超纯水进水要求

⑴ 电子厂用的超纯水，出水电阻率要求≥15MΩ.cm@25℃，进水为符合国家GB5749-2006饮用水标准。

可以肯定复告诉你，双级反渗透制不能达到出水电阻率≥15MΩ.cm@25℃，最多都只能达到0.15MΩ.cm@25℃。要达到出水电阻率≥15MΩ.cm@25℃，目前常用的工艺是砂滤+炭滤+软化+一级反渗透+水箱+二级反渗透+水箱+紫外线杀菌器+EDI+TOC降解器+抛光混床+终端过滤器，输送管道最好用CPVC，这样终端用水点的水质都能在17MΩ.cm@25℃以上，用水水质是就高不就低的，通过这样的流程，你要求的水质是完全没问题的，如果你要求的是制水系统的产水处的水质≥15MΩ.cm@25℃，那到EDI为止就可以了，EDI产水水质通常≥16MΩ.cm@25℃。

⑵ 实验室超纯水设备，技术要求是什么

实验室用超纯水设备特点

1.产水水质高而具有较佳的稳定度高。

2.连续版不间断制水，不因再权生而停机

3.模块化生产，并可实现全自动控制

4.不须酸碱再生，无污水排放

5.无酸碱再生设备和化学药品储运。

6.设备结构紧凑，占地面积小

7.运行费用及维修成本低

8.运行操作简单，劳动强度低

9.采用全自动控制，系统运行时可设定自动反洗、再生程序。

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⑶ 纯水的标准是什么是超纯净水的标准是什么

纯水和超纯来水一般都没有源统一的标准。是根据用户的需求来规定。
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水，即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业，根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样，其超纯水的水质指标如下：
电阻率大于18.2兆欧（25摄氏度）；TOC（总有机碳）小于1到10ppb，DO（溶解氧）小于1到10ppb；Particle（颗粒）：0.05微米小于200个/升；离子含量大部分是小于20到50ppt；细菌检测：无。

⑷ 食品行业用超纯水设备，EDI进水标准

水源：（二级）反渗透RO产水，电导率1-10us/cm，最大电导率≤25us/cm（NaC1）
PH值：版7.0-8.5（pH7.0-8.0之间EDI可有最佳电阻权率性能）
温度：15℃--35℃，（EDI最佳温度在25℃）
进水压力（Dw）：0.15-0.4MPa
浓水进水压力（Cns）：比Ds端压力低0.06-0.1MPa（必须）
产水压力（Dour）：0.05-0.20MPa
浓水出水压力（Cour）：比Dor端压力低0.05-0.1MPa（必须）
进水硬度：<0.5ppm（碳酸钙计）进水有机物：TOC<0.5ppm
进水氧化剂：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羟基氧）<0.02ppm
进水重金属离子：Fe、Mn、变价性金属离子<0.01ppm
进水硅：Si0₂<0.5ppm（反渗透RO产水典型范围是50-150ppb）
进水总CO2：<3ppm
进水颗粒度：<1um

⑸ RO的进水硬度指标和超纯水的硬度指标各是多少

净水设备在RO装置之前需要使用离子交换树脂（钠离子）处理至15-50ppm，这样可以提高RO设备的处理效率同时提高RO设备使用寿命。
超纯水硬度低于1ppm.

⑹ 光伏生产用超纯水设备进水水质有哪些要求

(1)光伏生产用超纯水设备进水总盐量(CaCO3计)：<25ppm或50μs/cm
(2)光伏生产用超版纯水设备进水PH值：权5.0～9.0
(3)光伏生产用超纯水设备进水TOC：<0.5ppm
(4)光伏生产用超纯水设备进水Fe、Mn、H2S：<0.01ppm
(5)光伏生产用超纯水设备进水余氯：<0.05ppm
(6)光伏生产用超纯水设备进水硬度(CaCO3计)：<2.0ppm
(7)光伏生产用超纯水设备进水可溶硅：<0.5ppm

⑺ 超纯水设备在安装和使用时需要注意哪些问题

超纯水设备在安装时需要注意的问题

1、超纯水设备安装场地应平整，环境整洁，紧靠专电源、水源。请勿属靠近火源及任何发热体。

2、在北方地区不得将超纯水设备安装在室外，以防设备内部冻结，损坏仪表及过滤元件。

3、设备安装位置应能方便排水，使设备的排水管保持顺畅。

4、当水源压力<0.12Mpa，流量<3.0T/H时，本机运行中会反复出现多级泵起动---停止---起动的现象。这时本机就要停止使用，防止烧毁电机，水压和流量不足的地区，请在本设备前增加原水罐。

5、超纯水系统所用的水泵工作压力确保在1.0-1.2Mpa，确保水泵在其额定扬程范围内工作。

⑻ 纯水和超纯净水的标准各是什么

纯水和超抄纯水一般都没有统一袭的标准。是根据用户的需求来规定。
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水，即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业，根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样，其超纯水的水质指标如下：
电阻率大于18.2兆欧（25摄氏度）；TOC（总有机碳）小于1到10ppb，DO（溶解氧）小于1到10ppb；Particle（颗粒）：0.05微米小于200个/升；离子含量大部分是小于20到50ppt；细菌检测：无。

⑼ 半导体行业超纯水质量会有哪些要求

超纯水的应用领域涵盖了整个电子行业，还有许多新能源行业也有涉猎，比如我们常说的芯片、半导体、光伏等等。今天我们主要来说一下半导体领域中超纯水的应用。
在半导体生产中，超纯水都会被应用在哪里?答案是在晶圆冲洗、化学品稀释、化学机械研磨、洁净室环境中都会应用到。那么，质量会有哪些要求?虽然每个行业都使用所谓的“超纯水”，但质量标准却各不相同。半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。