A. 触摸屏清洗用水采用什么设备制取，需要达到什么样的水质
需要触摸屏清洗超纯水设备
触摸屏清洗超纯水设备典型工艺流程为：
1、预处理-反渗回透-纯化水箱-离子交换器-紫外灯答-纯水泵-用水点
2、预处理-一级反渗透-二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-用水点
3、预处理-反渗透-中间水箱-中间水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-用水点
4、预处理→紫外线杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→EDI装置→脱氧装置→氮封纯水箱→除TOC
UV装置→抛光混床→超滤装置→用水点
B. 用实验室制取蒸馏水的装置制取纯净水的过程中，水分子的间隔先变______，后变______
实验室制取蒸馏水的过程：首先要对天然水加热，使水变成水蒸气进入到冷凝管中，这是一个汽化过程，进入冷凝管中的水蒸气遇冷，变成小水滴，这是一个液化的过程．汽化过程中水分子之间的间隔变大，液化过程中水分子之间的间隔变小．
故填：大；小．
C. 纯水制备装置产生的废活性炭是不是危废
我觉得这个要看我们用来制备纯水的水源，若是含重金属的水的话，那这个活性炭就得按危废处理。
D. 实验室用纯化水、稀硫酸、高锰酸钾制取氨水的装置
A、高锰酸钾在加复热条件下制生成锰酸钾、二氧化锰和氧气，属于固体加热型制取气体；锌和稀硫酸制取氢气属于固液常温型制取气体；发生装置不同，故选项说法错误．
B、氧气不易溶于水，氢气难溶于水，均可以用排水法收集，可以使用同一种气体收集方法，故选项说法正确．
C、高锰酸钾制取氧气属于分解反应，锌和稀硫酸制取氢气属于置换反应，不是同一种反应类型，故选项说法错误．
D、高锰酸钾制取氧气需要加热，石灰石和稀盐酸制取二氧化碳在常温下就能进行，反应条件不同，故选项说法错误．
故选：B．
E. 学生实验室制备去离子水的实验装置
蒸馏装置：铁架台、酒精灯（或者本生灯）、石棉网、蒸馏烧瓶、冷凝管、尾接管、锥形瓶。
F. 什么是去离子水制备装置如果要用去离子水制备装置到哪里去找
去离子水设备既是离子交换系统，离子交换系统是通过阴、阳离子交回换树脂对水中的各种阴、阳离子答进行置换的一种传统水处理工艺，阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统，离子交换阴床系统及离子交换混床系统，而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水，高纯水的终端工艺，它是用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。其出水电导率可低于1uS/cm以下，出水电阻率达到1MΩNaN以上，根据不同的水质及使用要求，出水电阻率可控制在1~18MΩNaN之间。被广泛应用在电子、电力超纯水，化工，电镀超纯水，锅炉补给水及医药用超纯水等工业超纯水，高纯水的制备上。
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G. 纯水制备装置产生的废活性炭是不是
纯水制备装置产生的废活性炭是不是
我觉得这个要看我们用来制备纯水的水源,若是含重金属的水的话,那这个活性炭就得按危废处理.
H. 初三化学水蒸气蒸馏制取纯净水装置问题：如下图
绝对不可以
下进上出可以保证冷凝管中始终充满水，同时蒸气流方向与水流方向相反，冷凝效果更好
希望能帮到你