采用高纯水清洗ito玻璃

❶ 玻璃清洗纯水设备有哪些优缺点

1、玻璃清洗纯水设备第一种采用离子交换树脂其优点在于初期投资少，占用的地方少内，但缺点就是容需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。
2、玻璃清洗纯水设备第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初期投资比采用离子交换树脂方式要高，但离子交换设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。
3、玻璃清洗纯水设备第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水较经济，较环保的工艺方式，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初期投资相对以上两种方式过于昂贵。

❷ 求教ITO玻璃的切割方法，清洗方法

需要使用专门的转头来切割或者使用激光切割。通常先对ITO 表面用湿法处理，即用洗涤剂清洗，再用乙醇，丙酮及超声波清洗或用有机溶剂的蒸汽洗涤，后用红外灯烘干。

洗净后对ITO表面进行活化处理，使ITO 表面层含氧量增加，以提高ITO 表面的功函数，也可以用过氧化氢处理ITO 表面，用比例为水：双氧水：氨水=5：1：1 的混合溶液处理后,使OLED 器件亮度提高一个数量级。

因为过氧化氢处理会使ITO 表面过剩的锡含量减少而氧的比例增加，使ITO 表面的功函数增加从而增加空穴注入的几率。

推荐使用:HJ-B311 ITO玻璃清洗剂 适用于LCD前段FTO玻璃清洗。 本品是一种水基型FTO玻璃清洗剂。本品由固体盐类、聚氧乙烯醚等非离子表面活性剂复配而成，清洗效果好，对玻璃无腐蚀性，对环境污染小。

❸ 玻璃在真空镀膜前怎么清洗、烘干才干净

镀膜玻璃对玻璃的新鲜度要求很高的，一般为7天内最好，超过15天一般就不能用了。至于怎样清洗呢！还是买一台镀膜专用的清洗机为好。我只能简单的回答你清洗的基本程序。玻璃表面喷水—排刷—滚刷—滚刷—滚刷—滚刷—挤水——烘干，喷水为自来水或者混合水箱的水，前两道滚刷水是自来水（或者有一道含药水的自来水)，3、4道水是离子水纯度最好在15兆欧以上，烘干部分注意空气过滤，最好10万基以上的空气质量为好。平时注意棍子的清洗，最好一周2次，用丙酮擦拭。

❹ ITO清洗原则

ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到更均匀的显示控制。液晶显示器专用ITO玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面。因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向，规律的出现波纹不平整情况。

在溅镀ITO层时，不同的靶材与玻璃间，在不同的温度和运动方式下，所得到的ITO层会有不同的特性。一些厂家的玻璃ITO层常常表面光洁度要低一些，更容易出现“麻点”现象；有些厂家的玻璃ITO层会出现高蚀间隔带，ITO层在蚀刻时，更容易出现直线放射型的缺划或电阻偏高带；另一些厂家的玻璃ITO层则会出现微晶沟缝。
ITO膜层的主要成份是氧化铟锡。在厚度只有几千埃的情况下，氧化铟透过率高，氧化锡导电能力强，液晶显示器所用的ITO玻璃正是一种具有高透过率的导电玻璃。由于ITO具有很强的吸水性，所以会吸收空气中的水份和二氧化碳并产生化学反应而变质，俗称“霉变”，因此在存放时要防潮。
ITO层在活性正价离子溶液中易产生离子置换反应，形成其它导电和透过率不佳的反应物质，所以在加工过程中，尽量避免长时间放在活性正价离子溶液中。
ITO层由很多细小的晶粒组成，晶粒在加温过程中会裂变变小，从而增加更多晶界，电子突破晶界时会损耗一定的能量，所以ITO导电玻璃的ITO层在600度以下会随着温度的升高，电阻也增大。
ITO导电玻璃按电阻分，分为高电阻玻璃（电阻在150~500欧姆）、普通玻璃（电阻在60~150欧姆）、低电阻玻璃（电阻小于60欧姆）。高电阻玻璃一般用于静电防护、触控屏幕制作用；普通玻璃一般用于TN类液晶显示器和电子抗干扰；低电阻玻璃一般用于STN液晶显示器和透明线路板。
ITO导电玻璃按尺寸分，有14”x14”、14”x16”、20”x24”等规格；按厚度分，有2.0mm、1.1mm、0.7mm、0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格，厚度在0.5mm以下的主要用于STN液晶显示器产品。

影响ITO玻璃性能的主要参数：

长度、宽度、厚度及允差（±0.20）
垂直度（≤0.10%）
翘曲度（厚度0.7mm以上≤0.10%，厚度0.55mm以下≤0.15%）
微观波纹度

倒边
C倒边（0.05mm≤宽度≤0.40mm）
R倒边（0.20mm≤宽度≤1.00mm，曲率半径≤50mm）
倒角（浮法方向2.0mmX5.0mm；其余1.5mmx1.5mm）
SIO2阻挡层厚度（350埃±50埃，550nm透过率≥90%）
ITO层光学、电学、蚀刻性能（蚀刻液：600C 37%HCL:H2O:67%HNO3=50:50:3）：见表1-1。
表1-1

化学稳定性：

耐碱为浸入600C、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后，ITO层方块电阻变化值不超过10%。
耐酸为浸入250C、浓度为6%盐酸溶液中5分钟后，ITO层方块电阻变化值不超过10%。
耐溶剂为在250C、丙酮、无水乙醇或100份去离子水加3分EC101配制成的清洗液中5分钟后，ITO层方块电阻变化值不超过10%。
附着力：在胶带贴附在膜层表面并迅速撕下，膜层无损伤；或连撕三次后，ITO层方块电阻变化值不超过10%。
热稳定性：在3000C的空气中，加热30分钟后，ITO导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%。

外观质量：

裂纹：不允许。
粘附物：包括尘粒、玻璃碎等凸起物，TN型ITO导电玻璃镀膜面不允许有不可去除的高度超过0.1mm的粘附物；STN型ITO导电玻璃镀膜面不允许有不可去除的高度超过0.05mm的粘附物。
沾污：不可有不溶于水或一般清洗剂无法除去的沾污。
崩边：长X宽≤2.0mmx1.0mm；深度不超过玻璃基片厚度的50%；总长度≤总边长的5%。
划痕：见表1-2。
表1-2

玻璃体点状缺陷：包括气泡、夹杂物、表面凹坑、异色点等。点状缺陷的直径定义为：d=(缺陷长+缺陷宽)/2。见表1-3。
表1-3

膜层点状缺陷：SIO2阻挡层和ITO导电层的点状缺陷包括针孔、空洞、颗粒等，点状缺陷的直径定义为：d=(缺陷长+缺陷宽)/2。见表1-5。
表1-5

尺寸：A、测试方法：用直尺和游标卡尺测量待测玻璃原片的长度、宽度、厚度。
B、判定标准：测量结果在供货商所提供的参数范围之内为合格。
面电阻: A、测试方法：把待测试玻璃整个区域做为测试区域，然后测试区域分成九等份后再用四探针测试仪分别测试各区域的面电阻。
B、判定标准：根据测试结果计算出电阻平均值及电阻资料分散值，结果在要求范围内既是合格。
ITO层温度性能A、测试方法：把待测玻璃原片在3000C的空气中，加热30分钟，测试其加温前后的同一点面电阻阻值。
B、判定标准：ITO导电膜方块电阻值应不大于原方块电阻的300%为合格。
蚀刻性能：A、测试方法：把待测玻璃原片放入生产线所用的蚀刻液中测试其蚀刻完全的时间。
B、判定标准：蚀刻完全的时间值小于生产工艺所设定时间的一半值为合格。
或按表1-1蚀刻性能指标检测。

ITO层耐碱性能

A、测试方法：把待测玻璃原片放在600C、浓度为10%氢氧化钠溶液中5分钟后，测试其浸泡前后的同一点面电阻阻值。
B、判定标准：ITO层方块电阻变化值不超过10%为合格。
光电性能与可靠性：
A、测试方法：把待测玻璃与现生产用玻璃按现生产工艺参数，选择一型号制作成成品并测试其光电与可靠性性能；
B、判定标准：光电性能与可靠性测试结果与现生产用玻璃结果相当，并在测试产品型号要求范围之内。

ITO导电玻璃的选用规则：

模数在240以上的产品，一般可选用供货商B级品玻璃；
模数在40模以上，240模以下的产品，一般选用普通A级品玻璃；
模数在40模以下的产品，STN产品，一般选用低电阻抛光玻璃。
COG产品，一般选用15欧姆抛光玻璃。

任何时候都不容许叠放；
除规定外，一般要求竖向放置；平放操作时，尽量保持ITO面朝下；厚度在0.55mm以下的玻璃只能竖向放置；
取放时只能接触四边，不能接触导电玻璃ITO表面；
轻拿轻放，不能与其它治具和机器碰撞；
如果要长时间存放，一定要注意防潮，以免影响玻璃的电阻和透过率；
对于大面积和长条形玻璃，在设计排版时要考虑玻璃基片的浮法方向。
ITO导电玻璃的贮存方法：
ITO导电玻璃应贮存在室温条件下，湿度在65%以下干燥保存；贮放时玻璃保持竖向放置，玻璃间堆放不可超过二层，木箱装ITO导电玻璃货物堆放不可超过五层。纸箱装货ITO导电玻璃货物，原则上不能堆放。
ITO导电玻璃搬运方法：
易碎品，小心轻放，保持搬运过程中的稳定性，搬运时层高不得超过三层

❺ ITO玻璃怎么清洗啊！

ITO玻璃清洗：
没有涂层的一面可以按常规玻璃清洗；
有涂层的一面，采用的是先湿法（乙醇。丙酮）超声清洗过，红外烘干，然后采用干法清洗（紫外臭氧光清洗）以提高ITO表面的功函数。

ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射，紫外线及远红外线。因此，喷涂在玻璃，塑料及电子显示屏上后，在增强导电性和透明性的同时切断对人体有害的电子辐射及紫外、红外线。

❻ 用纯水清洗玻璃器皿，最后如何判定清洗是否干净测试电导率是否可以判断

做实验用，玻璃抄器皿清洗不是一个简单袭事情，关系很重要。国外都是一次性。
清洗1根据器皿使用情况分类，采用一些试剂清除中和上次实验残留。
2清水加清洁类清洗，用刷子刷干净。
3 清水清 2次。
4纯水清一次。
5 烘干，打包。备用

❼ 液晶显示器是什么原理制造的

液晶是一种具有规则性分子排列的有机化合物，它即不是固体也不是液体，它是介于固态和液态之间的物质，把它加热时它会呈现透明的液体状态，把它冷却时它则会出现结晶颗粒的混浊固体状态。液晶按照分子结构排列的不同分为三种：粘土状的Smectic液晶，细柱形的Nematic液晶和软胶胆固醇状的 Cholestic液晶。这三种液晶的物理特性各不相同，而第二类的细柱形的Nematic液晶最适于用来制造液晶显示器。

TN、STN、DSTN三种液晶都属于无源矩阵LCD，它们的原理基本相同，不同之处只是各个液晶分子的扭曲角度略有差异而已，其中DSTN（俗称“伪彩 ”）在早期的笔记本电脑显示器及掌上游戏机上广为应用，但由于其必须借用外界光源来显像所以其有很大的应用局限性，但这些早期的反射型单色或彩色没有背光设计的LCD可以做得更薄、更轻和更省电，如果能在技术上对其进行革新这些东东对于掌上型电脑和游戏机来说还是非常有用的。而TFT薄膜晶体管型有源矩阵 LCD则是我们今天液晶显示器上应用的主流，它具有屏幕反应速度快，对比度好，亮度高，可视角度大，色彩丰富等优点。

最早的液晶显示器TN它由玻璃板，偏光器，ITO膜，配向膜组成两个夹层等组成，它是所有液晶显示器技术原理的鼻祖。而TFT液晶显示器同TN系列液晶显示器一样由玻璃基板、ITO膜、配向膜、偏光板等部分组成，它也同样采用两夹层间填充液晶分子的设计，只不过把TN上部夹层的电极改为FET晶体管，而下层改为共同电极。在光源设计上，TFT的显示采用“背透式”照射方式，即假想的光源路径不是像TN液晶那样的从上至下，而是从下向上，这样的作法是在液晶的背部设置类似日光灯的光管。光源照射时先通过下偏光板向上透出，它也借助液晶分子来传导光线，由于上下夹层的电极改成FET电极和共通电极。在FET电极导通时，液晶分子的表现如TN液晶的排列状态一样会发生改变，也通过遮光和透光来达到显示的目的。但不同的是，由于FET晶体管具有电容效应，能够保持电位状态，先前透光的液晶分子会一直保持这种状态，直到FET电极下一次再加电改变其排列方式。相对而言，TN系列液晶屏就没有这个特性，液晶分子一旦没有施压，立刻就返回原始状态，这是TFT液晶屏的优点。

大家知道TFT液晶显示器的每个点都由红绿蓝三部分组成，一般情况下15寸分辨率为1024X768的TFT液晶显示器的点距为0.30mm左右。TFT 液晶显示器与CRT显示器不同，其具有固定的分辨率，只有在指定使用的分辨率下其画质才最佳，在其它的分辨率下可以以扩展或压缩的方式，将画面显示出来。

❽ 工业生产中为什么要用纯水清洗材料

edi水处理模块是超纯水装置中重要组成部分，制水纯度的高低直接受到离子水设备edi膜块运行状态的影响，所以必须对EDI膜块进行定期维护清洗，确保设备长期稳定运行。
超纯水edi清洗操作流程概述
独立循环清洗程序
1、排空清洗系统。
2、若是使用直通清洗方法，则不能在开始清洗之前或在清洗步骤之间排空 EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。若是使用再循环清洗方法，则在开始清洗之前或在清洗过程中排空EDI系统(如果已工作超过一个步骤)。
3、通过关闭 EDI系统淡水进口，淡水出口，淡水冲洗出口，浓水排放，及极水出口阀将 EDI系统与上游及下游隔离开。
4、通过关闭浓水进口隔离阀来将浓水管线与淡水和极水管线隔离开。
edi超纯水处理设备清洗程序
清洗程序 1: 浓水管线清洗及消毒。
清洗程序 2: 淡水管线清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、首选清洗模式：直通，逆流(低及 高 pH值都可);再循环(氧化剂)。
2、可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)。
注意: 由于硬度结垢几乎完全发生在浓水室和极水室，淡水室的低PH清洗并不常用。在极端严重结垢或十分混乱的条件下，需要保留淡水室的低PH清洗。
清洗程序 3: 极水管线清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、直通逆流(低及 高 pH值都可)再循环(氧化剂)。
2、可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可。

❾ 计算器的显示器有什么显示的也有什么

液晶显示器(lcd)是基于液晶电光效应的显示器件。包括段显示方式的字符段显示器件；矩阵显示方式的字符、图形、图像显示器件；矩阵显示方式的大屏幕液晶投影电视液晶屏等。液晶显示器的工作原理是利用液晶的物理特性，在通电时导通，使液晶排列变得有秩序，使光线容易通过；不通电时，排列则变得混乱，阻止光线通过。一．工艺流程简述：

前段工位：

ITO 玻璃的投入（grading）—— 玻璃清洗与干燥（CLEANING）——涂光刻胶（PR COAT）——前烘烤（PREBREAK）——曝光（DEVELOP） 显影（MAIN CURE）——蚀刻（ETCHING）—— 去膜（STRIP CLEAN）—— 图检（INSP）——清洗干燥（CLEAN）——TOP 涂布（TOP COAT）——
UV 烘烤（UV CURE）—— 固化（MAIN CURE）——清洗（CLEAN）—— 涂取向剂（PI PRINT）——固化（MAIN CURE）—— 清洗（CLEAN）——丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING）—— 烘烤（CUPING FURNACE）—— 喷衬垫料（SPACER SPRAY）—— 对位压合（ASSEMBLY）—— 固化（SEAL MAIN CURING）

1． ITO 图形的蚀刻：（ITO 玻璃的投入到图检完成）

A． ITO 玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO 玻璃装入传递篮具中，要求ITO 玻璃的规格型号符合产品要求，切记ITO 层面一定要向上插入篮具中。

B． 玻璃的清洗与干燥： 将用清洗剂以及去离子水（DI 水）等洗净ITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO 表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。

C． 涂光刻胶： 在ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理：（如下图）

D． 前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。

E． 曝光：用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示）

F． 显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理。（如图：）

G． 坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。

H． 刻蚀：用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO 膜蚀掉，这样就得到了所需要的ITO 电极图形，如图所示：

注：ITO 玻璃为（In2O3 与SnO2）的导电玻璃，此易与酸发生反应，而用于蚀刻掉多余的ITO，从而得到相应的拉线电极。

I． 去膜：用高浓度的碱液（NaOH 溶液）作脱膜液，将玻璃上余下的光刻胶剥离掉，从而使ITO 玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的ITO 图形。（即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成，如图）

J． 清洗干燥：用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其它的杂质。

2． 特殊制程：（TOP 膜的涂布到固化后清洗）

一般的TN 与STN 产品不要求此步骤，TOP 膜的涂布工艺是在光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能有效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等等，因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布。

3． 取向涂布（涂取向剂到清洗完成）

此步工艺为在蚀刻完成的ITO 玻璃表面涂覆取向层，并用特定的方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方向取向（排列），此步骤是液晶显示器生产的特有技术。

A． 涂取向剂：将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采用选择涂覆的方法，在ITO 玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向层，同时对取向层做固化处理。（一般在显示区）

B． 固化： 通过高温处理使取向层固化。

C． 取向摩擦：用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，以使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。如TN 型号摩擦取向：45 度

D． 清洗： 取向摩擦后的玻璃上会留下绒布线等污染物，需要采取特殊的清洗步骤来消除污染物。

4． 空盒制作：（丝网印刷到固化）

此步工艺是把两片导电玻璃对叠，利用封接材料贴合起来并固化，制成间隙为特定厚度的玻璃盒。制盒技术是制造液晶显示器的最为关键的技术之一。（必须严格控制液晶盒的间距）

A． 丝印边框及银点：将封接材料（封框胶）用丝网印刷的方法分别对上板印上边框胶和和下板玻璃印是导电胶。

B． 喷衬垫料： 在下玻璃上均匀分布支撑材料。将一定尺寸的衬垫料（一般为几个微米）均匀分散在玻璃表面，制盒时就靠这些材料保证玻璃之间的间距即盒厚。

C． 对位压合： 按对位标记上与下玻璃对位粘合，将对应的两片玻璃面对面用封接材料粘合起来。

D． 固化： 在高温下使封接材料固化。固化时一般在上下玻璃上加上一定的压力，以使液晶盒间距（厚度保持均匀）。

后段工位：

切割（SCRIBING）—— Y 轴裂片（BREAK OFF）—— 灌注液晶（LC INJECTION）—— 封口（END SEALING）——X 轴裂片（BREAK OFF）—— 磨边—— 一次清洗（CLEAN） ——再定向（HEATING） ——光台目检（VISUAL INSP）—— 电测图形检验（ELECTRICAL）——二次清洗（CLEAN）—— 特殊制程（POLYGON）——背印（BACK PRINTING）—— 干墨（CURE）—— 贴片（POLARIZER ASSEMBLY）—— 热压（CLEAVER）—— 成检外观检判（FQC） ——上引线（BIT PIN）—— 终检（FINAL INSP）——包装（PACKING）—— 入库（IN STOCK