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半导体工厂纯水参数

发布时间:2023-03-30 02:03:21

纯水的电导率是多少

根据国家2010版药典标准,可以得知:

纯水的电导率是 ≤2μS/cm (换算为电阻率≥0.5 MΩ.CM)。

当然这只是标准而已,影响纯化水导电率的因素还有很多比如温度、水的纯度还有很多的因素。

纯水指的是不含杂质的H2O。从学术角度讲,纯水又名高纯水,是指化学纯度极高的水,其主要应用在生物、 化学化工、冶金、宇航、电力等领域,但其对水质纯度要求相当高,所以一般应用最普遍的还是电子工业。例如电力系统所用的纯水,要求各杂质含量低达到“微克/升”级。

(1)半导体工厂纯水参数扩展阅读

电导率,物理学概念,也可以称为导电率。在介质中该量与电场强度E之积等于传导电流密度J。对于各向同性介质,电导率是标量;对于各向异性介质,电导率是张量。生态学中,电导率是以数字表示的溶液传导电流的能力。单位以西门子每米(S/m)表示。

影响因素:

1、温度

电导率与温度具有很大相关性。金属的电导率随着温度的升高而减小。半导体的电导率随着温度的升高而增加。在一段温度值域内,电导率可以被近似为与温度成正比。为了要比较物质在不同温度状况的电导率,必须设定一个共同的参考温度。电导率与温度的相关性,时常可以表达为,电导率对上温度线图的斜率。

2、掺杂程度

固态半导体的掺杂程度会造成电导率很大的变化。增加掺杂程度会造成电导率增高。水溶液的电导率高低相依于其内含溶质盐的浓度,或其它会分解为电解质的化学杂质。水样本的电导率是测量水的含盐成分、含离子成分、含杂质成分等等的重要指标。

3、各向异性

有些物质会有各向异性(anisotropy) 的电导率,必需用 3 X 3 矩阵来表达(使用数学术语,第二阶张量,通常是对称的)。

② 为什么芯片厂的纯水要求sio2

芯片厂的纯水要求sio2,是因为sio2具有良好的抗氧化性,可以有效防止水中的氧化物对芯片的腐蚀,从而保证芯片的质量。此外,sio2还具有良好的抗热性,可以有效防止芯片在高温下的损卖樱枣坏,从而保证芯片的稳定性。另外,sio2还具有颂戚良好的抗腐蚀中拆性,可以有效防止芯片在水中的腐蚀,从而保证芯片的安全性。因此,芯片厂的纯水要求sio2,是为了保证芯片的质量、稳定性和安全性。

③ 纯水的电导率是多少

在25摄氏度时的电导率:

一、工业纯水:

1、普通纯水:EC=1~10us/cm;

2、高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;

3、超纯水:EC=0.1~0.055;

二、饮用纯水:

EC=1~10us/cm(国家标准)。

(3)半导体工厂纯水参数扩展阅读

概念

纯水是具有一定结构的液体,虽然它没有刚性,但它比气态水分子的排列有规则得多。在液态水中,水的分子并不是以单个分子形式存在,而是有若干个分子以氢键缔合形成水分子簇( H2O),因此水分子的取向和运动都将受到周围其他水分子的明显影响。对于水的结构还没有肯定的结构模型,目前被大多数接受的主要有3 种: 混合型、填隙式和连续结构(或均匀结构)模型。

相关指标

在我国桶装饮用水市场上,主要有纯净水、矿泉水、泉水和天然水、矿物质水等,由于矿泉水、泉水等受资源限制,而纯净水是利用自来水经过一定的生产流程进行生产,因此市场上老百姓饮用最多的还是纯净水,纯净水的质量和老百姓的生活有着密切的关系。为此,国家质量技术监督局于1998年4月发布了GB173233-1998《瓶装饮用纯净水》和GB17324-1998《瓶装饮用纯净水卫生标准》。在这两个标准中,共设有感观指标4项、理化指标4项、卫生指标11项。

感观指标

感观指标包括色度、浊度、臭味、肉眼可见物。这几个指标是纯净水质量控制中最基本的指标,其制定的标准值参照了饮用水(即自来水)的标准,而大多厂家生产纯净水的水源是自来水,又经过粗滤、精滤和去离子净化的流程,因此,一般纯净水都能达到国家标准所要求的数值。

理化指标

理化指标中较重要的是电导率和高锰酸钾消耗量。电导率是纯净水的特征性指标,反映的是纯净水的纯净程度以及生产工艺的控制好坏。由于生活饮用水不经过去离子纯化的过程,因此是不考察此项指标的。而对于纯净水来说“纯净”是其最基本的要求,金属元素和微生物过高,都会导致电导率偏高。所以,电导率越小的水越纯净。

高锰酸钾消耗量是指1L水中还原性物质在一定条件下被高锰酸钾氧化时所消耗的氧毫克数,它考察的主要是水中有机物尤其是氯化物的含量。GB17323-1998《瓶装饮用纯净水》中规定,饮用纯净水中高锰酸钾消耗量(以O2计)不得超过1.0mg/L。

如果高锰酸钾消耗量偏高,有可能水中有微生物超标,也可能是一些厂家为防止微生物超标而增加消毒剂ClO2的量,从而产生一些新的有机卤代物,在这种情况下,一般游离氯也会超标。

基本标准

高纯水的国家标准为:GB1146.1-89至GB1146.11-89[168],目前我国高纯水的标准将电子级水分为五个级别:Ⅰ级、Ⅱ级、Ⅲ级、Ⅳ级和Ⅴ级,该标准是参照ASTM电子级标准而制定的。

高纯水的水质标准中所规定的各项指标的主要依据有:

  1. 微电子工艺对水质的要求;

2.制水工艺的水平;

3.检测技术的现状。

反渗透机理

1、优先吸附细孔模型:弱点干态电镜下,没发现孔。湿态膜标本不是电镜的样品。

2、溶解扩散模型:不认为有孔。

3、干闭湿开模型,上个世纪,1993年提出了“干闭湿开”反渗透模型,统一了两个最经典的反渗透机制模型,细孔模型,溶解扩散模型。

干闭湿开模型简述:膜干时收缩,孔闭合,电镜下膜“致密无孔”,称“干闭”;湿态时,膜溶胀,孔被溶剂撑开,生成动态活膜孔,叫“湿开”。合起来称“干闭湿开反渗透模型”。

④ 纯水和超纯净水的标准各是什么

纯水和超抄纯水一般都没有统一袭的标准。是根据用户的需求来规定。
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水,即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业,根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样,其超纯水的水质指标如下:
电阻率大于18.2兆欧(25摄氏度);TOC(总有机碳)小于1到10ppb,DO(溶解氧)小于1到10ppb;Particle(颗粒):0.05微米小于200个/升;离子含量大部分是小于20到50ppt;细菌检测:无。

⑤ 纯水,纯化水,超纯水有什么区别

纯水,纯化水,超纯水的区别如下:

1、制造工艺的的难易程度不同。

纯水的制作工艺是经过反渗透、蒸馏等方法制得的。

纯化水是用水经蒸馏法、离子交换法、反渗透法或其他适宜方法制备得到的制药用水。

超纯水是在纯水的基础上经过光氧化技术、精处理和抛光处理等一系列复杂的纯化技术制得的。这样的水是一般工艺很难达到的程度,理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理,但是交换树脂的再生不便,质量难以保证。

2、重金属、细菌、微粒数等指标也大不相同。

纯水杂质含量是ppm级,而超纯水为ppb级,这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素,也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。

3、用途不一样

纯水主要应用在生物、 化学化工、冶金、宇航、电力等领域。

纯化水一般作为供药用的水。

超纯水一般用于电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

4、电导率不同。

纯水电导率在 2-10us/cm 之间,纯化水电导率≤0.2us/cm,超纯水的电导率为 0.056us/cm。

⑥ 各行业使用纯水的标准是什么

电导率≤10μS/CM 动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水等。

电导率≤专4μS/CM 电镀化属学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化纯水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净纯水用纯水、普通化妆品生产用纯水、血透纯纯水机用纯水。

电阻率5~10MΩ.CM 锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水等。

电阻率>17 ML2 CM 磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防

老化材料实验室用纯水、有色金属; 贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池

生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水;

5、电阻率>18 ML2 C ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水。

⑦ 超纯水水质标准

超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率大于18 MΩ*cm,或接近18.3 MΩ*cm极限值(25℃)。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。这样的水是一般工艺很难达到的程度,理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理,但是交换树脂的再生不便,质量难以保证。

制备
在原子光谱、高效液相色谱、超纯物质分析、痕量物质等的某些实验中,需要用超纯水,超纯水的制备如下:

(1)加入少量高锰酸钾的水源,用玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏,再以全石英蒸馏器进行蒸馏,收集于石英容器中,可得超纯水。

(2)使用强酸型阳离子和强碱型阴离子交换树脂柱的混合床或串联柱。可充分除去水中的阳、阴离子,其电阻率达10 Q·cm的水,俗称去离子水,再用全石英蒸馏器进行蒸馏,收集可得超纯水。

应用
超纯水可以在以下领域使用:

(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

(4)高压变电器的清洗等

⑧ 请问半导体厂房用的纯水,按流量计费每立方大约多少钱废水处理,按流量计费的每立方大约多少钱

半导体厂房用的纯水有各种不同等级和运用不同的设备,按基本要求提炼纯水流量计费每立方大约由美元1-20不等;
水处理也一样,按流量计费的每立方大约美元0.5-10不等;

⑨ 纯水和超纯水的pH值该如何检测

1、搅拌速度:PH值反映的是H+的活度,(H+)而不是H+的浓度[H+],其关系为(H+)=f×[H+]。F为H+的活度系数。它是由溶液中所有离子的总浓度决定而不只决定于被测离子的浓度。在理论纯水中活度系数f等于1,但只要有其它离子存在,活度系数就要改变,PH值也就会改变。即PH值受溶液中总的离子浓度的影响,总离子浓度变化,PH值就要改变。由于复合电极液接界很靠近PH敏感玻璃球泡,从液接界渗漏出的盐桥溶液首先聚集在敏感球泡周围,改变了其附近的总离子浓度,由上述原因可知,使用测量值只是敏感球泡附近的被改变了PH值,不能反映其真实的PH值。虽然采用搅拌或摇动烧杯的方法可以改变这种情况,但实践证明,搅拌速度不同,测试的值也会不一样,同时搅拌或摇动又会加速CO2的溶解,所以也不可取。 2、高浓度3mol/L的Kcl:由于纯水中离子浓度非常低,而参比电极盐桥溶液选中高浓度3mol/L的Kcl,相互之间的浓度差较大,与它在普通溶液中的情况差别很大。在纯水会加大盐桥溶液的渗透速度,促使盐桥的损耗,从而加速了K+和CL-的浓度的降低。引起液接界电位的变化和不稳定,而Ag/AgCl参比电极本身的电位取决于CL-的浓度。CL-浓度发生了变化,其参比电极自身电位也会随之变化,于是就使得示值漂移,特别是不能补充内参比液的复合电极更会如此。 3、Kcl浓度的降低:为了保证复合电极的pH零电位,盐桥必须采用高浓度的Kcl,同时为了防止Ag/AgCl镀层被高浓度的Kcl溶解,在盐桥中又必须添加粉末状的AgCl,使盐桥溶液被AgCl饱和。但是根据上述第1条所述,由于盐桥溶液中Kcl浓度的降低,又使原本溶解在其中的AgCl过饱和而沉淀,从而堵塞液接界。 4、易受污染:纯水很容易受到污染,在烧杯中敞开测量,很容易受到CO2吸收的影响,PH值会不停地往下降,有关国际标准规定测量必须在一个特殊的装置中密闭中进行,但在一般实验室中难于实行。

⑩ 什么是UP水

超纯水英文名为Ultrapure water又称水,是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水,改水几乎没有什么杂质。

高纯水是化学纯度极高的水,其中的杂质的含量小于0.1mg/L。目前人们制成的高纯水的纯度已经达到99.%,其中杂质含量低于0.01mg/L。

高纯水主要指水的温度为25℃时,电导率小于0.1us/cm,pH值为6.8-7.0及去除其他杂质和细菌的水。

高纯水中的导电介质几乎全部去除,又将水中不离解的胶体物质、气体和有机物均去除至很低程度的水。高纯水的含盐量在0. 3mg/L以下,电导率小于0. 2μs/cm。

超纯水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素,也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。

(10)半导体工厂纯水参数扩展阅读

超纯水可以在以下领域使用:

(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

(4)高压变电器的清洗等。

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