㈠ 纯化水电导率标准是多少
2010版《中国药典》纯化水质量标准中对电导率的规定如下:
10℃ ≤3.6μs/cm,
20℃ ≤4.3μs/cm,
25℃ ≤5.1μs/cm;
药厂的纯化水一般都是0.8-1.4之间,温度低容易得到1以下的数据,温度高的时候一般都会是1.2左右。
在介质中该量与电场强度E之积等于传导电流密度J。对于各向同性介质,电导率是标量;对于各向异性介质,电导率是张量。生态学中,电导率是以数字表示的溶液传导电流的能力。单位以西门子每米(S/m)表示。
生活饮用水卫生标准是从保护人群身体健康和保证人类生活质量出发,对饮用水中与人群健康的各种因素(物理、化学和生物),以法律形式作的量值规定,以及为实现量值所作的有关行为规范的规定,经国家有关部门批准,以一定形式发布的法定卫生标准。
电导率的测量需要两方面信息。一个是溶液的电导G,另一个是溶液的电导池常数Q。电导可以通过电流、电压的测量得到。
根据关系式K=Q×G可以得到电导率的数值。这一测量原理在直接显示测量仪表中得到广泛应用。
而Q= L/A
A——测量电极的有效极板面积
L——两极板的距离
这一值则被称为电极常数。在电极间存在均匀电场的情况下,电极常数可以通过几何尺寸算出。当两个面积为1 cm2的方形极板,之间相隔1 cm组成电极时,此电极的常数Q=1 cm-1。如果用此对电极测得电导值G=1000 μS,则被测溶液的电导率K=1000 μS/ cm。
(1)超纯水用水水质标准扩展阅读:
为贯彻《环境保护法》和《水污染防治法》,加强地表水环境管理,防治水环境污染,保障人体健康,现制定了《地表水环境质量标准》为国家环境质量标准该标准为强制性标准,由中国环境科学出版社出版,自2002年6月1日开始实施。国家环境保护总局二00二年四月二十六日颁布。标准名称、编号:地表水环境质量标准(GB 3838-2002)。
《地表水环境质量标准》(GB3838-2002)中规定,地面水使用目的和保护目标,中国地面水分五大类:
Ⅰ类:主要适用于源头水,国家自然保护区;
Ⅱ类:主要适用于集中式生活饮用水、地表水源地一级保护区,珍稀水生生物栖息地,鱼虾类产卵场,仔稚幼鱼的索饵场等;
Ⅲ类:主要适用于集中式生活饮用水、地表水源地二级保护区,鱼虾类越冬、回游通道,水产养殖区等渔业水域及游泳区;
Ⅳ类:主要适用于一般工业用水区及人体非直接接触的娱乐用水区;
Ⅴ类:主要适用于农业用水区及一般景观要求水域。
各类水用途规定:
Ⅰ类水质:水质良好。地下水只需消毒处理,地表水经简易净化处理(如过滤)、消毒后即可供生活饮用者;
Ⅱ类水质:水质受轻度污染。经常规净化处理(如絮凝、沉淀、过滤、消毒等),其水质即可供生活饮用者;
Ⅲ类水质:适用于集中式生活饮用水源地二级保护区、一般鱼类保护区及游泳区;
Ⅳ类水质:适用于一般工业保护区及人体非直接接触的娱乐用水区;
Ⅴ类水质:适用于农业用水区及一般景观要求水域。超过五类水质标准的水体基本上已无使用功能。
㈡ 电镀清洗用超纯水设备需要符合哪项水质标准规范
一般的水中含有过多的钙镁离子或铁离子,这些例子一旦被带入镀液,容易使版镀液产生沉淀;或者带入异金权属例子,使化学镀镍层发脆、发雾、其条纹等疵病。水质标准符合【最新国家电子级超纯水标准】就可以了
表面处理完毕后的最后一道清洗水,应该符合【HB5472-1991《金属镀覆和化学覆盖工艺用水水质规范》】中规定的清洗用水标准。这样清洗后的零件才不会留下会水迹,斑点或者影响镀覆层质量的杂质。
具体情况可查看科瑞环保电镀清洗用超纯水设备解决方案
㈢ 纯水的电导率是多少
在25摄氏度时的电导率:
一、工业纯水:
1、普通纯水:EC=1~10us/cm;
2、高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;
3、超纯水:EC=0.1~0.055;
二、饮用纯水:
EC=1~10us/cm(国家标准)。
概念
纯水是具有一定结构的液体,虽然它没有刚性,但它比气态水分子的排列有规则得多。在液态水中,水的分子并不是以单个分子形式存在,而是有若干个分子以氢键缔合形成水分子簇( H2O),因此水分子的取向和运动都将受到周围其他水分子的明显影响。对于水的结构还没有肯定的结构模型,目前被大多数接受的主要有3 种: 混合型、填隙式和连续结构(或均匀结构)模型。
相关指标
在我国桶装饮用水市场上,主要有纯净水、矿泉水、泉水和天然水、矿物质水等,由于矿泉水、泉水等受资源限制,而纯净水是利用自来水经过一定的生产流程进行生产,因此市场上老百姓饮用最多的还是纯净水,纯净水的质量和老百姓的生活有着密切的关系。为此,国家质量技术监督局于1998年4月发布了GB173233-1998《瓶装饮用纯净水》和GB17324-1998《瓶装饮用纯净水卫生标准》。在这两个标准中,共设有感观指标4项、理化指标4项、卫生指标11项。
感观指标
感观指标包括色度、浊度、臭味、肉眼可见物。这几个指标是纯净水质量控制中最基本的指标,其制定的标准值参照了饮用水(即自来水)的标准,而大多厂家生产纯净水的水源是自来水,又经过粗滤、精滤和去离子净化的流程,因此,一般纯净水都能达到国家标准所要求的数值。
理化指标
理化指标中较重要的是电导率和高锰酸钾消耗量。电导率是纯净水的特征性指标,反映的是纯净水的纯净程度以及生产工艺的控制好坏。由于生活饮用水不经过去离子纯化的过程,因此是不考察此项指标的。而对于纯净水来说“纯净”是其最基本的要求,金属元素和微生物过高,都会导致电导率偏高。所以,电导率越小的水越纯净。
高锰酸钾消耗量是指1L水中还原性物质在一定条件下被高锰酸钾氧化时所消耗的氧毫克数,它考察的主要是水中有机物尤其是氯化物的含量。GB17323-1998《瓶装饮用纯净水》中规定,饮用纯净水中高锰酸钾消耗量(以O2计)不得超过1.0mg/L。
如果高锰酸钾消耗量偏高,有可能水中有微生物超标,也可能是一些厂家为防止微生物超标而增加消毒剂ClO2的量,从而产生一些新的有机卤代物,在这种情况下,一般游离氯也会超标。
基本标准
高纯水的国家标准为:GB1146.1-89至GB1146.11-89[168],目前我国高纯水的标准将电子级水分为五个级别:Ⅰ级、Ⅱ级、Ⅲ级、Ⅳ级和Ⅴ级,该标准是参照ASTM电子级标准而制定的。
高纯水的水质标准中所规定的各项指标的主要依据有:
微电子工艺对水质的要求;
2.制水工艺的水平;
3.检测技术的现状。
反渗透机理
1、优先吸附细孔模型:弱点干态电镜下,没发现孔。湿态膜标本不是电镜的样品。
2、溶解扩散模型:不认为有孔。
3、干闭湿开模型,上个世纪,1993年提出了“干闭湿开”反渗透模型,统一了两个最经典的反渗透机制模型,细孔模型,溶解扩散模型。
干闭湿开模型简述:膜干时收缩,孔闭合,电镜下膜“致密无孔”,称“干闭”;湿态时,膜溶胀,孔被溶剂撑开,生成动态活膜孔,叫“湿开”。合起来称“干闭湿开反渗透模型”。
㈣ 纯水,超纯水,纯化水的水质一般以电阻率为多少
纯水,超纯水,纯化水的水质一般以电阻率为多少
纯水分为:工业纯水和饮专用纯水
工业纯水:在25摄氏度中属,电导率为:
1。普通纯水:EC=1~10us/cm;
2。高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;
3。超纯水:EC=0.1~0.055;
饮用纯水:EC=1~10 us/cm(国家标准)
电导率:水的导电性即水的电阻的倒数,通常用它来表示水的纯净度。
㈤ 超纯水水质检测
(1)即取即用。因为空气中抄含有很多的尘土、微小粒子、细菌等物质,为了保障超纯水免受环境的污染,应尽量减少超纯水和环境的接触。因此,即取即用方法比较适用。
(2)避免将超纯水长时间置于储存器中。一般说来,长时间置于储存器中的超纯水会因为微生物、细菌、离子等杂质的污染,使得原本经过实验室超纯水机制备的高质量超纯水水质劣化。
(3)避免将存储超纯水的储存器置于阳光处。因为经过阳光的照射,储存器内的水温会逐渐上升,由此容易使得水中滋生各种微生物,从而影响水质。
(4)安装空气过滤设备。如果条件允许的话,最好能够给储存器安装空气过滤器,以此防止实验室超纯水机生产的超纯水受到环境的污染。
㈥ 纯水和超纯净水的标准各是什么
纯水和超抄纯水一般都没有统一袭的标准。是根据用户的需求来规定。
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水,即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业,根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样,其超纯水的水质指标如下:
电阻率大于18.2兆欧(25摄氏度);TOC(总有机碳)小于1到10ppb,DO(溶解氧)小于1到10ppb;Particle(颗粒):0.05微米小于200个/升;离子含量大部分是小于20到50ppt;细菌检测:无。
㈦ 液相色谱用超纯水机有哪些水质标准
你好,很高兴为您解答这个问题呢,要说液相色谱用的超纯水机的标准呢,其实内都差不容多的,这里我就列举一个适用于液相色谱的型号的超纯水机给你解答超纯水机的水质标准吧。
这个超纯水机的型号是:Exceed-E-UV
这里也给你超纯水机图片:
那么我就直接说这个适合液相色谱配套用的超纯水机的水质标准了,中国分析实验室用水规格(GB6682-2008)一级水标准
美国试药级(CAP、ASTM、NCCLS)超纯水水质标准准
中国国家电子级超纯水规格(GB/T11446.1-1997)EW-I标准
以上就是关于这个超纯水机的水质标准,希望可以帮助到您哦。
㈧ 超纯水设备的水质标准
其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
间歇式离子交换
这种操作方式是将离子交换树脂和待处理的原水混合加以适当搅拌,基本达到交换平衡,使平衡后的水质萍踪设计需求。此方式通常用于小型生产或实验需要。
固定床离子交换
是一种最常用的离子交换方式,是将离子交换树脂置于交换柱内,被处理的原水以一定流速流经树脂床层,达到交换目的。此方式设备简单,操作方便,实用于各种规模的生产,但是其树脂的利用率较低,再生费用较高。 其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→二级反渗透→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点。 EDI超纯水设备技术的优点
EDI超纯水设备被制药行业、微电子行业、发电行业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解行业、化工行业和太阳能光伏行业的应用也日趋广泛。
EDI可代替传统的混合离子交换技术(MB-DI)生产稳定的去离子水。EDI技术与混合离子交换技术相比有以下优点:
1.离子交换树脂的用量少,约相当于传统离子交换法树脂用量的5%。
2.离子交换树脂不需酸,碱化学再生,节约大量酸、碱和清洗用水,大大降低劳动强度。
3.无废酸、废碱液排放,是清洁的生产技术,属环保产品。
4.过程易实现自动控制,产水水质稳定,与RO等水处理技术相结合,能形成完善的纯水、超纯水生产线。
5.产水水质高,可达到国家电子级水I级标准,电阻率为15~18MΩ·cm,细菌内毒素 含量小于0.1mg/L可完全满 足《中国药典》《美国药典》对药用水的要求。
6.有优异的除弱解离物质(如二氧化碳、硅、硼、氨等)地能力,更适用于超纯水的需要。
7.纯水生产过程连续进行,无需像离子交换床那样一套在用一套再生地重复设置
在国内专注EDI超纯水设备的厂商并不多,汇通源环保科技生产出来的EDI超纯水设备是这个行业的领先者。汇通源与国内众多大型企业合作,制药行业、微电子行业,化工行业等。其中客户有深圳惠民制药有限公司、深圳市铠瑞麟科技有限公司、东莞市易升电池有限公司、深圳美景金属制品有限公司、深圳艾柯森自动化设备有限公司等等.均由我们提供EDI超纯水设备。我司希望在这方面的技术能得到更多客户的认可,从而能更进一步推广EDI技术在水处理行业发展的重要性。
EDI的工作原理
EDI模块(膜堆)是EDI工作的核心。一个简单的EDI膜堆主要由两个电性相反的电极和多个模块单元对组成,一个膜单元对由一个填满阳离子和阴离子交换树脂的淡水室(D-室)、一个阳膜、一个阴膜、一个浓水室(C-室)组成。EDI膜堆包含多个膜单元对。在每个膜堆的内部有两个带有600V电压的电极,这是通过每个膜堆必需的电压。正极带正电压,负极带负电压,电流在正极和负极之间通过30个膜单元。任一个淡水室都包含着阳树脂和阴树脂,它相当于一个8千米厚的混床。一个阳膜朝着阴极的方向把淡水室和浓水室分开,在另外一边,阴膜也把淡水市和浓水室分开。EDI用的膜和反渗透用的膜很不相同,反渗透用的膜允许小颗粒的分子污染物和离子以及水通过,而EDI膜象离子交换树脂一样是用聚苯乙烯材料制作的,只允许带适当电荷的离子通过,水基本上不能通过。树脂通过水的分离持续的再生。
在电场中,给水中的水分子被分离成H+和OH- ,被异性电荷相吸,H+通过阳阳树脂移向阴极的方向,OH-通过阴树脂移向阳极的方向。这种H+和OH-的迁移再生了树脂,阳膜允许H+通过进入浓水室,阴膜允许 OH-通过也进入浓水室,H+和OH-结合生成生产的水。浓水室中自己水的流动将带走水中的阴阳离子。膜阻止带相反电荷的离子的进入淡水室在水流通过淡水室的过程中,离子被树脂去处,所以膜的有效侧(淡水室)就会产生纯水。
运行流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透主机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
㈨ 超纯水水质标准
超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率大于18 MΩ*cm,或接近18.3 MΩ*cm极限值(25℃)。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。这样的水是一般工艺很难达到的程度,理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理,但是交换树脂的再生不便,质量难以保证。
制备
在原子光谱、高效液相色谱、超纯物质分析、痕量物质等的某些实验中,需要用超纯水,超纯水的制备如下:
(1)加入少量高锰酸钾的水源,用玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏,再以全石英蒸馏器进行蒸馏,收集于石英容器中,可得超纯水。
(2)使用强酸型阳离子和强碱型阴离子交换树脂柱的混合床或串联柱。可充分除去水中的阳、阴离子,其电阻率达10 Q·cm的水,俗称去离子水,再用全石英蒸馏器进行蒸馏,收集可得超纯水。
应用
超纯水可以在以下领域使用:
(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。
(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。
(4)高压变电器的清洗等