超純水進水要求

⑴ 電子廠用的超純水，出水電阻率要求≥15MΩ.cm@25℃，進水為符合國家GB5749-2006飲用水標准。

可以肯定復告訴你，雙級反滲透制不能達到出水電阻率≥15MΩ.cm@25℃，最多都只能達到0.15MΩ.cm@25℃。要達到出水電阻率≥15MΩ.cm@25℃，目前常用的工藝是砂濾+炭濾+軟化+一級反滲透+水箱+二級反滲透+水箱+紫外線殺菌器+EDI+TOC降解器+拋光混床+終端過濾器，輸送管道最好用CPVC，這樣終端用水點的水質都能在17MΩ.cm@25℃以上，用水水質是就高不就低的，通過這樣的流程，你要求的水質是完全沒問題的，如果你要求的是制水系統的產水處的水質≥15MΩ.cm@25℃，那到EDI為止就可以了，EDI產水水質通常≥16MΩ.cm@25℃。

⑵ 實驗室超純水設備，技術要求是什麼

實驗室用超純水設備特點

1.產水水質高而具有較佳的穩定度高。

2.連續版不間斷制水，不因再權生而停機

3.模塊化生產，並可實現全自動控制

4.不須酸鹼再生，無污水排放

5.無酸鹼再生設備和化學葯品儲運。

6.設備結構緊湊，佔地面積小

7.運行費用及維修成本低

8.運行操作簡單，勞動強度低

9.採用全自動控制，系統運行時可設定自動反洗、再生程序。

詳情可見官網：網頁鏈接

⑶ 純水的標準是什麼是超純凈水的標準是什麼

純水和超純來水一般都沒有源統一的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。

⑷ 食品行業用超純水設備，EDI進水標准

水源：（二級）反滲透RO產水，電導率1-10us/cm，最大電導率≤25us/cm（NaC1）
PH值：版7.0-8.5（pH7.0-8.0之間EDI可有最佳電阻權率性能）
溫度：15℃--35℃，（EDI最佳溫度在25℃）
進水壓力（Dw）：0.15-0.4MPa
濃水進水壓力（Cns）：比Ds端壓力低0.06-0.1MPa（必須）
產水壓力（Dour）：0.05-0.20MPa
濃水出水壓力（Cour）：比Dor端壓力低0.05-0.1MPa（必須）
進水硬度：<0.5ppm（碳酸鈣計）進水有機物：TOC<0.5ppm
進水氧化劑：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羥基氧）<0.02ppm
進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子<0.01ppm
進水硅：Si0₂<0.5ppm（反滲透RO產水典型範圍是50-150ppb）
進水總CO2：<3ppm
進水顆粒度：<1um

⑸ RO的進水硬度指標和超純水的硬度指標各是多少

凈水設備在RO裝置之前需要使用離子交換樹脂（鈉離子）處理至15-50ppm，這樣可以提高RO設備的處理效率同時提高RO設備使用壽命。
超純水硬度低於1ppm.

⑹ 光伏生產用超純水設備進水水質有哪些要求

(1)光伏生產用超純水設備進水總鹽量(CaCO3計)：<25ppm或50μs/cm
(2)光伏生產用超版純水設備進水PH值：權5.0～9.0
(3)光伏生產用超純水設備進水TOC：<0.5ppm
(4)光伏生產用超純水設備進水Fe、Mn、H2S：<0.01ppm
(5)光伏生產用超純水設備進水余氯：<0.05ppm
(6)光伏生產用超純水設備進水硬度(CaCO3計)：<2.0ppm
(7)光伏生產用超純水設備進水可溶硅：<0.5ppm

⑺ 超純水設備在安裝和使用時需要注意哪些問題

超純水設備在安裝時需要注意的問題

1、超純水設備安裝場地應平整，環境整潔，緊靠專電源、水源。請勿屬靠近火源及任何發熱體。

2、在北方地區不得將超純水設備安裝在室外，以防設備內部凍結，損壞儀表及過濾元件。

3、設備安裝位置應能方便排水，使設備的排水管保持順暢。

4、當水源壓力<0.12Mpa，流量<3.0T/H時，本機運行中會反復出現多級泵起動---停止---起動的現象。這時本機就要停止使用，防止燒毀電機，水壓和流量不足的地區，請在本設備前增加原水罐。

5、超純水系統所用的水泵工作壓力確保在1.0-1.2Mpa，確保水泵在其額定揚程范圍內工作。

⑻ 純水和超純凈水的標准各是什麼

純水和超抄純水一般都沒有統一襲的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。

⑼ 半導體行業超純水質量會有哪些要求

超純水的應用領域涵蓋了整個電子行業，還有許多新能源行業也有涉獵，比如我們常說的晶元、半導體、光伏等等。今天我們主要來說一下半導體領域中超純水的應用。
在半導體生產中，超純水都會被應用在哪裡?答案是在晶圓沖洗、化學品稀釋、化學機械研磨、潔凈室環境中都會應用到。那麼，質量會有哪些要求?雖然每個行業都使用所謂的「超純水」，但質量標准卻各不相同。半導體所用的超純水需要達到的水質標准為：我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。