇特殊配方(當RO膜被特殊的污染物污染時，採用普通的配方效果欠佳，或者從經濟性角度比較時，特殊配方較為經濟)。目前，國內外有許多反滲透膜元件清洗的專用葯劑，如開元恆業的KY410膜專用清洗劑、KY420膜專用清洗劑和殺菌劑，根據筆者的經驗，使用效果良好，且同傳統葯劑比較，經濟性也不錯。
8 在反滲透專用清洗設備上用以上清洗劑結合物理處理清洗手段進行試驗性清洗，以選擇恰當的清洗配方和清洗程序;
9 確定清洗方法，對以上所有膜元件進行處理;
10 對清洗後的膜元件進入測試平台進行測試並作記錄，不符合要求的將重新送入清洗設備進行處理;
11 整理清洗數據資料，寫出清洗總結報告。
——格瑞水務
㈤ 反滲透運行多久沖洗，沖洗時間多長時間。和什麼有關系，大俠指教
根據進水條件及回收率的不同沖洗間隔及時間也不相同。中小型水機一般連續運行不超過4小時需沖洗一次，一次1分鍾。而大型水機沖洗時間還要加長。
㈥ 反滲透運行如何調整
RO作為高壓運行設備，在運行前為保護設備及儀表和安全起見，應嚴格安照操作程序確認並調整好閥門的開啟狀態，具體操作如下：
方法/步驟
完全打開保安過濾器進水閥門和打開高壓泵進水閥門
打開高壓泵出水閥門一圈
打開RO入口閥一圈
將濃水管上針閥旋轉三圈半
完全打開產水出口閥及濃水出口閥
將所有取樣閥和清洗閥門關閉
將所有壓力顯示閥打開至半開狀態
當確認以上條件都滿足時，可以啟動高壓泵投入試運行。由於RO也是一種液液分離設備，只有當給水壓力高於滲透壓時，水才能通過反滲透膜，從而達到除鹽效果。此現象的驅動力來自給水(濃水)壓力和滲透壓(滲透壓隨滲透膜的種類和型式不同而變化)之間的壓差(ΔP)，該部分的ΔP可由裝在RO入口的截止閥(閥5)和裝在濃水管線上的壓力調節針型閥(閥13)來調節控制。首先根據RO入口截止閥來調節進水總量(流量計11與流量計12的讀數和)至設計進水量。然後用壓力調節針型閥(閥13)來准確調節產水流量及濃水壓力，當產水量比設計值小時，說明給水(濃水)壓力太小，即是ΔP值太小，這時應將針閥關小，以增大濃水(進水)壓力，直到產水量等於設計值。
隨著電子及醫葯產業的迅猛發展，水處理技術也在實際應用中不斷完善，尤其是膜處理技術已有相當完整的理論基礎並且經過了長期的實踐檢驗。筆者有幸參與過幾個純水站的調試工作，在這里想藉此機會與同仁們就水站中反滲透系統(膜處理系統)在調試運行中常見的問題進行探討。
㈦ 反滲透如何進行自動沖洗
沖洗電磁閥是控制濃水流量的，系統定時或則某個條件滿足（水滿、開機、關機等）時，內沖洗電磁閥打開容，其實是把濃水的一個旁路打開，短時間增加濃水排放量，從而增加膜內流速，達到沖洗反滲透膜的作用。
純手打，求採納。
㈧ 關於反滲透設備的問題 。為什麼啟動RO裝置運行前和停機後都必須進行低壓沖洗~!
停開機大流量沖洗主要是為了置換出其中的濃水，防止第二次啟動時由於結晶在高壓情況下對反滲透膜造成機械損傷，盡最大可能的延長反滲透膜元件的使用壽命
清洗反滲透似乎沒必要開啟高壓泵
㈨ 反滲透正常運行條件下，每連續運行多長時間需進行一次低壓沖洗，回收率75%
當標准化通量下降10～15%時，或系統脫鹽率下降10～15%，或操作壓力及段間壓差升高10～15%，應清洗RO系統。
㈩ 反滲透如何反洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。