腐蝕試驗蒸餾水洗去表面鹽分

㈠ 我需要用氯化鈉溶液來做不銹鋼產品的腐蝕測試，請問用蒸餾水和自來水有什麼區別嗎

應該使用蒸餾水，這也是此類測試的基本要求。自來水通常含有各種各樣的雜質，比如自來水中含有明礬，含有鈣鎂離子等，有的可能還因為加有漂白粉，如果時間不長，會帶有少量的氯離子，而且含量也不固定，影響測試結果的准確性。
至於反應是更快還是更慢，要看自來水其中的微量成分含量的不同。但總之，是不準確的，不具有重復性。
蒸餾水可以避免這些問題。

㈡ 過濾時用蒸餾水洗滌濾紙上的硫酸鋇沉澱以除去其表面的可溶性雜質，這個解釋一下為什麼

解析： 以下面方程式為例：
BaCl2 + Na2SO4 = BaSO4(沉澱）+2NaCl
因為在溶液中反應，生成的BaSO4沉澱表面有Na+和Cl-. 所以過濾時用蒸餾回水洗滌濾答紙上的硫酸鋇沉澱以除去其表面的可溶性雜質。

㈢ 蒸餾法除鹽的流程是什麼

蒸餾法是分離、純化液態混合物的一種常用的方法，也可以測定液態化合物的沸點，因此對鑒定純液態化合物有一定的意義。常用的蒸餾裝置，用標准磨口儀器裝配，由圓底燒瓶、蒸餾頭、溫度計、冷凝管、接收管和接收瓶組成。當用普通玻璃儀器裝配蒸餾裝置時，通常使用帶支管的蒸餾燒瓶，各玻璃儀器間用膠塞連接。基於兩種同位素分子的揮發性（沸點）的差異，藉助於加熱液態同位素混合物來實現同位素分離的方法.當同位素混合物被加熱並同時存在於氣液兩相時，易揮發的同位素分子又較多地存在於氣相內，而難揮發的同位素分子則較多地存在於液相內.這樣，在氣相中就濃集了易揮發的同位素，而在液相中濃集了較難揮發的同位素.

例如，輕水（H20）的沸點在常壓下為100℃，而重水易揮發，在氣相中氫較多，而在液相中氘較多.這種方法設備和操作工藝較簡單，但能量消耗較大，.蒸餾法仍是工業規模分離輕同位素的主要方法之一，液體的分子由於分子運動有從表面溢出的傾向。這種傾向隨著溫度的升高而增大。如果把液體置於密閉的真空體系中，液體分子繼續不斷地溢出而在液面上部形成蒸氣，最後使得分子由液體逸出的速度與分子由蒸氣中回到液體的速度相等，蒸氣保持一定的壓力。此時液面上的蒸氣達到飽和，稱為飽和蒸氣，它對液面所施的壓力稱為飽和蒸氣壓。實驗證明，液體的飽和蒸氣壓只與溫度有關，即液體在一定溫度下具有一定的蒸氣壓。這是指液體與它的蒸氣平衡時的壓力，與體系中液體和蒸氣的絕對量無關。

㈣ 鹽霧腐蝕實驗樣品放置

鹽霧試驗國家標准：國家標准:GB/T2423.17-93中型鹽霧試驗標准(NSS)電工電子產品基本環境試驗規程試驗Ka：鹽霧試驗方法1試驗目的本標准用於考核材料及其防護層的抗鹽霧腐蝕能力，以及相似防護層的工藝質量比較，也可用來考核某些產品抗鹽霧腐蝕能力。本標准不作為通用的腐蝕試驗方法。2試驗設備2.1用於製造試驗設備的材料必須是抗鹽霧腐蝕的和不影響試驗結果的。2.2試驗設備中的條件應該保持在本標准第3章規定的限度之內。2.3鹽霧不得直接噴射到試驗樣品上。2.4試驗設備內部的頂和壁等部位所聚集的水珠不得滴落在試驗樣品上。2.5試驗設備內外氣壓必須平衡。3試驗條件3.1鹽溶液採用氯化鈉(化學純以上)和蒸餾水配置，其濃度為5±0.1%(重量)。物化後的收集液，除擋板擋回部分外，不得重復使用。3.2霧化前的鹽溶液的PH值在6.5~7.2(35℃)之間。配置鹽溶液時，允許採用化學純以上的稀鹽酸或氫氧化鈉水溶液來調整PH值，但濃度仍須符合地3.1條的規定。3.4用面積為80cm2的漏斗收集連續霧化16h的鹽霧沉降量，有效空間內任一位置的沉降率為：1.0~2.0ml/h.80cm2。3.5本標准採用連續霧化，推薦的標准試驗時間為16、24、48、96、168、336、672h。3.6霧化時必須防止油污、塵埃等雜質和噴射空氣的溫、濕度影響有效空間的試驗條件。4試驗程序4.1初始檢測試驗前，試驗樣品必須進行外觀檢查，以及按有關標准進行其它項目的性能測定。試件樣品表面必須干凈、無油污、無臨時性的防護層和其它弊病。4.2條件試驗試驗樣品不得相互接觸，它們的間隔距離應是不影響鹽霧能自由降落在試件樣品上，以及一個試驗樣品上的鹽溶液不得滴落在其它試驗樣品上。試驗樣品放置位置由有關標准確定，一般按產品和材料使用狀態放置(包括外罩等)；平板試驗樣品需使受試面與垂直方向成30°角。試驗樣品放置後按第3章規定的試驗條件進行條件試驗，試驗持續時間按有關標准規定從第3.5條的規定中選取。4.3恢復試驗結束後，用流動水輕輕洗掉試驗樣品表面鹽沉積物，再在蒸餾水中漂洗，洗滌水溫不得超過35℃，然後在標準的恢復大氣條件下恢復1~2h，或按有關標准規定的其它恢復條件和時間。4.4最後檢測恢復後的試驗樣品應及時檢查記錄，檢查項目、試驗結果評定和合格要求均由有關標准規定。4.5採用本試驗方法時，應對下列項目作出具體規定：a.初始檢測b.安裝細節c.試驗持續時間d.恢復e.最後檢測建議多看看書別人的只能參考，沒有意義

㈤ 如何使用鹽霧試驗機

一、初始檢測

試驗前，試驗樣品必須進行外觀檢查，如果需要可按有關標准進行其他項目的性能測定。試驗樣品表面必須干凈、無油污、無臨時性的保護層出不窮和其他弊病。

二、預處理

按有關標准規定，對即將試驗的試驗樣品進行清潔，所用清潔方法應不影響鹽霧對試驗樣品的作用，試驗前應盡量避免用手直接觸摸試驗樣品表面。

三、條件試驗

1、試驗樣品放置位置由有關標准規定，一般按其正常使用狀態放置(包括外罩等)：平板試驗樣品需使受試面與垂直方向成30度角

2、試驗樣品不得相互接觸，它們的間隔距離應是不影響鹽霧能自由降落在試驗樣品上，以及一個試驗樣品上的鹽溶液不得滴落在其他試驗樣品上。

3、試驗樣品放置後按有關標准規定進行條件試驗，試驗持續時間按有關標准規定進行。

四、恢復

試驗結束後，用流動水輕輕洗去試驗樣品表面鹽沉積物，再在蒸餾水中漂洗，洗滌水溫不得超過35℃,然後在標的恢復大氣條件下恢復1-2h,或按有關標准規定的其他恢復條件和恢復時間。

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注意事項

1、設備運轉之前請確認電源的連接。

2、供氣系統之確認。

3、自動供水系統之確認。

4、排氣孔檢查。

5、隔絕水槽密封之確認。

6、配製鹽溶液時，請使用分析純級NaCl和蒸溜水或去離子水配製，並做到即配即用。

㈥ 金屬資源腐蝕探究實驗,為什麼要用新制的蒸餾水

新制的蒸餾水裡面雜質離子非常少,如果用放置了一段兒時間的蒸餾水,則其中難免會有混入的雜質離子

㈦ 鹽霧試驗PH值怎麼測試主要是用什麼東西或一起來測試

PH-6.5-7.2

國家標准:GB/T2423.17-93中型鹽霧試驗標准(NSS)

電工電子產品基本環境試驗規程
試驗Ka：鹽霧試驗方法

1 試驗目的
本標准用於考核材料及其防護層的抗鹽霧腐蝕能力，以及相似防護層的工藝質量比較，也可用
來考核某些產品抗鹽霧腐蝕能力。
本標准不作為通用的腐蝕試驗方法。
2 試驗設備
2.1 用於製造試驗設備的材料必須是抗鹽霧腐蝕的和不影響試驗結果的。
2.2 試驗設備中的條件應該保持在本標准第3章規定的限度之內。
2.3 鹽霧不得直接噴射到試驗樣品上。
2.4 試驗設備內部的頂和壁等部位所聚集的水珠不得滴落在試驗樣品上。
2.5 試驗設備內外氣壓必須平衡。
3 試驗條件
3.1 鹽溶液採用氯化鈉(化學純以上)和蒸餾水配置，其濃度為5±0.1%(重量)。物化後的收集液，除
擋板擋回部分外，不得重復使用。
3.2 霧化前的鹽溶液的PH值在6.5~7.2(35℃)之間。配置鹽溶液時，允許採用化學純以上的稀鹽酸或
氫氧化鈉水溶液來調整PH值，但濃度仍須符合地3.1條的規定。
3.4 用面積為80cm2的漏斗收集連續霧化16h的鹽霧沉降量，有效空間內任一位置的沉降率為：
1.0~2.0ml / h.80cm2。
3.5 本標准採用連續霧化，推薦的標准試驗時間為16、24、48、96、168、336、672h。
3.6 霧化時必須防止油污、塵埃等雜質和噴射空氣的溫、濕度影響有效空間的試驗條件。
4 試驗程序
4.1 初始檢測
試驗前，試驗樣品必須進行外觀檢查，以及按有關標准進行其它項目的性能測定。試件樣品表
面必須干凈、無油污、無臨時性的防護層和其它弊病。
4.2 條件試驗
試驗樣品不得相互接觸，它們的間隔距離應是不影響鹽霧能自由降落在試件樣品上，以及一個
試驗樣品上的鹽溶液不得滴落在其它試驗樣品上。
試驗樣品放置位置由有關標准確定，一般按產品和材料使用狀態放置(包括外罩等)；平板試驗
樣品需使受試面與垂直方向成30°角。
試驗樣品放置後按第3章規定的試驗條件進行條件試驗，試驗持續時間按有關標准規定從第3.5
條的規定中選取。
4.3 恢復
試驗結束後，用流動水輕輕洗掉試驗樣品表面鹽沉積物，再在蒸餾水中漂洗，洗滌水溫不得超
過35℃，然後在標準的恢復大氣條件下恢復1~2h，或按有關標准規定的其它恢復條件和時間。
4.4 最後檢測
恢復後的試驗樣品應及時檢查記錄，檢查項目、試驗結果評定和合格要求均由有關標准規定。
4.5 採用本試驗方法時，應對下列項目作出具體規定：
a.初始檢測 b.安裝細節 c.試驗持續時間 d.恢復 e.最後檢測

㈧ 用於腐蝕試驗的金屬試樣應該注意些什麼

應該對金屬進行打磨處理，至金屬界面光滑，然後用丙酮除油，並用蒸餾水反復沖洗，然後快速吹乾備用。在做掛片實驗和電化學實驗時，對金屬試樣的工作面積都有一定的要求，所以金屬試樣應該有確定的尺寸和規整的形狀