EDI消毒水

1. EDI去離子水設備的日常維護，怎麼做

運行數據記錄

EDI模塊系統記錄表應每天填寫，以便及早發現是否有可能會使保修失效或專對膜堆造成破壞的問題屬。在本章最後附有一張常用的記錄表。因為具體的儀器儀表可能會因安裝膜堆的系統不同而各異，因此本記錄表可能不適用於您所用的系統。系統手冊應包含有更適合您所用的系統的記錄表。但表中的粗體字項目必須填寫，以確保膜堆的保修有效。

定期維護

至少每六個月對膜堆進行一次下述檢測。

1.檢査膜堆是否有任何漏水的跡象。如有漏水，請査看檢修部分以尋求可能的解決方案

2.仔細檢査膜堆是否在隔板，電極板，或端板上留下鹽類沉積物。如有明顯的鹽類沉積物，請關閉電源，洗去膜堆上的鹽類沉積物。

警告：未能清除膜堆上的鹽類沉積物將導致膜堆或系統的損壞。

3.定期擰緊所有電力連接頭。

4.檢査膜堆螺栓的扭矩。

特殊性維護指南

EDI膜堆可能需要定期凊洗或消毒。清洗除去膜堆中的結垢及樹脂/膜上的污染物。

2. 水處理中EDI膜塊具不具備消毒作用，它的原理是什麼

1 不具備來消毒。消毒用紫外線及巴氏消自毒或蒸汽消毒。
2 EDI工藝系統代替傳統的DI混合樹脂床來製造去離子水。利用反滲透技術進行一次除鹽，再用EDI技術進行二次除鹽就可以徹底使純水製造過程連續化避免使用酸鹼再生。
電去離子（EDI）工藝採用一種離子選擇性膜和離子交換樹脂夾在直流電壓下兩個電極之間離子選擇性膜同離子交換樹脂有著相同的工作原理和原材料，他們用於將某種特定的離子進行分離。陰離子選擇性膜允許陰離子透過而不能透過陽離子，陽離子選擇性膜允許陽離子透過而不能透過陰離子，這兩種膜不允許水透過。
通過在一個層狀、框架式的組件中放置不同的陰離子選擇性膜和陽離子選擇性膜，就建立了並列交替的淡水室和濃水室。離子選擇性膜被固定在一個惰性的聚合體框架上，框架內裝填混合樹脂就形成淡水室，淡水室之間的層就形成了濃水室。
EDI基本重復單元叫做「膜對」，見插圖1。模塊的膜對放置在兩個電極之間，兩電極提供直流電場給模塊。在提供的直流電場推動下，離子通過膜從淡水室被輸送到濃水室。因此，當水通過淡水室流動時，逐步達到無離子狀態，這股水流就是產品水流。

3. EDI模塊怎麼保養

1.EDI模塊的清洗保養方案 1、RO系統的清洗 1)准備關閉對應系統的產水手動專閥屬,打開對應系統的產水排放閥,濃水底部放水閥,放盡系統內存水後,關閉這幾個閥門門。打開對應系統的清洗進水閥,產水回水閥、濃水回水閥...
2.EDI系統清洗保養方案 1)、EDI的清洗方法: 2) 根據EDI的運行狀態,EDI的清洗採用酸洗—消毒—鹼洗的方法來清洗EDI模塊。 1.清洗時,EDI的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從「原水進」...

4. 請問美國Ionpure EDI模塊清洗和消毒的方法有那些

清洗
隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
- 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；
- 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；
- 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；
- EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢；
- 以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。
例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用於例行的消毒，只適用於嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。
安全
1) 避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學物質，過氧化氫是氧化劑。
2) 將整個管線降壓以避免高壓化學葯劑噴濺。
3) EDI系統在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電並鎖定。
清洗化學品規范
所有化學品應必須達到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%: ACS級,或達到水系統清洗的商用濃度。鹽酸(HCl) ACS或技術級氫氧化鈉(NaOH): 球狀, NF, ACS或凈化級; 或50% w/w 溶液。

5. 純化水設備 做edi滅菌消毒 為什麼二級高壓泵跳閘

一般這種情況多出現熱保護報警，說明你用的電子元器件不適合巴氏消毒的溫度，或者在溫度升高的情況下電路發生短路情況。請檢查下。

6. 請教：純化水機組，RO膜和edi出水微生物超標，如何對ro和edi進行消毒

消毒和滅菌是兩個概念，純化水制備系統一般用消毒，EDI和RO膜生產廠家一般對自己的產品的化學消毒法都有固定的配方，請LZ根據自己的型號選擇，現在好像有能耐巴氏消毒的RO膜，只是價格較高。

7. 有誰用過一級反滲透+EDI純化水制備系統，使用效果如何。

一級反滲透+EDI純化水制備系統比二級反滲透的電阻率高，不過EDI的使用壽命較短（3、4年左右），而且EDI不易清洗和消毒（微生物這塊可能較二級反滲透較差一些)。

8. 什麼是EDI水處理裝置 主要是去除水中的那些物質

EDI就是高純水設備 主要用在醫葯消毒上和電子行業 這個水中的位置基本為零了 只是水分子了 它的電阻率可以達到18兆歐

9. 超純水系統的EDI系統怎麼清洗

1、清洗時，EDI系統的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從原水進和濃水回進清答洗口進入EDI，從「產水」、「濃水出」、「極水出」回到清洗水箱。(正洗)
2、第一步 酸洗：清洗水箱中配製2.0%鹽酸溶液，循環30分鍾。
沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉後，將水箱中水沖洗至中性，然後將清洗進和迴流管清洗到迴流水至中性。
第二步 消毒：清洗水箱中配製0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環50分鍾。
沖洗：清洗水箱中消毒液放掉後，清洗EDI至水箱中迴流水至電導率降至100μs/cm以下。
第三步：鹼洗：水箱中配製1.2%NaOH+5.0%NaCL的溶液，循環50分鍾。

10. EDI裝置過後水質處於超純水了，為什麼EDI產水還要消毒殺菌

當然不同來，EDI深度脫鹽裝置源是一種專用於高純水制備的深度去離子裝置，其具有無需酸鹼自動加電再生，具有出水水質穩定，操作簡便，運行穩定等顯著優點，EDI運行會產生濃水和極水。而混床一般是不再生的，也沒有廢水排出，一般用於製取高純水的末端。