超纯水的有机物含量多少合格

『壹』 超纯水基本概况

超纯水是一种具有极高纯度的水，它在众多高科技领域中扮演着重要角色。集成电路工业中，它被用于半导体材料的清洗、光刻掩模版的制备，以及硅片氧化过程中的水汽源等关键环节。其他如固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制造过程中，超纯水也是不可或缺的组成部分。

超纯水的定义是其杂质含量极低，具体包括无机电离杂质如Ca、Mg、Na等离子，以及有机物、颗粒（如尘埃、氧化铁等）、微生物和溶解气体（如N2、CO2等）。其电离杂质的纯度通过电阻率衡量，通常在25℃时，电阻率高达18.3兆欧·厘米，一般维持在15至18兆欧·厘米之间。

有机物含量的控制是通过测定碳含量来实现的，电子工业中的超纯水规定有机物含量在50至200微克/升，同时对大于1微米的颗粒和微生物含量有严格限制。现代技术如预处理（砂滤、活性炭过滤等）、电渗析、反渗透、离子交换、超滤等方法被广泛应用，以确保超纯水的电阻率达到18兆欧·厘米，达到高纯度标准。

超纯水的制备工艺分为预处理、脱盐和精处理三个步骤。预处理涉及砂滤、软化、pH调节、活性炭过滤、脱气等步骤，以去除颗粒、防止膜结垢、杀菌和清除有机物。脱盐阶段采用电渗析和反渗透技术，前者利用离子选择性透过性，后者通过压力使溶剂逆向渗透，能有效脱盐和去除微生物。离子交换则用于进一步去除剩余的离子。精处理阶段包括紫外线杀菌、终端膜过滤和超滤，紫外线能破坏微生物核酸结构，膜过滤则能过滤掉大于0.2微米的粒子。

总之，超纯水的高纯度使其在众多精密科学和工业应用中发挥着核心作用，严格的制备过程确保了其卓越的品质和纯净度。

纯度极高的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

『贰』 超纯水的toc值是多少

标准

众所周知，不同的行业对各项生产用水水质标准都有相应的要求。一般来说，纯水、超纯水在各行业的水质标准都有一定的规律范围。

1.电导率≤10μS/CM 动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水。

2.普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯纯水、聚酯切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水。

纯水设备

3.电导率≤4μS/CM 电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化纯水。

4.白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水用纯水、普通化妆品生产用纯水、血透纯纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水。

5.电阻率5~10MΩ.CM 锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水。

6.电阻率:10~15MΩ.CM 动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻简激璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水。

超纯水设备

7.电阻率≥15 MΩ.CM 医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水。

8.电阻率≥17 MΩ.CM 磁性材料锅禅宴炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯贺咐银水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水。

9.电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水。

『叁』 超纯水各元素的含量

既然是超纯水，那就不考虑其他杂质元素。就只考虑组成水的两种元素。分别是氢元素和氧元素。然后由于水的化学式是H2O占比就是1:8

『肆』 超纯水是什么

超纯水（ultrapure water）又称高纯水，是指将水中的导电介质几乎全部去除，又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。超纯水的含盐量在0.1mg/L以下，电导率小于0.1μs/cm。

超纯水作为所有的实验用水都可以，特别是高灵敏度ICP/MS、ppt级分析、同位素分析、疾控中心、药检所、质检所、环监站、高校科研等标准实验室及各种高端精密仪器用水。

物质介绍

超纯水：既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值（25℃）。

超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm（25℃）。

超纯水是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。

制作流程

超纯水是指下列杂质含量极低的水：①无机电离杂质，如 Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等；②有机物，如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等；③颗粒，如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等；④微生物，如细菌、浮游生物和藻类等；⑤溶解气体，如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上，纯水中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水的电阻率为 18.3（兆欧·厘米），一般约为15～18（兆欧·厘米）。

超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定，电子工业超纯水中规定含量为50～200微克/升，并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1～2个，微生物每1毫升为0～10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线杀菌、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等，使超纯水的电阻率在25℃时达到18（兆欧·厘米）。

依各种原水水质和用户要求的不同，超纯水的制备工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。

应用领域

1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。

3.单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。

4、高压变电器的清洗等。

区别介绍

纯水是指既将水中易去除的强电介质去除，又将水中难以除去的硅酸及二氧化碳等弱电解质去除至一定程度的水。纯水的含盐量在1.0mg/L以下，电导率小于50μs/cm。

超纯水（高纯水）是指将水中的导电介质几乎全部去除，又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。高纯水的含盐量在0. 3mg/L以下，电导率小于0. 2μs/cm。