生产半导体用的超纯水

A. 超纯水水质标准

超纯水是为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，其电阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm极限值（25℃）。简单得说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。这样的水是一般工艺很难达到的程度，理论上可以采用二级反渗透再经过串联的混合型交换树脂柱对二次反渗水进行处理，但是交换树脂的再生不便，质量难以保证。

制备
在原子光谱、高效液相色谱、超纯物质分析、痕量物质等的某些实验中，需要用超纯水，超纯水的制备如下：

（1）加入少量高锰酸钾的水源，用玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏，再以全石英蒸馏器进行蒸馏，收集于石英容器中，可得超纯水。

（2）使用强酸型阳离子和强碱型阴离子交换树脂柱的混合床或串联柱。可充分除去水中的阳、阴离子，其电阻率达10 Q·cm的水，俗称去离子水，再用全石英蒸馏器进行蒸馏，收集可得超纯水。

应用
超纯水可以在以下领域使用：

（1）电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

（2）化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

（3）单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

（4）高压变电器的清洗等

B. 半导体行业超纯水质量会有哪些要求

超纯水的应用领域涵盖了整个电子行业，还有许多新能源行业也有涉猎，比如我们常说的芯片、半导体、光伏等等。今天我们主要来说一下半导体领域中超纯水的应用。
在半导体生产中，超纯水都会被应用在哪里?答案是在晶圆冲洗、化学品稀释、化学机械研磨、洁净室环境中都会应用到。那么，质量会有哪些要求?虽然每个行业都使用所谓的“超纯水”，但质量标准却各不相同。半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

C. 半导体厂超纯水Cl含量如何控制

摘要 纯水中，电阻率，微粒子，气泡(溶解氧，溶解氮)和TOC是非常重要的指标，略微差异，可能导致元器件生产过程的产品质量和合格率的下降，所以超纯水的制备技术在半导体工业的发展中是非常重要的一环。近年半导体工业，超纯水的部分指标可能更加严格于表1中ITRS浸没式超纯水的要求。目前掌握最尖端的超纯水制造工艺主要还是国外的企业为主，如日本的栗田工业和美国的英特尔公司等等。

D. 在半导体生产中,超纯水都会被应用在哪里

• 超纯水的应用领域涵盖了整个电子行业，还有许多新能源行业也有涉猎，比如我们常说的芯片、半导体、光伏等等。今天我们主要来说一下半导体领域中超纯水的应用。在半导体生产中，超纯水都会被应用在哪里?答案是在晶圆冲洗、化学品稀释、化学机械...

E. 超纯水说的是什么水

超纯水（Ultrapure water）又称UP水，是指电阻率达到18 MΩ*cm（25℃）的水。

这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。

超纯水可以用于超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制备过程。

应用

超纯水可以在以下领域使用：

1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

3、单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

4、高压变电器的清洗等。

F. 生产半导体芯片过程中为什么需要洁净水

在半导体芯片制造中，很小的面积内就可制造几百万可光学显微镜无法辨认的器件，各种污染，如颗粒、金属离子污染、有机物污染、薄膜污染等，时刻影响着芯片的存活。
所以在生产过程中使用超纯水，避免带来污染和不必要的蚀刻。

G. 超纯水是什么水

既将水中的导抄电介质袭几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。

超纯水,是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm

超纯水是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会吸出人体中很多离子。

H. 光伏行业晶体管，半导体集成电路为什么一定要用纯水

半导体工业就是通过在本征半导体（比如纯硅）里掺杂质来调节半导体材料导内电性和其它容物理化学性能的，极微量杂质就会剧烈改变半导体材料的性能，所以整个生产过程必须用去离子水，以减少非必要杂质的引入。去离子水是高纯水，自来水乃至蒸馏水都达不到去离子水的纯度。

I. 电子工业超纯水设备的组成

电子、半导体、液晶显示等工业在生产过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。如果水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命，因此水的质量相当重要。超纯水设备在净化水质方面具有很好的效果，是很多企业都会选择的水处理设备。
超纯水设备一般包括预处理系统、反渗透装置、后处理系统、清洗系统和电气控制系统等。

预处理系统一般包括原水泵、加药装置、石英砂过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质，达到反渗透的进水要求。预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。
反渗透装置主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成。其主要作用是去除水中的杂质，使产水水质满足使用要求。
后处理系统是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置。主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的一种或者多种设备。后处理系统能把反渗透的出水水质更好的提高，使之满足使用要求。
清洗系统主要有清洗水箱、清洗水泵、精密过滤器组成。当反渗透系统受到污染出水指标不能满足要求时，需要对反渗透进行清洗使之恢复功效。
电气控制系统是用来控制整个反渗透系统正常运行的。包括仪表盘、控制盘、各种电器保护、电气控制柜等。
以上这些系统共同组成了一套完整的超纯水设备，通过超纯水设备制备出来的工业纯水，其纯度可达到18MΩ·CM，且系统稳定，使用寿命长，且生产过程所产生的废水又可回用再生，节能环保。

J. 想知道超纯水是什么水

超纯水是电阻率达到18 MΩ*cm的水。

超纯水水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。可以用于超纯材料，应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制备过程。

超纯水的应用：

1、超纯水用于电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。

2、超纯水用于化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。

3、超纯水用于单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。

4、超纯水用于高压变电器的清洗等。