水熱法儀器設備_純化水檢測需要哪些儀器設備

A. 用什麼儀器或者方法測定水中的二氧化碳最准確

節選自國家標准《公共場所空氣中二氧化碳測定方法 GB/T 18204.24-2000》
1、范圍
本標准規定了公共場所空氣中二氧化碳濃度的測定方法。
本標准適用於公共場所空氣中二氧化碳濃度的測定。
第一法不分光紅外線氣體分析法
2、原理
二氧化碳對紅外線具有選擇性的吸收。在一定范圍內，吸收值與二氧化碳濃度呈線性關系。根據吸
收值確定樣品中二氧化碳的濃度。
3、試劑和材料
3.1變色硅膠：於12℃乾燥2h
3.2無水氯化鈣D分析純。
3.3 高純氮氣D純度99.99%。
3.4燒鹼石棉D分析純。
3.5塑料鋁箔復合薄膜采氣袋0.5L或1.0L。
3.6 二氧化碳標准氣體（0.5%）貯於鋁合金鋼瓶中。
4、儀器和設備
4.1 二氧化碳不分光紅外線氣體分析儀
4.2 儀器主要性能指標如下：
測量范圍0-0.5%；0-1.5%兩檔。
重現性≦±1%滿刻度
零點漂移：≦±3%滿刻度/4h
跨度漂移：≦±3%滿刻度/4h
溫度附加誤差（在10-80℃）≦±2%滿刻度/10℃
一氧化碳干擾：1000ml/m3(1000 ppm）co≤±2%滿刻度。
供電電壓變化時附加誤差：220v±10%≤±2%滿刻度。
啟動時間：30min
抽氧流量：>0.5L/min
響應時間D指針指示到滿刻度的90%的時間<15s。
二氧化碳—揮發油的測定—揮發油測定法。
應用范圍：
該方法採用揮發油測定法測定二氧化碳中揮發油的含量。
該方法適用於姜科植物溫鬱金Curcuma wenyujin Y.H.Chen et C.Ling的乾燥根莖。
方法原理：
供試品於揮發油測定器中加水適量，加熱至沸並保持微沸至5小時後，讀取測定器中揮發油的量，計算其含量。
試劑：
無特殊試劑
儀器設備：
二氧化碳吸收器：1000mL（或500mL、2000mL）的硬質圓底燒瓶，上接揮發油測定器，揮發油測定器的上端連接迴流冷凝管。以上各部均用玻璃磨口連接。測定器應具有0.1mL的刻度。全部儀器應充分洗凈，並檢查接合部分是否嚴密，以防揮發油逸出。
註：裝置中揮發油測定器的支管分岔處應與基準線平行。
試樣制備：
操作步驟：
稱取供試品粉末（過二~三號篩，24—50目）適量（約相當於含揮發油0.5~1.0mL）（准確至0.01g）置燒瓶中，加水300～500mL與玻璃珠數粒，振搖混合後，連接揮發油測定器與迴流冷凝管。自冷凝管上端加水使充滿揮發油測定器的刻度部分，並溢流入燒瓶時為止。置電熱套中或用其他適宜方法緩緩加熱至沸，並保持微沸約5小時，至測定器中油量不再增加，停止加熱，放置片刻，開啟測定器下端的活塞，將水緩緩放出，至油層上端到達刻度0線上面5mm處為止。放置1小時以上，再開啟活塞使油層下降至其上端恰與刻度0線平齊，讀取揮發油量，並計算供試品中揮發油的含量（%）。

B. 有幾種專用的油品熱值檢測儀器設備

首先所謂的油品其實包括很多種類，比如石油，輕油，重油，柴油，煤焦油，瀝青，酒精，化工油，石蠟油，蓖麻油，奧里油，輪胎油，植物油，燒火油，鍋爐油，石腦油等甲醇燃料等可燃性固體或粘稠液體物質的發熱量。YPZR-2型油品燃料燃燒熱值測試儀用於測定各種燃料油熱值，符合GB/T384石油產品熱值檢驗國標的要求。

目前市面上的油品燃料燃燒熱值測試儀的性能特點：油品燃料燃燒熱值測試儀實現自動充水，自動調水溫，自動定量水，自動攪拌，自動點火。

所以籠統的說油品熱值檢測儀器有幾種，比如說有微機款油品燃料燃燒熱值測試儀、觸摸屏款油品燃料燃燒熱值測試儀、按鍵款油品燃料燃燒熱值測試儀、微型油品燃料燃燒熱值測試儀等等，所有設備的設計原理和試驗方法都是一樣的，區別在於操作上有的可能繁瑣一些，有的更人性化、自動化、智能化一些。

C. 請問實驗室常用儀器設備有哪些

D. 與Sartorius/賽多利斯水分分析儀類似的國產熱重法水分分析儀器，有哪些品牌

深圳市冠亞公司研發並生產的水分分析儀儀，產品SFY商標為：8931081。該儀器具有溫度設定、微調溫度補償及自動控制等功能, 採用目前國際通用的熱解原理研製而成的新一代鹵素快速水分測定儀器。引進進口自動稱重顯示系統，人性化系統操作, 無需特殊培訓，自動校準功能、自動測試模式，取樣、乾燥、測定一機化操作。應變式混合氣體加熱器，最短時間內達到最大加熱功率，在高溫下樣品快速被乾燥，測定精度高、時間短、無耗材、操作簡便，不受環境、時漂、溫漂因素影響，無需輔助設備等優點。客戶可根據所測樣品（樣品如腸衣、纖維、煙草等）狀態不同而調整測試空間，片狀、顆粒、粉末一機操作，且檢測效率、測試准確度遠遠高於國家標准方法。計算機、列印機連接功能可即時列印或者記錄、儲存終點自動判定模式鎖定的最終水分值,

E. 水熱反應釜釜蓋和聚四氟乙烯襯里蓋子吸一塊了怎麼辦

試試熱脹冷縮的原理

F. 水熱法合成功能晶體材料新進展

周衛寧張昌龍霍漢德呂智盧福華左艷彬覃世傑

第一作者簡介：周衛寧，中寶協人工寶石專業委員會第二屆委員、第三屆副主任委員，桂林礦產地質研究院教授級高級工程師，國家特種礦物材料工程技術研究中心副主任。

水熱法是經典而又重要的人工合成晶體方法，在人工合成晶體的歷史上發揮了重要的作用，時至今日，水熱法仍然是某些重要晶體材料（如水晶等）最重要而有效的合成方法。我們曾經在國內率先開展了水熱法合成祖母綠、紅寶石、黃色藍寶石、無色藍寶石等寶石晶體的研究，並獲得了成功，曾小批量生產這些晶體供應市場，受到了消費者的歡迎，填補了我國水熱法合成寶石晶體的空白。近年來，為了滿足光電子高技術發展對功能晶體材料的需求，我們開展了水熱法合成磷酸鈦氧鉀（KTP）、氧化鋅（ZnO）晶體的研發工作，取得了重要進展。本文旨在通過報道這些進展以引起同行的重視，共同推動我國水熱法合成功能晶體材料事業的快速發展。

一、溫差水熱法合成晶體的基本原理

溫差水熱法合成晶體的基本原理是：利用晶體（物質）在一定的壓力下溶解度隨著溫度變化而變化的特點，將培養料放在高壓釜的高溫區溶解形成飽和溶液，通過對流輸運到低溫區形成過飽和溶液而結晶析出，生長出所需要的晶體材料。在實際應用中，為了達到快速、經濟地生長，往往在低溫區放置晶體籽晶，籽晶表面在過飽和溶液中生長出滿足我們需要的大塊晶體。

溫差水熱法合成晶體的關鍵設備高壓釜見圖1。

圖1 高壓釜及晶體生長示意圖

二、水熱法合成KTP晶體

磷酸鈦氧鉀（KTP）晶體是一種性能非常優良的非線性光學晶體，它具有非線性系數大、容許溫度和容許角度大、激光損傷閾值較高、化學性質穩定、不易潮解、抗熱沖擊性能好、機械強度適中、倍頻轉化效率高達 70%以上等特性。因此，在近紅外激光倍頻中，KTP是最好的晶體材料。它在軍事科研、高密度數據存儲、醫療、消耗型電子產品、海洋光學、激光探潛和環境遙感檢測等領域里都有著重要的應用。

目前生長 KTP晶體的方法主要有熔鹽法和水熱法兩種。熔鹽法生長的KTP晶體具有生長速度較快、成本低的優點。但是，由於熔鹽法的固有缺點（相對高的非恆定的生長溫度、溶液的黏滯性很大、體系容易被環境污染等），此法生長出來的KTP晶體，其完整性、均勻性及純度等均不如水熱法生長的KTP晶體好，而且其抗激光損傷閾值較水熱法 KTP要低一個數量級。目前熔鹽法生長的KTP晶體的抗激光損傷閾值一般為0.4～0.8GW/cm²，最高也只能達到 2GW/cm²，灰跡問題嚴重限制了它在中等以上功率激光器上的應用。隨著激光技術的飛速發展，對KTP晶體的抗激光損傷閾值要求越來越高（5GW/cm²，甚至10GW/cm²）。這樣，用鹽熔法技術生長的KTP晶體就達不到這方面的要求，因此，開展用水熱法生長高抗激光損傷閾值KTF晶體的技術研究就成為迫在眉睫的課題。

1.KTP晶體生長工藝

KTP晶體生長的有關工藝參數如表1所列，在此生長條件下，KTP晶體沿（011）面的生長速度為0.15～0.17mm/d，生長出來的晶體透明、無色，無包裹體，外形良好，晶體尺寸可達40mm×25mm×25mm，如圖2所示。

表1 水熱法生長KTP晶體的有關工藝參數

圖2 水熱法生長的KTP晶體

2.KTP晶體性能測試

（1）透過率

我們將水熱法生長的KTP晶體按 λ＝1064nm→532nm時的Ⅱ類相位匹配（θ＝90°，φ＝26°）關系將晶體加工成3mm×3mm×7mm的器件，在LAMBDA900分光光度計上測試了晶體從200～3000nm波段的通過率，如圖3所示。

圖3 水熱法KTP晶體的透過率曲線

從圖3可以看出，水熱法生長的KTP在450～2500nm波段內透過率曲線非常平坦，不存在任何吸收峰，且透過率超過80%。從圖上還可以看到，水熱法生長的KTP晶體在2750nm波段附近存在由OH－引起的強烈吸收，這是水熱法晶體的共性，與熔鹽法 KTP晶體有很大不同。但這一吸收峰並不影響水熱法KTP晶體在Nd:YAG激光器1064nm波長倍頻到532nm波長上的應用。

（2）抗激光損傷閾值

對同一樣品，我們進行了抗激光損傷閾值測試。測試參數如表2所列。

表2水熱法KTP晶體抗激光損傷閾值測試參數

在樣品的3個不同部位測量其損傷閾值，均為30mJ，根據公式：

，可得脈沖寬度內平均面功率密度為9.5GW/cm²，該晶體064nm波長激光的損傷閾值為9.5GW/cm²。

三、水熱法合成氧化鋅（ZnO）晶體

襯底材料是發展微電子產業的重要基礎性材料，大尺寸、高質量的氧化鋅（ZnO）晶體是研究製作GaN,ZnO等發光電子器件的重要襯底材料，特點是：作為Zn（）薄膜的襯底材料，ZnO單晶具有任何其他襯底材料無法比擬的優勢——同質外延，因此其應用潛力巨大，市場前景寬廣。可以預計，隨著ZnO器件產業化的到來，對ZnO單晶的需求也會越來越大。因此重視並發展大尺寸高質量ZnO單晶的生長技術，不僅可以為今天ZnO器件的研究提供合適的襯底材料，更重要的是為將來ZnO器件的產業化打下堅實的基礎。

1.氧化鋅（ZnO）晶體生長工藝及生長結果

水熱法生長ZnO晶體所用的原料是由分析純ZnO粉末經等靜壓成型後在1200℃燒結而成的，有關的生長工藝參數見表3。

表3氧化鋅晶體的水熱法生長條件

在上述條件下，我們已經生長出了尺寸達到25mm×25mm×10mm的Zn（）晶體，其顏色為淺黃綠色，透明。晶體外形呈規則的六角對稱形狀，主要顯露面為

（圖4）。各方向的生長速度為：v

（即[0001]方向）方向與－C（即

方向]）方向生長速率差異明顯，前者大約是後者的兩倍，這是因為Zn（）晶體本身具有極性，晶體＋C面為帶正電荷的Zn原子面，－C面為帶負電荷的（）原子面，所以溶液中的負離子生長基團在＋C方向大於－C方向疊合速率。從結果可以看到柱面

生長速率比較緩慢，這是目前用水熱法生長更大尺寸的ZnO晶體所需要解決的關鍵問題之一

圖4 水熱法生長的ZnO晶體及其形貌示意圖

2.氧化鋅（ZnO）晶體性能測試

採用等離子體質譜分析（ICP-MS）對晶體＋C部分新生長層中的雜質含量進行了分析，結果如表4所示。從中可以看出由於沒有使用高純度的原料，造成晶體中雜質的含量比較大，特別是Al,Fe,K,Si,Pb等元素，其中的Au應是來自於黃金襯套管。

表4水熱法氧化鋅晶體雜質元素分析結果

取晶體＋C部分切片，對晶體（0001）面進行機械拋光後進行雙晶搖擺曲線w掃描，所得到曲線如圖5所示。從中可看出，其半峰寬為FWHM值為60弧秒，考慮到儀器入射X射線發散角為12弧秒，所以結果表明該樣品晶體結構完整性較好。

圖5 水熱法ZnO晶體雙晶搖擺曲線

四、結束語

我們應用水熱法合成 ,ZnO晶體的工作已取得重要進展，基本確定了KTP,ZnO晶體的水熱法生長工藝條件，合成出了可供實際應用的晶體材料。我們相信，這些材料的合成成功，將為我國相關產業的快速發展提供有利條件。

作者衷心感謝曾驥良教授、陳振強教授對本研究工作的指導和幫助！

參考文獻

邱志惠，霍漢德，阮青鋒等.2006.水熱法KTP晶體生長及形貌特徵.廣西師范大學學報（自然科學版），24（2）:52～55.

阮青鋒，霍漢德，覃西傑等.2006.水熱法 KTP晶體生長與宏觀缺陷研究.人工晶體學報，35（3）:608～611.

Zhang Chang-long,Huang Ling-xiong,Zhou Wei-ning et al.2006.Growth of KTP crystals with high damage threshold by hydrothermal method.Journal of Crys-tal Growth,292.364～367.

G. 水熱反應釜怎麼加熱

西安儀貝爾儀器解答：水熱反應釜一般怎麼加熱呢
將反應混合體系裝入了不銹鋼反應釜中，做水熱反應，一般用什麼設備加熱呢？
一般可以放烘箱中進行加熱，另外為保證實驗安全，實驗之前一定要了解化學反應熱力學、動力學，了解試驗過程中是否會有小分子分解，釋放大量能量，是否有毒有害的物質生成，避免實驗壓力過大，超過反應釜的極限壓力值，導致釜體變形。
同時，畢竟也是高溫高壓的實驗，實驗人員也要做好安全防護措施，如：戴好眼罩、面罩或在通風櫃內操作等。

H. 純化水檢測需要哪些儀器.設備

基本都是顏色反復應不需制要太多的儀器設備，硝酸鹽、不揮發物、重金屬檢查：水浴鍋；微生物限度檢查：潔凈操作台、薄膜過濾器（抽濾泵）、恆溫培養箱2個。凈得瑞純化水設備系統採用RO及EDI純化水工藝，產水水質滿足客戶的生產用水要求，符合GMP、FDA等認證要求。
水浴鍋主要用於實驗室中蒸餾，乾燥，濃縮，及溫漬化學葯品或生物製品，也可用於恆溫加熱和其它溫度試驗，是生物、遺傳、病毒、水產、環保、醫葯、衛生、化驗室、分析室、教育科研的必備工具。
薄膜過濾器，放式兩用無菌檢查薄膜濾器。該產品具有兩種培養方法通用性的特點。設計合理，濾器過濾部分採用玻璃材質，化學性能穩定，密封度強，有效防止外源性污染，確保菌檢成功率。
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I. 水熱合成時反應釜密封不緊會有什麼影響啊

水熱合成反應釜密封不緊時，當溫度到一定程度時會漏氣，影響實驗結果。達不到在一定溫度時產生的效果。

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