㈠ 生產眼鏡片的水污染嗎
防治水體污染的主要措施有以下三條： （1）減少和消除污染物排放的廢水量。首先可採用改革工藝，減少甚至不排廢水，或者降低有毒廢水的毒性。其次重復利用廢水。盡量採用重復用水及循環用水系統，使廢水排放減至最少或將生產廢水經適當處理後循環利用。如電鍍廢水閉路循環，高爐煤氣洗滌廢水經沉澱、冷卻後再用於洗滌。第三控制廢水中污染物濃度，回收有用產品。盡量使流失在廢水中的原料和產品與水分離，就地回收，這樣既可減少上產成本，又可降低廢水濃度。第四處理好城市垃圾與工業廢渣，避免因降水或徑流的沖刷、溶解而污染水體。 （2）全面規劃，合理布局，進行區域性綜合治理。第一在制定區域規劃、城市建設規劃、工業區規劃時都要考慮水體污染問題，對可能出現的水體污染，要採取預防措施。第二對水體污染源進行全面規劃和綜合治理。第三杜絕工業廢水和城市污水任意排放，規定標准。第四同行業廢水應集中處理，以減少污染源的數目，便於管理。最後有計劃治理已被污染的水體。 （3）加強監測管理，制定法律和控制標准。第一設立國家級、地方級的環境保護管理機構，執行有關環保法律和控制標准，協調和監督各部門和工廠保護環境、保護水源。第二頒布有關法規、制定保護水體、控制和管理水體污染的具體條例。
㈡ 干噴沙和濕噴沙區別有哪些該配多大的空壓機急需
噴砂機是採用壓縮空氣為動力，以形成高速噴射束將噴料高速噴射到被需處理工件表面，使工件表面的外表面的機械性能發生變化的一種機器。
一、液體噴砂機
液體噴砂機相對於乾式噴砂機來說，最大的特點就是很好地控制了噴砂加工過程中粉塵污染，改善了噴砂操作的工作環境。 1、一般組成 一個完整的液體噴砂機一般由五個系統組成，即結構系統、介質動力系統、管路系統、控制系統和輔助系統。 2．工作原理：液體噴砂機是以磨液泵作為磨液的供料動力，通過磨液泵將攪拌均勻的磨液（磨料和水的混合液）輸送到噴槍內。壓縮空氣作為磨液的加速動力，通過輸氣管進入噴槍，在噴槍內，壓縮空氣對進入噴槍的磨液加速，並經噴嘴射出，噴射到被加工表面達到預期的加工目的。在液體噴砂機中，磨液泵為供料動力，壓縮空氣為加速動力。液體噴砂機將磨料置於水中，用磨液泵和壓縮空氣通過噴槍將磨液高速噴射到被加工的工件表面，達到對零件表面清理和光飾的效果。液體噴砂機噴砂工效高，磨料消耗少，能達到提高工件表面的光潔度和表面強度的目的。液體噴砂機由於採用濕式密封作業，磨液磨料採用自來水和自然砂（丸），又是循環工作，所以工作時不產生粉塵，不排放有毒廢水，不會對環境的污染產生，設備的安裝方便簡單，不需要單獨的工作間。天津百通的箱式液體噴砂機，在對機械零部件進行噴砂後，可以使機械零部件的表面在原來的基礎上提高0.5~2.0級光潔度，如果採用不同的丸料也可使機械零部件達到光亮或亞光的效果。液體噴砂是物體表面拋光、光飾最理想的方法之一。液體噴砂機能完成清理不銹鋼焊接件、熱處理件、沖壓件及機械加工件的粗糙表面、去殘鹽和毛刺、用於噴塗、電鍍前的預處理工序；液體噴砂機還作用噴玻璃丸、強化光飾零件表面；液體噴砂機適用於中、中零件單件小批量生產、高質高效；液體噴砂機適合表帶廠、眼鏡廠、首飾廠、電子廠等。
二、干噴砂機
對於壓入式干噴砂機主要以壓入式噴砂工作單元，即由壓力罐和噴槍組成的基本工作單元。可根據客戶的要求訂制各種不同型號的乾式噴砂機
（一）、吸入式干噴砂機
1．一般組成：一個完整的吸入式干噴砂機一般由六個系統組成，即結構系統、介質動力系統、管路系統、除塵系統、控制系統和輔助系統。 2. 工作原理： 吸入式干噴砂機是以壓縮空氣為動力，通過氣流的高速運動在噴槍內形成的負壓，將磨料通過輸砂管吸入噴槍並經噴嘴射出，噴射到被加工表面，達到預期的加工目。在吸入式干噴砂機中，壓縮空氣既是供料動力又是射流的加速動力。
（二）、壓入式干噴砂機
對於壓入式干噴砂機我們重點介紹壓入式噴砂工作單元，即由壓力罐和噴槍組成的基本工作單元。 1．一般組成：一個完整的壓入式干噴砂機工作單元一般由四個系統組成，即壓力罐、介質動力系統、管路系統、控制系統。 2．壓入式干噴砂機的工作原理：壓入式干噴砂機是以壓縮空氣為動力，通過壓縮空氣在壓力罐內建立的工作壓力，將磨料通過出砂閥壓入輸砂管並經噴嘴射出，噴射到被加工表面達到預期的加工目。在壓入式干噴砂機中，壓縮空氣既是供料動力又是射流的加速動力。
干濕式噴砂機亦分為手動干濕噴砂機、自動干、濕噴砂機，根據客戶產品定格而訂制。
噴砂機怎樣選擇空氣壓縮機？
1.對於活量比較少的單位（且加工的零件比較小，噴砂機用氣量在1m³以下的企業，）選擇活塞式比較劃算。壞掉了可以再買一台，給企業節約了生產成本。
2.對於稍大的企業選擇螺桿式空壓機比較好。螺桿式空壓機性能穩定噪音小，螺桿空壓機開機後無需專人管理，螺桿機大多數都是智能控制的，在PLC控制面板設定好壓力溫度等參數後，就不用管了，空氣壓縮機就會按照設定好的參數24小時運行，自動停機開機，即使空壓機出現故障它也會自動停機並且在控制面板上顯示記錄故障，維護人員可以在極短的時間內解決問題。
缺點：螺桿式空氣壓縮機製造成本高，比活塞式空氣壓縮機貴，且體積大，如果長期隨工程地點變換，搬運不太方便。
3. 解決方法?
我公司銷售的替代活塞機的無罩式螺桿空氣壓縮機，性能跟螺桿式空壓機一樣，都是按照螺桿式空壓機設計的，保留螺桿空壓機的所有內部配置。只是去除螺桿空壓機的外殼，把零部件更緊密的連接在一起，控制系統集中在一個獨立的控制箱內。散熱方式採用：自然散熱和風機散熱，沒有上部機殼，可以把空壓機放在任何狹小空間，維修保養空壓機不受空間的限制。
無罩式螺桿空壓機和前面說的有罩螺桿空壓機沒有本質的區別，只是把兩者按照使用環境和工礦要求從新組裝起來的。使螺桿空氣壓縮機的性能更好發揮出來為。
價格： 由於無罩式螺桿機，為了適應用戶的工礦要求，比在工廠里使用空壓機減小了體積，去掉上部外殼，合理分布了控制系統，節省了成本，所以它的價位介於活塞機和螺桿之間，是一部分用戶的理想選擇！
㈢ 哪家的眼鏡廠清洗超純水設備好，謝謝！
LTLD眼鏡廠清洗超純水設備優勢
LTLD眼鏡廠清洗超純水設備將國際上正規成熟的回超純水制備工藝結合一體答運用，眼鏡廠清洗超純水設備的結構式開放設計非常易於維護以及保養。
LTLD眼鏡廠清洗超純水設備安裝
1、眼鏡廠清洗超純水設備安裝位置必須處於水平，設備必須在電源、水源附近，但是需要注意千萬不能靠近火源及任何發熱體。
2、在環境較冷的地區不可以把設備放在室外，避免眼鏡廠清洗超純水設備配件凍結，出現損壞狀況。
3、眼鏡廠清洗超純水設備安裝附近必須排水方便，防止設備的廢水沒有地方排放。
4、針對那些進水水壓以及進水流量都不到標準的地區，必須在眼鏡廠清洗超純水設備前預置原水罐。
5、系統原水泵提供的壓力必須保持在1.0-1.2兆帕之間，保障原水泵在規定的揚程范圍內運行。
㈣ 光學鏡片生產工廠主要產生哪些廢水，一般選擇怎樣的處理工藝處理這些廢水、請大蝦們指教
光學鏡片生產工廠廢水一般含大量懸浮顆粒物，洗滌劑等有機物
可選擇沉澱+生化處理工藝
㈤ 純水和超純水的區別及純水儀的工作原理
純水：
純水指的是不含雜質的H2O，純水主要是使用反滲透進行過濾，從而達到純水的要求，純水的水質清澈，沒有任何的雜質，能夠有效的避免細菌的入侵，能夠安全、有效的為人體補充水分，有促進新陳代謝的作用。
超純水：
超純水指的是水中的離子幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。需要經過預處理、反滲透、EDI、樹脂、殺菌器等多層工藝才能夠製成，超純水的電阻率能夠達到18兆歐·CM，最高能夠達到18.25兆歐·CM。
有什麼區別？
1.製造工藝不同：
純水一般是使用反滲透或者蒸餾等方式即可製得。
超純水一般需要經過預處理、反滲透、EDI、樹脂、殺菌器等多層工藝才能夠製成。
2.用途不同：
純水一般用於化工、冶金、宇航、電力、電子工業、生物、化學等領域。
超純水的應用非常廣泛，一般應用於生產顯示器、硬碟、CD-ROM等用水，極端超純水用終端精處理混床、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
3.電導率不同：
純水電導率在 2-10us/cm 之間。
超純水的電導率為 0.056us/cm。
4.水中雜質指標不同：
純水的雜質含量為ppm級別的，ppm就是百萬分率或百萬分之幾。
而超純水一般除了水分子之外，幾乎沒有雜質，也沒有細菌、病毒等物質，也沒有人體所需要的礦物質，所以一般用於工業。
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㈥ 生產眼鏡片的水污染嗎
咨詢記錄 · 回答於2021-09-03
㈦ EDI純水到底是什麼東西啊
EDI純水應該是使用EDI模塊製成的純水。
EDI制備純水的原理：
EDI連續電除鹽水內處理設備（電解式連續去容離子）為模塊式設備，可根據需要任意組合，該系統不需要停機再生，無需酸鹼，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環保要求。可將水的電阻值由0.05-
0.1MQ/cM提升至15-18MQ/cM。EDI裝置現已應用在半導體、電廠、電子、制葯、實驗室等領域制備高純水；陰陽離子及混床離子交換水處理設備是利用陰陽離子樹脂與水中溶解性鹽類離子進行離子交換的水處理技術；
根據最終去除水中陰陽離子及混床離子交換除鹽水系統的交換特性，可將系統分為：單床式離子交換除鹽系統、雙床式離子交換除鹽系統和混床式離子交換除鹽系統。
㈧ 拋光粉(國內外市場、投資、工藝技術、生產成本、環保影響)
稀土拋光粉的發展現狀及應用
鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強，拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他拋光粉（如 Fe2O3 紅粉）的使用效果佳，而被人們稱為 「 拋光粉之王 」 。目前該產品在我國發展較快，應用日廣，產量猛增，發展前景看好。鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強，拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他拋光粉（如 Fe2O3 紅粉）的使用效果佳，而被人們稱為 「 拋光粉之王 」 。目前該產品在我國發展較快，應用日廣，產量猛增，發展前景看好。
我國具有豐富的鈰資源，據測算，其工業儲量約為 1800 萬噸（以 CeO2 計），這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，並可促進我國稀土工業繼續高速發展。
1、稀土拋光粉的發展過程
紅粉（氧化鐵）是歷史上最早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業的發展，於二十世紀 30 年代，首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次世界大戰中，一個在伊利諾斯州羅克福德的 W F 和 Barnes J 公司工作的雇員，於 1943 年提出了一種叫做巴林士粉（ Barnesite ）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由於稀土拋光粉具有拋光效率高、質量好、污染小等優點，激起了美國等國家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統拋光粉的趨勢迅速發展起來。
國外於 60 年前開始生產稀土拋光粉，二十世紀 90 年代已形成各種標准化、系列化的產品達 30 多種規格牌號。
目前，國外的稀土拋光粉生產廠家主要有 15 家（年生產能力為 200 噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產能力為 2200 多噸。是目前世界上最大的稀土拋光粉生產廠家。美國的拋光粉年產量能力達 1500 噸以上。日本生產稀土拋光粉的原料採用氟碳鈰礦、粗氯化鈰和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產在燒結設備和技術上均具特色。 1968 年，我國在上海躍龍化工廠首次研製成功稀土拋光粉。隨後西北光學儀器廠、雲南光學儀器廠相繼採用獨居石為原料，研製成功不同類型稀土拋光粉。北京有色金屬研究總院、北京工業學院等單位於 1976 年研製並推廣了 739 型稀土拋光粉， 1977 年又研製成功了 771 型稀土拋光粉。 1979 年甘肅稀土公司研製成功了 797 型稀土拋光粉。目前國內已有 14 個稀土拋光粉生產廠家（年生產能力達 30 噸以上者），最大的一家年生產能力為 2220 噸（包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司）。但與國外相比仍有較大差距，主要是稀土拋光粉的產品質量不穩定，未能達到標准化、系列化，還不能完全滿足各種工業領域的拋光要求，因此必須迎頭趕上。
2 稀土拋光粉的種類
2.1 以稀土拋光粉中C e O 2 量來劃分
稀土拋光粉的主要成分是 CeO2 ，據其 CeO2 量的高低可將鈰拋光粉分為兩大類 : 一類是 CeO2 含量高的價高質優的高鈰拋光粉 ，一般 CeO2/TREO≥ 80% ，另一類是 CeO2 含量低的廉價的低鈰拋光粉，其鈰含量在 50% 左右，或者低於 50% ，其餘由 La2O3 ， Nd2O3 ， Pr6O11 組成。
對於高鈰拋光粉來講 ，氧化鈰的品位越高 ，拋光能力越大 ，使用壽命也增加 ，特別是硬質玻璃長時間循環拋光時 ( 石英、光學鏡頭等 ) ，以使用高品位的鈰拋光粉為宜。
低鈰拋光粉一般含有 50% 左右的 CeO2 ， 其餘 50% 為 La2O3?SO3 ， Nd2O3?SO3 ， Pr6O11?SO3 等鹼性無水硫酸鹽或 LaOF 、 NdOF 、 PrOF 等鹼性氟化物 ，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣 ，因而廣泛用於平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高鈰拋光粉低。
2.2 以稀土拋光粉的大小及粒度分布來劃分
稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。對於一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下，顆粒尺寸約為 4μm 的拋光粉磨削速度最大。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少 ，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標准拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面，而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。此外，稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產技術屬於微粉工程技術， 稀土拋光粉屬於超細粉體，國際上一般將超細粉體分 3 種：納米級 (1nm ～ 100nm); 亞微米級 ( 100nm ～ 1μ m ) ; 微米級 ( 1μm ～ 100μ m ) ，據此分類方法，稀土拋光粉可以分為： 納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉 3 類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在 1μ m～ 10μ m之間 ，稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的最後工序，進行精磨 ，因此其粒度分布一般不大於 10μ m，粒度大於 10μ m的拋光粉 ( 包括稀土拋光粉 ) 大多用在玻璃加工初期的粗磨。小於 1μ m的亞微米級稀土拋光粉，由於在液晶顯示器與電腦光碟領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬於研發階段。
3、稀土拋光粉生產工藝概述
3.1 生產原料
目前，我國生產鈰系稀土拋光粉的原料有下列幾種 :(1) 氧化鈰 (CeO2) ，由混合稀土鹽類經分離後所得 (w(CeO2)=99%); (2) 混合稀土氫氧化物 (RE(OH)3) ，為稀土精礦 (w(REO)≥50%) 化學處理後的中間原料 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%);(3) 混合氯化稀土 (RECl3) ，從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土 ( 主要含 La ， Ce ， Pr 和 Nd ， w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥50%); (4) 高品位稀土精礦 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) ，有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳鈰礦精礦。以上原料中除第 1 種外，第 2 ， 3 ， 4 種均含輕稀土 (w(REO)≈98%) ，且以 CeO2 為主， w(CeO2) 為 48% ～ 50% 。這些原料均供應充足，這是我國大力發展鈰系稀土拋光粉的物質基礎和優勢。
3.2 生產工藝及設備
3.2.1 高鈰系稀土拋光粉的生產
以稀土混合物分離後的氧化鈰為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為 :
原料 → 高溫 → 煅燒 → 水淬 → 水力分級 → 過濾 → 烘乾 → 高級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘乾箱。
主要指標 : 產品中 w(REO)=99% ， w(CeO2)=99%; 稀土回收率約 95%; 平均粒經 1μ m～ 6μm( 或粒度為 200 目～ 300 目 ) ，晶形完好。該產品適用於高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉（紅粉）。
3.2.2 中鈰系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物 (w(REO)=65% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體 ( 沉澱劑 ) 使轉化成 w(CeO2)=80% ～ 85% 的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為 :
原料 → 氧化 → 優溶 → 過濾 → 酸溶 → 沉澱 → 洗滌過濾 → 高溫煅燒 → 細磨篩分 → 中級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指標 : 產品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土回收率約 95% ; 平均粒度 0.4μ m～ 1.3μm 。該產品適用於高速拋光，比高級鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。
3.2.3 低鈰系稀土拋光粉的制備
以少銪氯化稀土 (w(REO)≥45% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，以合成中間體 ( 沉澱劑 ) 進行復鹽沉澱等處理，可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為 :
原料 → 溶解 → 復鹽沉澱 → 過濾洗滌 → 高溫煅燒 → 粉碎 → 細磨篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 溶解槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。
主要指標 : 產品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率約 95%; 平均粒徑 0.5μ m～ 1.5μm( 或粒度 320 目～ 400 目 ) 。該產品適合於光學玻璃等的高速拋光之用。
用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦 (w(REO)≥60% ， w(CeO2)≥48%) 為原料，直接用化學和物理的方法加工處理，如磨細、煅燒及篩分等可直接生產低級鈰系稀土拋光粉產品。
其主要工藝過程為 :
原料 → 干法細磨 → 配料 → 混粉 → 焙燒 → 磨細篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有 : 球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。 主要指標 : 產品中 w(REO)≥95% ， w(CeO2)≥50%; 稀土回收率 ≥95%; 產品粒度為 1.5μ m～ 2.5μm 。該產品適合於眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。
目前，國內生產的低級鈰系稀土拋光粉的量最多，約占總產量的 90% 以上。
4、稀土拋光粉的應用
在工業上用於製品的拋光粉應具有一定純度和化學活性；有固定的晶形結構；顆粒均勻和有稜角；有較高的硬度和比重。工業上曾用過的拋光粉有鋁、鋅、鉻、錳、鈦、鋯、硅、鐵和稀土等十多種金屬氧化物。在這些拋光粉中鈰系稀土拋光粉的拋光效果最佳，它已取代了其它拋光粉（如 SiO2 ， ZrO2 和 Fe2O3 ）的應用，故目前將鈰系稀土拋光粉稱為 「 拋光粉之王 」 。
由於鈰系稀土拋光粉具有較優的化學與物理性能，所以在工業製品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密製品等的拋光。
我國已有的三大品級共 11 種牌號的鈰系稀土拋光粉（見表 1 ），它們的具體使用狀況為：
我國具有豐富的鈰資源，據測算，其工業儲量約為 1800 萬噸（以 CeO2 計），這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，並可促進我國稀土工業繼續高速發展。
級別 牌號 化學成份 /% 平均粒度 / μm 物理性能
( 粒度 / 篩目 ) 比重
㈨ 眼鏡廠清洗的超純水設備，誰知道啊！！！
眼鏡廠清洗用超純水設備（YB-EDI-001）工藝要求：
鄭州友邦水處理工藝：原水——原水箱——原水增壓泵——多介質過濾器——活性炭過濾器——陽樹脂軟化器——精密過濾器——一級RO反滲透系統——二級RO反滲透系統——紫外線殺菌系統——電去離子（EDI）——純水箱——純水泵——後置精密過濾器——用水點
超純水設備（YB-EDI-001）介紹：
電去離子（ electrodeionization ，簡稱 EDI ）技術是由電滲析和離子交換有機結合形成的一種新型膜分離技術。藉助離子交換樹脂的離子交換作用與陰、陽離子交換膜對陰、陽離子的選擇性透過作用，在直流電場的作用下，實現離子定向遷移，從而完成水的深度除鹽。由於離子交換、離子傳遞及離子交換樹脂的電再生相伴發生，猶如一個邊工作邊再生的混床離子交換樹脂柱，可以連續不斷地製取高質量的純水、高純水，因而又稱連續去離子（ continuous deionization ，簡稱 CDI ）。