1. 电容去离子是个神马
超级来电容是通过物理原理做的源电池，而二次电池多是用化学原理做的化学电池。所以两者本质上就是两回事，一个是物理上的电荷转移，一个是把化学能转变成电能。 使用上，超级电容内阻更小，所以瞬间放出的电流可以更大。
2. 电容去离子技术方向的博士有钱途吗
电去离子技术(EDI,electrodeionization)，是将离子交换树脂填充在电渗析器的淡水室中从版而将离子交换与电渗析进行有机结合，权在直流电场作用下同时实现离子的深度脱除与浓缩，以及树脂连续电再生的新型复合分离过程。该方法既保留了电渗析连续除盐和离子交换树脂深度除盐的优点，又克服了电渗析浓差极化所造成的不良影响，且避免了离子交换树脂酸碱再生所造成的环境污染。所以，无论从技术角度还是运行成本来看，EDI都比电渗析或离子交换更高效。但同时处理过程中也不同程度存在膜堆适用性差，过程运行不够稳定，易形成金属氢氧化物沉淀等问题。随着研究的不断深入，上述问题将逐步解决，EDI也将成为一种很有发展潜力的重金属废水处理技术。
3. 为什么蒸馏能除去重金属离子
蒸馏过程中，水（或油等）先由液体升华成气态，然后遇冷液化，温度达不到让重金属汽化，故而可以收集到不含重金属的水（或者不同分子量的油）
4. 直接利用淋洗法可以把重金属离子淋洗出来吗
可以的 淋洗法就是用清水或含有能增加重金属水溶性的某些化学物质的水把污染物冲至根外层，再用含有一定配位体的化合物或阴离子与重金属形成较稳定的络合物或生成沉淀。一般利用去离子水或盐酸、EDTA等与土壤中的重金属发生作用，形成溶解性金属离子或金属-EDTA络合物，再通过淋洗使重金属从土壤中排出，可以淋洗出大量的重金属离子。
5. 什么是去离子水设备，去离子水采用的工艺有离子交换
去离子水设备，是离来子交换系统自。离子交换系统是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺，阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统，离子交换阴床系统及离子交换混床系统，而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水，高纯水的终端工艺，它是用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。
去离子水设备主要用途
1、化妆品行业：护肤品、洗发水、染发剂、牙膏、洗手液生产用水
2、电子工业：铝箔清洗、电子管喷涂配液、显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水
3、电池行业：蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水
4、混凝土外加剂配制用水
5、玻璃镀膜、玻璃制品清洗及灯具清洗用水
6、纺织印染工业：印染助剂配制、湿巾及面膜生产用水
7、超声波清洗用水
8、涂装行业：涂料配制、电镀配制清洗、电泳漆配制清洗用水
6. 除去水中重金属离子有哪些方法，其原理和优缺点
除去水中重金属离子有哪些方法，其原理和优缺点
重金属大概有这些,铜、铅、锌、铁、钴、镍、锰、镉、汞、钨、钼、金、银,这些都可以用碱除去,使其生成沉淀,然后过滤除
7. 纯水中有哪些重金属离子
都说是纯水，就是纯净的H2O啦，还有重金属离子吗，呵呵
8. 有机物质分析、重金属测试、团相、液相金属离子和非金属离子检测。
液相金属离子和非金属离子检测可以用GC、HPLC等检测仪器，或者用离子色谱法，ELASA等方法罗。
合金的啊，接触不多，所以帮你找来了~~~
范围
本标准规定了铝及铝合金中硅含量的测定方法。
本标准适用于铝及铝合金中硅含量的测定。测定范围0.001~0.40%
本标准不适用于含锡的铝合金
2 方法提要
试料以氢氧化钠和过氧化氢溶解,用硝酸和盐酸酸化.用钼酸盐使硅形成硅钼黄络合物(约Ph0.9)用硫酸提高酸度,以1-氨基-2-奈酚-4-磺酸或抗坏血酸为还原剂,使硅形成钼蓝络合物.于分光光度计波长810nm处测定其吸光度.
3 试剂
制备溶液和分析用水均为二次去离子水.
3.1 硝酸[C(NHO3.)=8.00mol]:移取540ml硝酸(ρ1.42g/ml,优级纯),以水稀释至1000ml,混匀.以预先在110℃干燥过的10.600g无水碳酸钠进行标定,以甲基红溶液(3.14)为指示剂.理论上应消耗25ml硝酸.必要时加水或酸调成8 mol.
3.2 盐酸[C(HCI)=4.4 mol]
氧氧化钠溶液(6.4)混匀，冷却，以水稀释至350ml、在不断搅拌下滴加氢氧化钠溶液（3.4)调节溶液至约pH7．.[用酸度计(4.2)检查』；过滤于500ml容量瓶中,以水洗涤并稀释至刻度,混匀.贮存于聚乙烯瓶中。用硝酸(3.1)进行标定.以甲基红溶液(3.14)为指示剂.
3.5 酒后酸溶液(200g/L)
3.6 还原溶液
3.6.1 1-氨基-2-奈酚-4-磺酸(1.5g/L):用100ml水溶解7g无水亚硫酸钠,加1.5g 1-氨基-2-奈酚-4-磺酸,搅拌至完全溶解.另外用800ml水溶解90g偏二亚硫酸钠(NA2S2O5).将此两种溶液混合.用中速定量滤纸滤于1000ml容量瓶中,以水稀释至刻度,混匀.移入棕色瓶中,使用期不得超过一个月.
3.6.2 抗坏血酸溶液(20g/L,用时现配)
3.7 钼酸铵溶液(106g/L):将53g钼酸铵[(NH4)6MO7O24·4H2O]溶解于250ml水中,加入ml氢氧化钠溶液(3.4)混匀,冷却.以水稀释至350ml在不断搅拌下滴加氢氧化钠溶液(3.4)调节溶液至PH7.2[用酸度计(4.2)检查],过滤于500ml容量瓶中,以水洗涤冬藏稀释至刻度,混匀.贮存于聚乙烯瓶中.
3．8 过氧化氧(6%)
3，9 亚硫酸钠溶液(100g／l。)，
3．10 基体溶液于400 ml。聚乙烯瓶中,加入40.00ml，氧氧化钠溶液(3.4),加入200m水,用54ml硝酸(3．1)和40.00ml盐酸(3．2)酸化，冷却，移入500ml容量瓶中，以水稀释至刻度.混匀,存于聚乙烯瓶中。
3．11 硅标准贮溶液
3，11.1．称取o．2140g预先在1000(灼烧至恒重的二氧化硅(优级纯)于铂坩埚是.盖上铂表皿、加入2g碳酸钠和碳酸钾的混合物(1+1))，熔融至透明，冷却，用温水溶解熔块．移人聚乙烯杯中；用水稀释全700ml。移人1000ml。容量瓶中定容。贮存于聚乙烯瓶中.此溶液1ml含0.1mg硅。
311.2 称取(0.670 2g氟硅酸钠(优级纯)于500mI。聚乙烯烧杯中,加入400 ml。温水。盖上粒塑料盖在水浴中加热乏完伞溶解。继续加热30min．随时用聚乙烯棒搅拌。冷却。移入1000ml,容量瓶中以水稀释至刻度，混匀。贮存于聚乙烯瓶中,此溶液1mI含0.1mg硅。
3．12 硅标准溶液(用时现配)：移取50.00ml。硅标准贮存溶液(3.11.1或3.11.2)于500ml容量瓶中以水稀释至刻度，混匀。贮存于聚乙烯瓶中,此镕液1ml。含0.01mg硅。
3.13硅标准溶液(用时现配)：移取100.00ml。硅标准贮存溶液(3.12)于500ml容量瓶中,经水稀释至刻度。均匀。贮存于聚乙烯瓶小，此溶液1ml有含0.002mg硅.
3 14 甲基红溶液(0.2g/L):溶解0.02g甲堆红于60ml乙醇溶液(95+5)中,以水稀释至刻度,混匀.
4 仪器
4.1 分光光度计
4.2 酸度计
5 试样
将试样加工成厚度不大于1mm的碎屑
6 分析步骤
6.1 试料
按表1称取试样.精确至0.0001g.
硅的质量分数,% 试料 g 酸化用酸体积,ml 移取试液(6.4.2)体职 补加空白试验溶液(6.3),ml 吸收池厚度,cm
硝酸(3.1) 盐酸(3.2)
0.001~0.020 1.000 27.5 10.0 50.00 _ 5
>0.02~0.20 0.2500 17.0 10.0 50.00 _ 1~3
>0.20~0.40 0.2500 17.0 10.0 25.00 25.00 1
6.2 测定次数
独立地进行两面次测定,取其平均值
6.3 空白试验
随同试料做空白试验,酸化碱性溶液时用13.5ml硝酸(3.1)和10.0ml盐酸(3.2)
注：空白试验的吸光度很低。例如不超过在相同条件下则量试样溶液所得吸光度的五分之一。
6.4 测定
6.4.1 将试料(6.1)置于100ml。银皿(或坩埚)小。加入10.0mi。氢氧化钠溶液(3．4)，盖上银表皿，缓慢加热(不要煮沸)至完全溶解。加入2mi。过氧化氢(3．8)，加热蒸发至糊状，冷却。用约30mi，温水冲洗银表皿和银表皿(或坩埚)壁。缓慢加热(不要煮沸)至盐类溶解。用温水稀释至70mi～8()ml，，加热15min!-20min（不要煮沸)。 ’
6.4.2 冷却。用聚乙烯棒边搅拌边将碱性试液(6.4.1)移入盛右酸化用酸(见表1)和即50ml，温水的400ml。烧杯，I，[勿使碱性试液(6.4.1)接触杯壁]。用温水洗涤银表皿和银皿(或坩埚)壁[如有氢氧化锰析出粘附银皿(或坩埚)壁上,可加入少量盐酸(3.2)和数滴亚硫酸钠溶液(3．9)使其溶解，用温水洗入烧杯小中]。将试液释至约180ml。』,加热至近沸，必要时加数滴亚硫酸钠溶液(3．9)使氢氧化锰完全溶解。缓慢点沸10s-15s；冷却。移人250ml容最瓶中．以水稀释至刻度。混匀。
注：钛含量高时．试液浑浊。用慢速定量滤纸过滤于250ml容瓶中，用热水洗滤纸，洗液并人容量瓶中。
6.4.3 按表1移取试液(6.4.2)和补加的随问试料做的空验溶液(6．3)于l000ml，容量瓶中,加入15ml水，加入5ml钼酸铵溶液(3.7)。混匀。于20℃~30℃即放10min.
6.4.4 加入5ml酒石酸溶液(3.5),15.0ml。硫酸(3.3)，5 ml。还原溶液(3.6)，混匀。以水稀释至刻度,均匀、放置10min
6.4.5 将部分试液(6.4.4)和随同试料所做的空白试验溶液(6．3)移人吸收池(见表1)中，以水为参比．于分光度计波810nm处测量吸光度(在3()min内测定完毕)。以试液(6.4. 4)的吸光度减去随同料所做空白试验溶液(6．3)的吸光度。从工作曲线上查出相应的硅量。
6．5 工作曲线的绘制
6.5.1 移取0.,2.50,5.00,10.00,15.00,20.00ml硅标准溶液(3.13)和5.00,10.00,15.00,20.00ml标准溶液(3.12)于一组10ml-容量瓶中，各加入25.0ml。基体溶液(3．10)，以水稀释至约约65ml加入5 mI钼酸铵溶液(3.7)，混匀。于20℃~30℃放置10min.以下按6.4.4进行。
6.5.2 将部分系列标准溶液(6.5.1)移入吸收池(见表1)中，以试剂空白
溶液(含基体溶液但不加硅标准溶液者)为参比，于分光光度计波长810nm处测量其吸光度(在30 min内测定完毕)，以硅量为横坐标,吸光度为纵坐标,绘制工作曲线.
式中：W（si）----硅的质量分数，%
m1----自工作曲线上查得的硅量，mg
v1----移取试液的体积 ml
v2---试液总体各ml
m0---试烂的质量 ，g
8 允许差
实验之间分析结果的差值应不大于下表2所列允许差
硅的质量分数 允许差
0.0010~0.0025 0.0004
>0.0025~0.0050 0.0007
>0.0050~0.0075 0.0011
>0.0075~0.0100 0.0015
>0.010~0.025 0.0025
>0.025~0.050 0.005
>0.050~0.075 0.007
0.075~0.000 0.010
>0.100~0.250 0.015
>0.25~0.40 0.03
9. 反渗透能去掉重金属离子吗
可以。用自来水制纯水就用反渗透去重金属离子。
10. 电镀去离子水设备有哪些工艺流程
电镀去离子水设备也叫EDI电除盐模块，常用来处理超纯水。专
处理属超纯水一般工艺是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置、EDI电除盐装置、抛光混床单元等多种处理方法，电阻率方可达18兆欧以上。
电镀去离子水设备工艺流程：
原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备
→EDI模块→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点