⑴ 超纯水硬度是多少
若是指蒸馏水,一般不测定硬度,只是进行钙、镁离子的定性检查,方法如下:
版钙离权子:取少量于试管中,加数滴氨水使之呈碱性,再加草酸铵液二滴,放置十二小时后无沉淀即合格。
镁离子:取少量于试管中,加0.1%鞑靼黄一滴及6N的氢氧化钠数滴,如有淡红色出现,就证明有镁离子,如呈黄色则合格。
若是一般的水,通常硬度也是指钙镁离子的含量,通常用EDTA络合滴定法,多数资料都有介绍。
希望对你有用。
⑵ 硅钢的含硅量到底是多少
正常情况下是在0.5-4.8%.随硅含量的提高,钢的强度和硬度增加,脆性也显著增加,使轧制和加工困难。而且硅易氧化而使硅钢片生锈。冷轧硅钢中硅一般不超过4.8%,但目前也出现了6.5%的高硅钢。按其含硅量不同可分为低硅和高硅两种。低硅片含硅2.8%以下,它具有一定机械强度,主要用于制造电机,俗称电机硅钢片;高硅片含硅量为2.8%-4.8%,它具有磁性好,但较脆,主要用于制造变压器铁芯,俗称变压器硅钢片。两者在实际使用中并无严格界限,常用高硅片制造大型电机。
⑶ 一般石头含硅多少
总的来说:岩浆岩中:中性岩、酸性岩硅含量很高、例如:花岗岩斑岩、石英斑岩等。还有火山喷发出的玻璃物质、隐晶质的髓石、玛瑙、蛋白石等
沉积岩中:硅质白云岩、砂岩、石英砂岩等
变质岩中:石英岩、石英片岩、石英片麻岩、矽卡岩中的硅含量也不低
⑷ 超纯水中硅离子含量超标是什么原因
可能是超纯柱失效导致,硅离子是弱电解质,属离子交换过程中不易去除物质,因此当超纯柱交换能力下降时,这些离子容易超标
⑸ 硅的最高纯度可以达到多少
目前硅纯度比较高的一般为9个9!!
⑹ 地下水全硅和有效硅含量分别为多少
地下水全硅和有效硅含量分别为多少
硅铁中硅的含量可以用仪器分析和化学分析手内段测定,用仪器分析我不在行,容你可以去荧光分析、原子吸收等板块看看,或许能找到好的方法。
用化学分析方法,常用的有重量法、滴定法、光度法、比重法。重量法准确但分析步骤繁琐,时间较长,需要4~8h甚至更长时间;滴定法分析时间1~2h,准确度堪与重量法相比;光度法(或者差示光度法)分析时间15~20min,准确度也较高,但是受操作者水平和标样、器皿、药品质量影响较大;比重法最快,只需要5min左右,用于一般的分析验证可用,准确较低。
我个人推荐使用滴定法(氟硅酸钾滴定法),采用抽滤操作,合理安排分析步骤,可以将分析时间缩短到40min以内,而且分析数据准确度较高,更为有利的是,除了比重法,这是药品器材消耗最低的一种方法,也就是说分析成本最低,就是性价比最高。
⑺ 超纯水的基本概况
超纯水处理是指下列杂质含量极低的水:
①无机电离杂质,如 Ca2+、Mg2+、Na+、K+、Fe2+、Fe3+、Mn2+、Al3+、HCO-、CO32-、SO42-、Cl2、NO3-、NO2-、SiO32-、PO43-等;
②有机物,如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等;
③颗粒,如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等;
④微生物,如细菌、浮游生物和藻类等;
⑤溶解气体,如N2、O2、CO2、H2S等。超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。理论上,纯水 中只有H离子和OH离子参加导电。在25℃时超纯水的电阻率为 18.3(兆欧·厘米),一般约为15~18(兆欧·厘米)。
超纯水中有机物含量由测定有机物碳含量而定,电子工业超纯水中规定含量为50~200微克/升,并要求直径大于1微米的颗粒性物质每1毫升内含量为1~2个,微生物每1毫升为0~10个。现代采用预处理、电渗析、紫外线杀菌、反渗透、离子交换、超滤和各种膜过滤技术等,使超纯水的电阻率在25℃时达到18(兆欧·厘米)。
依各种原水水质和用户要求的不同,超纯水的制备工艺大体可分为预处理、脱盐和精处理三步。 超纯水,主要工艺流程
⒈预处理----复床 ----混床---抛光树脂
⒉预处理----反渗透---混床---抛光树脂
⒊预处理----反渗透----CEDI膜块----抛光树脂
传统超纯水制取设备工艺流程:原水—多介质过滤器—活性炭过滤器—一级除盐—混床—超纯水
膜法超纯水制取设备工艺流程:原水—超滤—反渗透—EDI—超纯水
在膜法工艺中,超滤,微滤替代澄清,石英砂过滤器,活性炭过滤器,除去水中的悬浮物胶体和有机物,降低浊度,SDI,COD等,可以实现反渗透装置对污水回用的安全,高效运行,以反渗透替代离子交换器脱盐,进一步除去有机物,胶体,细菌等杂质,可以保证反渗透出水满足EDI进水的要求,以EDI代替混床深度脱盐,利用电而不是酸碱对树脂再生,避免了二次污染。 中国国家实验室分析用水标准(GB6682-92)《分析实验室用水规格和实验方法》: 指标名称 一级水 二级水 三级水 1级水>10MΩ 2级水>1MΩ 3级水>0.2MΩ PH值范围(25℃) -- -- 5.0-7.5 比电阻MΩ.cm(25℃)> 10 1 0.2 电导率(25℃)≤ 0.1 1 5 可氧化物[以O计]mg/L -- 0.08 0.40 吸光度(254nm,1cm光程)≤ 0.001 0.01 -- 二氧化硅(mg/L) 0.02 0.05 -- 蒸发残渣(mg/L) -- 1.0 2.0