❶ 在FeCl3溶液蝕刻銅箔製造電路板的工藝中,廢液(主要含有FeCl2和CuCl2)處理和資源回收的過程簡述如下:I
(復1)鐵與硫酸銅反制應生成銅和硫酸亞鐵,再通過過濾得到銅,所以鐵的作用是回收銅;反應物是鐵和氯化銅寫在等號的左邊,生成物是銅和氯化亞鐵,寫在等號的右邊,所以方程式是:Fe+CuCl2=FeCl2+Cu;
(2)固體中含有製取出來的銅和過量的鐵,鐵與酸反應,銅與酸不反應,所以加入稀鹽酸,鐵與鹽酸反應生成氯化亞鐵和氫氣,再通過過濾得到銅;
(3)鐵與氯化銅反應生成銅和氯化亞鐵,鐵與鹽酸反應生成氯化亞鐵和氫氣,所以濾液中溶質主要為氯化亞鐵,化學式是:FeCl2;反應物是Fe(OH)2與氧氣和水,寫在等號的左邊,生成物是氫氧化鐵寫在等號的右邊,用觀察法配平即可,所以方程式是:4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3.
故答案為:(1)回收銅;Fe+CuCl2=FeCl2+Cu;(2)加鹽酸反應後過濾;(3)FeCl2;4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3.
❷ (2012•海南)在FeCl3溶液蝕刻銅箔製造電路板的工藝中,廢液處理和資源回收的過程簡述如下
3中生成氫氧化鐵的反應不是溶液中離子的反應,是氫氧化亞鐵固體被氧化的結果,因此氫氧化鐵不用標沉澱符號。
望採納。
❸ 在FeCl3溶液蝕刻銅箔製造電路板的工藝中,廢液處理和資源回收的過程簡述如下:I:向廢液中投入過量鐵屑,
(1)Fe3+易水解,水解生成+,水解的離子方程式為Fe3++3H2O?Fe(OH)3+3H+,故答案為:Fe3++3H2O?Fe(OH)3+3H+;
(2)向廢液中投入過量鐵屑,鐵會和三氯化鐵溶液反應生成氯化亞鐵,和氯化銅反應生成銅和氯化亞鐵,所以加入鐵粉是為了得到銅,過濾得到固體是過量的鐵和銅,用鹽酸溶解鐵反應,銅不反應過濾得到銅,
故答案為:回收銅;Cu和Fe;
(3)濾液成分為氯化亞鐵溶液,加入石灰水反應生成氫氧化亞鐵沉澱,在空氣中迅速氧化為氫氧化鐵;反應的化學方程式為:FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3,
故答案為:FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2 、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3;
(4)過程Ⅱ中調節溶液的pH為5,常溫下溶液中氫氧根離子濃度為10-9mol/L,依據溶度積常數計算鐵離子濃度,Fe(OH)3(s)?Fe3++3OH-;Ksp=c(Fe3+)×c3(OH-),c(Fe3+)=
4.0×10?38 |
(10?9)3 |
現在電解銅箔廢水處理都採用膜處理技術,純水制備有兩種一是用離子交換樹脂處理,二是用膜處理。根據不同情況而定
❺ 在FeCl 3 溶液蝕刻銅箔製造電路板的工藝中,廢液(主要含有FeCl 2 和CuCl 2 )處理和資源回收的工業流程如
(1)2FeCl 3 +Cu=CuCl 2 ++2FeCl 2 Fe+CuCl 2 =Cu+FeCl 2
(2)鐵和銅(化學式也可)洗滌(3)紅褐 4Fe(OH) 2 +O 2 +2H 2 O=4Fe(OH) 3 ❻ 在FeCl3溶液蝕刻銅箔製造電路板的工藝中,廢液(主要含有FeCl2和CuCl2)處理和資源回收的工業流程如圖:
(1)銅和氯化鐵反應能生成氯化亞鐵和氯化銅,反應的化學方程式為:2FeCl3+Cu=CuCl2++2FeCl2.版 ❼ 銅箔生產過程中產生的廢水怎麼處理
之前給銅箔生產企業設計過一次,可以分類收集,含銅廢水一路、含鎳鋅廢水一路回、含鉻廢答水一路,含銅廢水用CH-90螯合樹脂回收銅,並達到排放標准,可加一混床處理後回用;含鎳鋅廢水也是用CH-90螯合樹脂處理回收鎳鋅,也加一個混床樹脂處理後回用;含鉻廢水可以用A-21S樹脂回收六價鉻,加混床處理後回用,洗脫液經陽樹脂除鈉後回收鉻酸。 ❽ 在FeCl3溶液蝕刻銅箔製造電路板的工藝中,廢液處理和資源回收的過程簡述如下:(己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.
(1)FeCl3蝕刻銅箔反應是三價鐵離子具有氧化性和銅反應生成亞鐵離子和銅離子,反應的離子方程式為:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,故答案為:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+;
故答案為:c(Fe3+)=
❾ FeCl3可用於腐蝕有銅箔的絕緣膠板,用電解法處理反應後的廢液,陰陽極反應式以及現象
陰極有金屬銅產生,Cu2++2e=Cu 與銅箔生產廢水處理相關的資料
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