⑴ 請問半導體工藝廢氣如何處理
半導體廢氣處理廢氣介紹：由於半導體工藝對操作室清潔度要求極高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發為主。這些廢氣主要可以分為四類：酸性廢氣、鹼性廢氣、有機廢氣和有毒廢氣。廢氣危害：半導體製造工藝中產生的廢氣如果沒有經過很好的處理進行排放，將造成嚴重的問題，不僅影響人們的身體健康，惡化大氣環境，造成環境污染的公害事件等，也會成為半導體製造中AMC污染的重要來源。處理方法：依據這些廢氣的特性，在處理上採用水洗、氧化/燃燒、吸附、解離、冷凝等方法，針對不同污染物，可採取以下綜合處理方法：1.一般排氣系統 2.酸性、鹼性廢氣處理系統 3.有機廢氣處理系統
⑵ 半導體污水處理流程
(1)將半導體器件製造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，形成混合廢水;(2)將步驟(1)的混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾;(3)將經過步驟(2)過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。本發明採用上述半導體加工混合廢水經浸沒式膜過濾裝置過濾及納濾膜過濾裝置過濾處理，可回收大於85%的水資源，回收水質穩定，回收水質完全達到和優於國家標准，整個處理過程未添加任何化學葯劑，不會產生有害的污泥，運行費用較低，濃縮後的污泥無毒、無害，易處理。
⑶ 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交專叉，生產中使屬用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接
⑷ 半導體器件加工過程中產生的三廢如何處理
1.半導體工業廢水的處理方法，其特徵在於處理步驟如下：
(1)將半導體器件製造中產生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，形成混 合廢水;
(2)混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾;
(3)將過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經過納濾膜過 濾裝置過濾的水即可直接回用。
⑸ 如何處理半導體(LED)廢水
隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。
⑹ 生產一噸單晶硅產生多少廢水
10t。生產一噸單晶硅產生10t廢水。單晶硅通常指的是硅原子的一種排列形式形成的物質。硅是最常見應用最廣的半導體材料，當熔融的單質硅凝固時，硅原子以金剛石晶格排列成晶核。
⑺ 破乳劑的廢物類別是什麼
破乳劑是一類促進油水分離的化學葯劑，廣泛用於油田原油開采、石油化工、含油廢水處理等行業。
破乳劑總體分為兩大類
一類是傳統原油破乳劑，聚醚類破乳劑，也叫正相破乳劑，用於原油和水的分離，提取原油。
一類是用於污水處理除油的反相破乳劑，反相破乳劑是混凝劑的一種，主要目的是絮凝含油廢水中的少量油，油是以絮凝物的狀態被分離出來，讓水質含油濃度降低達標，油的絮凝物一般作為危廢處理。
聚合氯化鋁PAC+破乳劑+聚丙烯醯胺PAM+氣浮機+油泥疊螺機脫水
含油廢水處理廣泛分布於以下行業：
染料廢水、鋁加工廢水、含焦油廢水、含磷廢水、選礦廢水、紡織印染廢水、光伏多晶硅廢水、石化煉化廢水、金屬加工廢水、垃圾滲濾液廢水、含油廢水、煤化工高鹽廢水、玻纖廢水油漆塗料廢水、半導體廢水、食品廢水、皮革廢水、印刷油墨廢水、屠宰場廢水、化肥廠廢水、焦油廢水處理、高鹽染料廢水、電子廠廢水、含鉻廢水、油田廢水、機械加工廢水、礦業廢水、精細化工廢水、陶瓷廢水、煤礦礦井水廢水、養殖廢水、醫葯廢水、化工廢水、煤制氣廢水、冶金廢水、含酚廢水、釀酒廢水、重金屬廢水、乳化液廢水、選礦廢水、氟化工廢水、煤焦油廢水、含汞廢水、制葯廢水、玻璃加工廢水、橡膠廢水、鋼鐵廠廢水、電鍍廢水、電廠廢水、表面處理廢水、化妝品廢水、蘭炭廢水、稀土廢水、製革廢水、船舶燃料油廢水、含鹽廢水、磷化工廢水、造紙廢水、澱粉廢水、煤制油廢水、礦山廢水、化纖廢水、印刷線路板廢水、焦化廢水、研磨廢水、燃煤電廠脫硫廢水。