① 半導體純水為什麼對硅含量有要求
1)
本徵半導體是一種完全純凈的、結構完整的半導體晶體。絕對零度時價帶被價版電子填滿,權導帶是空的。
2)
隨著溫度的升高,本徵載流子濃度迅速地增加,在本徵時器件不能穩定工作。而對於摻雜半導體,室溫附近載流子主要來源於雜質電離,在雜質全部電離的情況下,載流子濃度一定,器件就能穩定工作。所以,製造半導體器件一般都會用含有何當雜志的半導體材料,而且每一種半導體材料製成的器件都有一定的極限工作溫度,超過這一溫度後,器件就會失效。
3)
雜質在元素半導體
Si和Ge中的作用:是半導體Si\Ge的導電性能發生顯著的改變。
復制別人的
呵呵
還是希望能幫助你
② 請問半導體廠房用的純水和廢水處理是怎麼收費的,按流量計費每立方大約多少錢是否和普通自來水收費不同
是按照多少量來計費的,在多少噸以內是多少錢,然後在按噸收取費用 。
③ 純水,純化水,超純水有什麼區別
純水,純化水,超純水的區別如下:
1、製造工藝的的難易程度不同。
純化水是用水經蒸餾法、離子交換法、反滲透法或其他適宜方法制備得到的制葯用水。
超純水是在純水的基礎上經過光氧化技術、精處理和拋光處理等一系列復雜的純化技術製得的。這樣的水是一般工藝很難達到的程度,理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理,但是交換樹脂的再生不便,質量難以保證。
2、重金屬、細菌、微粒數等指標也大不相同。
純水雜質含量是ppm級,而超純水為ppb級,這種水中除了水分子外,幾乎沒有什麼雜質,更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物,當然也沒有人體所需的礦物質微量元素,也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。
3、用途不一樣
純水主要應用在生物、 化學化工、冶金、宇航、電力等領域。
純化水一般作為供葯用的水。
超純水一般用於電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
4、電導率不同。
純水電導率在 2-10us/cm 之間,純化水電導率≤0.2us/cm,超純水的電導率為 0.056us/cm。
④ 半導體純水為什麼對硅含量有要求
1) 本徵半導體是一種完全純凈的、結構完整的半導體晶體。絕對零度時價帶被價電子版填滿,導帶是空的。權
2) 隨著溫度的升高,本徵載流子濃度迅速地增加,在本徵時器件不能穩定工作。而對於摻雜半導體,室溫附近載流子主要來源於雜質電離,在雜質全部電離的情況下,載流子濃度一定,器件就能穩定工作。所以,製造半導體器件一般都會用含有何當雜志的半導體材料,而且每一種半導體材料製成的器件都有一定的極限工作溫度,超過這一溫度後,器件就會失效。
3) 雜質在元素半導體 Si和Ge中的作用:是半導體Si\Ge的導電性能發生顯著的改變。
復制別人的 呵呵 還是希望能幫助你
⑤ 半導體行業用純水機嗎
不需要,半導體行業用的不是純水機,而是一種專門給半導體行業配備的水機,而不是純水機
⑥ 半導體廠房用的純水,按流量計費每立方大約多少錢廢水處理,按流量計費的每立方大約多少錢
這個沒有具體標準的,因為這個水分很多級別,級別不同報價也不一樣,然後跟每小時的水量也不一樣,大概5-6萬,主要看配置。你可以把你的詳細情況說下。
⑦ 光伏行業晶體管,半導體集成電路為什麼一定要用純水
半導體工業就是通過在本徵半導體(比如純硅)里摻雜質來調節半導體材料導內電性和其它容物理化學性能的,極微量雜質就會劇烈改變半導體材料的性能,所以整個生產過程必須用去離子水,以減少非必要雜質的引入。去離子水是高純水,自來水乃至蒸餾水都達不到去離子水的純度。
⑧ 半導體工業中為什麼要用去離子水
因為許多雜質(重金屬、鈉、鉀等)對於半導體特性的影響很大,在半導體表面清洗時,需要去掉這些有害雜質,以免在高溫處理時讓這些雜質進入到半導體中,故在清洗時必須採用純凈的去離子水。
⑨ 半導體超純水設備的價格為何會有很大的差別
當前國內半導體行業應用的超純水設備一般有前端預處理及RO、回EDI提純等工序。
1.根據超純水設答備的材質不同,選用的RO膜的品牌不同以及EDI模塊的噸位及品牌區別,價格上也有很大的差距。
2.其中價格中膜元件及設備材質因素會極大地影響整體設備的價格。
3.具體的加工工藝以及廠家報價也會對價格有所影響。
詳情可見官網:網頁鏈接
⑩ 半導體超純水設備生銹應該如何解決
1、維護膜復有些決裂或塗料有些制掉落,這些決裂或掉落塗料的地方會遭到腐蝕。
2、保證防腐塗料具有良好的附著力、柔韌性以及耐長期沖刷的性能。
3、保證防腐塗料在運輸、安裝及使用中有良好耐紫外線照射及防水防凍的性能。
4、半導體超純水設備管道內外噴漆防腐,金屬外表所觸摸的水溶液中,氧的濃度不一樣,構成氧的濃差電池,富氧有些為陰極,而缺氧有些則成陽極遭到腐蝕。