⑴ 電鍍鎳液大處理方法
傳統作法是在鍍液中各種雜質積累到一定程度，無法獲得滿意鍍層時，就要對鍍液進行大處理了。這里所說的雜質主要是無機雜質(如：鐵、銅、鉛、鋅、鉻等)和有機雜質。
對於常見的無機雜質目前廣泛使用的是第二代除雜劑。它是一種鰲合劑，能和銅、鐵等金屬形成配位體，使其沉積電位與鎳的沉積電位接近。與鎳共沉積，均勻地分散在鍍層中。
而有機雜質主要是光亮劑的分解產物。當有機雜質積累到一定含量後，會出現兩種症狀：一是低電流區鍍層不光亮，即使加人走位劑作用也不明顯。二是高電流區鍍層脆性明顯加大(鍍液中鐵雜質多時也有這種現象)。當出現這兩種現象時，就應該大處理鍍液。
此外，當鍍液中意外進入了鉻酸，硝酸等雜質時，也要進行大處理。
處理鍍鎳溶液的傳統方法是先調低鍍液pH值，然後加入雙氧水並升高鍍液溫度，加入活性炭攪拌鍍液，調pH值靜置過夜。過濾，調pH，電解試鍍。
若不加雙氧水處理鐵鋅等雜質，而是選用金屬除雜劑來掩蔽這些金屬離子使之與鎳共沉積，就不需要升高鍍液溫度。加入粉末活性炭0．2～0．5g／L來吸附有機雜質。這也是現在採用的一種處理方法。
如果要將光亮劑盡可能的吸附干凈，則應該加入雙氧水以破壞光亮劑中的雙鍵或叄健，以利於活性炭吸附。活性炭要按每升鍍液l0g的量加入，在常溫下吸附攪拌l～2h後靜止過夜。過濾後調pH值，升溫後，餘量雙氧水會自然分解。也可用少量高錳酸鉀將雙氧水破壞，但要在過濾前進行。
凈化結果採用霍爾槽方法檢驗。打試片結果應該是基本均勻的淺灰色鎳層，如果有針孔，則說明有雙氧水未除凈。如果鍍層低區光亮，則說明活性炭已失效。應重新處理鍍液。
⑵ 鎳缸用雙氧水如何大處理
先將槽液用稀硫酸調PH至3左右（低PH值下雙氧水氧化能力強），加入雙氧水，充分攪拌邊加熱至70-80度，內如果有銅鋅金屬離子容可用碳酸鎳（實際用片鹼,易買且便宜）調高至6.2，加入活性炭充分攪拌後靜置幾小時後過濾。將干凈的槽液用稀硫酸調PH至4.4左右。適量補加添加劑即可。沒有銅鋅離子雜志的話，加熱攪拌將雙氧水除盡後加入活性炭過濾，無需升高PH到6.2
⑶ 鍍鎳雙氧水怎麼處理
再加鍍鎳溶液,就可以了.五到六毫升/升?那就用膠頭滴管滴加鍍鎳溶液,慢慢加,可別再加過咯如有不懂歡迎追問希望採納謝謝!
⑷ 電鍍鎳缸為什麼要加雙氧水
正常情況下鍍鎳槽是不需要加雙氧水的，在光亮劑失調或者定期大處理時在槽液中加如雙氧水，主要是為了氧化光亮劑和一些有機雜質，然後用活性炭吸附去除，起到調整恢復光亮劑比例的作用
⑸ 化學鍍鎳的廢液處理
常見的化學鎳廢液處理工藝有化學沉澱法、常規蒸發工藝，處理成本高。
ENS-DR化鎳廢液干化設備，採用高效布膜，特殊剝離的技術，將化鎳廢液直接干化，連續固體出料，含水率＜10%，並且不會產生結垢。
⑹ 光亮鎳槽鍍鎳層發霧發花怎麼處理
鍍鎳層發霧發花問題主要是有機污染。
有機污染來自油污、添加劑的分解物。有機雜質導致鍍層發霧、發脆、針孔，嚴重時影響可焊性。少量的有機污染出現的針孔、麻點可通過補加潤濕劑來克服，當這樣做無效時，應對溶液進行活性炭處理。其處理工藝如下；
a,取出陽極，加除雜水5ml/l，加熱（60—80℃）打氣（氣攪拌）2小時。
b,有機雜質多時，先加入3—5ml/L的30%雙氧水處理，氣攪拌3小時。
c,將3—5g/l粉末狀活性在不斷攪拌下加入，繼續氣攪拌2小時，關攪拌靜置4小時，使用備用槽來過濾同時清缸。
d,清洗保養陽極掛回，用鍍了鎳的瓦楞形鐵板作陰極，在0.1—0.5A/dm2的電流密度下進行拖缸8—12小時（當鍍液存在無機物污染影響質量時，也常採用）
e,換過濾芯（一般用一組棉芯一組碳芯串聯連續過濾，按周期性更換可有效延長大處理時間，提高鍍液的穩定性）。活性炭處理通常會去除一部分去應力劑（添加劑），必須加以補充，分析調整各參數、加入添加劑潤濕劑即可試鍍。通過過濾機進行活性炭處理對鍍液日常維護是必須的，這樣還可以與小電流處理同時進行，達到一舉兩得。
要注意的是，潤濕劑太多也會導致鍍層發霧、發花，甚至構成有機污染。
⑺ 請問在化學鍍鎳溶液中加了雙氧水會有什麼後果會起什麼化學反映
化學鍍鎳是以次磷酸鹽為還原劑，經自催化電化學反應而沉積出鎳磷合金鍍層的新技術。鍍履過程由於是無電流通過的條件下進行的
雙氧水可能會氧化次磷酸根（雙氧水有強氧化性）
方程式不確定，次磷酸根的氧化產物一般為磷酸根
H2PO2- + 2H2O2 + H2O ==== PO43- + 3H2O + 2H+