晶元廠研磨廢水

㈠ 晶元生產廢水如何分類處理

晶元產生廢水的話，應該做好一個有害物質分類，然後拿去回收。

㈡ 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交專叉，生產中使屬用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接

㈢ 如何處理半導體(LED)廢水

隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。

㈣ 研磨污水該怎麼處理

研磨廢水處理，以較為理想的可算是宜興恩越，其操作簡便，採用混凝的方法，達到了達標排放的標准，也用於循環回用，同時也可處理超聲波清洗後產生的廢水。

超聲波清洗廢水處理設備技術方案

一種生物技術與物化技術相結合的高效廢水處理設備。其技術核心起源是利用復合生化技術和催化氧化技術相結合。這種工藝不僅有效地達到了去除高濃度COD、氨氮、除鹽廢水的目的，而且具有污水二級處理傳統工藝不可比擬的優點與傳統的生化水處理技術相比，宜興恩越環保生產的超聲波清洗廢水處理設備（催化氧化--生物流化床）具有以下主要特點：處理效率高、出水水質好；設備緊湊、佔地面積小；易實現自動控制、運行管理簡單，關鍵工藝投資費用低，運行節省，操作方便和節能減耗等技術特點。

傳統的廢水處理方法主要有生物法、物理法和化學法。而生物法包括厭氧工藝處理時間長，且難以降低其毒性，造成許多毒性更大的產物。物理方法包括電凝法、吸附法、膜分離法以及絮凝法，這些物理方法往往適應性差。而化學法如光催化降解，臭氧氧化法，雖然不帶來二次污染，但處理時間比較長，成本較高。超聲波廢水處理技術近年來已成為廣大環境工作者關注的焦點之一，由於其快速、高效且無二次污染的優點而備受研究者們的青睞，超聲波的空化效應為降解水中有害有機物提供可能，從而使超聲波有機廢水處理目的的實現。在有機廢水處理過程中，超聲波的空化作用對有機物有很強的降解能力，且降解速度很快，超聲波空化泡的崩潰所產生的高能量足以斷裂化學鍵，空化泡崩潰產生氫氧基和氫基，同有機物發生氧化反應，宜興恩越環保能將水體中有害有機物轉變成無機離子或比原有機物毒性小易降解的有機物。所以在傳統有機廢水處理中生物降解難以處理的有機污染物，可以通過超聲波的空化作用實現降解，而超聲波清洗機清洗完產生的廢水還會含有許多雜質，油脂等物質，需要進一步處理。

㈤ 研磨後的污水怎麼處理

研磨後的廢水可以以找第三方收走（需要付費），也可以自己處理，自己處理的話要有設備，有設備後就可以直接使用破乳劑破乳絮凝壓濾

㈥ 研磨廢水回用怎麼處理

用的是這個深圳佳和三英公司的30度低溫蒸發器，用來處理研磨廢水，他們在這個行業做了很多年了，產品有保證，好像我一個朋友說只要是水溶性的廢液都可以處理。

㈦ 研磨，拋光後的廢水如何處理

這種廢水含油，含金屬粒子，固體顆粒，一般採用混凝+氣浮+生化處理工藝，如果排放標准高，例如一級排放建議增加膜處理。

㈧ 研磨廢水怎麼處理

金屬研磨機帶來諸多好處的同時,在研磨過程中會產生或多或少的研磨廢水。金屬研磨廢水一般含有大量的金屬、研磨液(主要是油),清洗液等污染物,若這些廢水不經處理,直接排放,將嚴重污染環境,必須經過處理方能排放

㈨ 怎麼才能處理研磨廢水

朋友 你是哪種研磨廢水？我們處理處理這種廢水很有經驗。可聯系我

㈩ 幾種晶元廢水處理技術的探討求解答

摘要：國內晶元製造業的飛速發展，晶元生產過程中產生的廢水也是各企業所面臨的一個問題。文章結合工程實例，簡要介紹了晶元廢水中污染物的分類及來源，著重探討了含氨廢水、含氟廢水、研磨廢水和酸鹼廢的處理工藝，以期為晶元廢水處理的同仁提供參考。
關鍵詞：晶元廢水，處理工藝