di水设备

1. DI Water能喝吗

DI water DI水设备被广泛应用于电力产业超纯水设备,用于糖化麦汁的降温和发酵降温，是组成啤酒设备的一大耗能系统。

2. 半导体晶圆湿法清洗设备滚珠丝杠怎么选型

半导体IC制程主要以四项基础工艺（离子注入、扩散、外延生长及光刻）为基础逐渐发展起来，由于集成电路内各元件及连线相当微细，因此制造过程中，如果遭到尘粒、金属的污染，很容易造成晶片内电路功能的损坏，形成短路或断路等，导致集成电路的失效以及影响几何特征的形成。因此在制作过程中除了要排除外界的污染源外，集成电路制造步骤如高温扩散、离子植入前等均需要进行湿法清洗或干法清洗工作。湿法清洗工作是在不破坏晶圆表面特性及电特性的前提下，有效地使用化学溶液清除残留在晶圆上之微尘、金属离子及有机物之杂质。

2、IC污染物杂质的分类
IC制程中需要一些有机物和无机物参与完成，另外，制作过程总是在人的参与下在净化室中进行，这样就不可避免的产生各种环境对硅片污染的情况发生。根据污染物发生的情况，大致可将污染物分为颗粒、有机物、金属污染物及氧化物。

2.1颗粒
颗粒主要是一些聚合物、光致抗蚀剂和蚀刻杂质等。通常颗粒粘附在硅表面，影响下一工序几何特征的形成及电特性。根据颗粒与表面的粘附情况分析，其粘附力虽然表现出多样化，但主要是范德瓦尔斯吸引力，所以对颗粒的去除方法主要以物理或化学的方法对颗粒进行底切，逐渐减小颗粒与硅表面的接触面积，最终将其去除。

3、湿法清洗技术
湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学法、 IMEC清洗法、单晶片清洗等。
RCA清洗法依靠溶剂、酸、表面活性剂和水，在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用化学品后都要在超纯水（UPW）中彻底清洗。

上海曼鲁精密工程技术有限公司致力于半导体晶圆湿法清洗设备滚珠丝杠的定制，现货库存，此外我司代理NSK滚珠丝杆，DD马达，NSK直线导轨，NSK精密轴承，模组，润滑脂一切以用户需求为中心，深受广大客户的欢迎。公司秉持诚信为本的经营理念，在机械及行业设备深耕多年，以技术为先导，以自主产品为重点，发挥人才优势，打造机械及行业设备良好品牌。上海曼鲁精密工程技术有限公司立足于全国市场，依托强大的研发实力，融合前沿的技术理念，飞快响应客户的变化需求。

上海斯将利传动机械有限公司成立于2005年，是一家经营滚珠丝杠，直线导轨，轴承的专业传动部件老牌供应商，服务行业涉及半导体、汽车、新能源、医疗、电子3C、机床、注塑机等众多领域，多年的行业经验汇聚了一批优秀的传动部件优秀团队，可从前期技术选型-设计-加工-检测-安装指导-售后维修等一系列专业服务。为了更好服务客户，2018年在江苏盐城投资20亩厂房集仓储、丝杠轴端加工、导轨切割、集成检测等于一体的综合性滚珠丝杆，直线导轨传动部件供应商。
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3. 中央空调冰水管和回水管的压力是多少

冷冻水泵正常运转时，看看泵前泵后的压力表，所示示数就是供水管和回水管的压力。二者只差等于水泵扬程的话，说明水泵处于最佳性能。

10米高度压力1公斤，20米高度，压力2公斤，35米高度压力3.5公斤，依此类推。若压力不足，则说明最高点管道有空气，水没补满。

基本上都应该大于0.5公斤。若冷冻水进出主机的压力差小于0.3公斤，应当作冷冻水流量不足的故障来处理，要仔细检查原因，不可盲目开机。

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液体汽化制冷是利用液体汽化时的吸热、冷凝时的放热效应来实现制冷的。液体汽化形成蒸汽。当液体（制冷工质）处在密闭的容器中时，此容器中除了液体及液体本身所产生的蒸汽外，不存在其他任何气体，液体和蒸汽将在某一压力下达到平衡；

此时的汽体称为饱和蒸汽，压力称为饱和压力，温度称为饱和温度。平衡时液体不再汽化，这时如果将一部分蒸汽从容器中抽走，液体必然要继续汽化产生一部分蒸汽来维持这一平衡。

4. 光刻版不小心用手碰到了怎么清洗

光刻版不小心用手碰到了清洗方法：对于光刻胶及其他有机污染物，比较常见的方法是通过有机溶剂将其溶解的方法将其去除，例如利用丙酮浸泡光刻版，在浸泡的同时可以超声提高浸泡效果。

对于比较干净的光刻板，浸泡基本就能将有机污染物去除干净。对于光刻胶较多的光刻板，浸泡只能将光刻胶泡软，还需要用无尘布或无尘棉蘸丙酮轻轻擦洗，或在光刻板清洗设备中采用毛刷刷洗，通过外力将顽固的光刻胶去除掉。

毛刷刷洗基本原理

光刻板匀速旋转，喷嘴向光刻板表面喷洒丙酮等化学液，使得光刻胶由于溶解而变得松软，然后毛刷接触到光刻板表面，光刻板旋转时与毛刷产生相对运动，辅以喷嘴喷出的化学液，对光刻板表面起到刷洗作用。刷洗完成后，通常采用高压DI水冲洗光刻板，通过高压微细水滴的冲击力去除仍然吸附在光刻板表面的剩余光刻胶。

由于零成像缺陷是可以实现的， 工厂内生产的光刻板需要经常清洗。为了保证光刻板洁净，必须定期对光刻板进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。

5. 蒸馏水与DI水有什么差别

区别：

1、定义

蒸馏水：是指经过蒸馏、冷凝操作的水，蒸二次的叫重蒸水，三次的叫三蒸水 。

DI水：是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。

2、制作方式

蒸馏水：自然界中的水都不纯净 ，通常含有钙、镁、铁等多种盐，还含有机物、微生物、溶解的气体（如二氧化碳）和悬浮物等。用蒸馏方法可以除去其中的不挥发组成。用蒸馏法，并配合以下一些措施，可以获取质量较高的蒸馏水

1、排去初始馏分（约占原水的20%），因为挥发组分主要集中在初始馏分中。

2、排去残留部分（约占原水的20%），因为很多不挥发组分集中在残留水中。

3、添加某些物质以利于蒸馏。例如，添加NaOH，使水中的CO2变成难挥发组分，添加KMnO4可氧化水中的有机物。

DI水：从自来水到去离子水一般要经过几步处理 ：先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质。然后高压通过反渗透膜。最后一般还要经过紫外杀菌以去除水中的微生物。

蒸馏水：

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蒸馏水的用途：

1、在生活中，一般和机器、电器相关的时候，蒸馏水的作用主要是它不导电，保证机器运行稳定，延长电器使用寿命。

2、在医药行业 ，蒸馏水的作用是因为低渗作用。用蒸馏水冲洗手术伤口，使创面可能残留的肿瘤细胞吸水膨胀，破裂，坏死，失去活性，避免肿瘤在创面种植生长。

3、学校里的化学实验，有些需要用蒸馏水，利用的就是蒸馏水无电解质，没有游离离子，或是没有杂质。你需要具体问题具体分析，看看是利用它不导电的性质，还是低渗作用，还是没有其他离子，不会发生化学反应的作用。

DI水的用途：

1、实验室、化验室用水，一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等；

2、电子工业生产，如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等；

3、电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐；

4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等；

5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等；

6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等；

7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水；

8、海水、苦咸水等净化。

参考资料来源：网络-去离子水

参考资料来源：网络-蒸馏水

6. 去离子水设备的工艺流程

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超纯水权DI水纯化水设备标准+ -CEDI连续电去离子设备超纯水系统-MMF+UF+RO废水回用设备-中水回用装置-工业废水再利用设备-污水处理设备；争创业内水处理第一品牌-竭诚为新老客人提供优质产品和技术服务！
纯水、去离子水、超纯水、DI水、纯化水是通过反渗透设备、离子交换设备、EDI去离子水设备、蒸馏设备等手段制取而来的。简单的讲，它们都是属于去离子水；只是水中的去离子程度不一样罢了。
通常纯水设备、去离子水设备、超纯水装置、DI水设备、纯化水设备的水质有电导率：20us/cm 15us/cm 10us/cm 5us/cm 3us/cm 2us/cm 1MΩ.cm 5MΩ.cm 10MΩ.cm 15MΩ.cm 16MΩ.cm 18MΩ.cm 18.2MΩ.cm等等

7. 目前比较先进的五金类PVD设备是那种如

上海浸泰环保建议你清洗工艺：

1槽：超声波清洗 6255 5% 温度65度
2槽：超声波清洗 6255 3% 温度65度
3槽：超声波漂洗 RO水 温度60度
4槽：防锈漂洗 3771 3% 温度55度
5槽：DI水漂洗 温度60度
6槽：DI水漂洗 温度60度
7槽：干燥

8. 铝件电镀产品清洗烘干后表面有水印怎么解决

1。完全解决的办法是改善纯水质量，一般通过电导率判定，数据越低越好。2.临时解决办法是增加脱水剂，3.人工办法是吹干或者擦干。。。。。。

9. 超声波清洗机的频率该如何选择

超声波频率：用于工业超声波清洗行业的主要频率为:25KHZ-40KHZ;半导体晶圆及液晶玻璃等高精密行业可选择60KHZ-120KHZ频率;KHZ表示以频率为单位在一秒间振动的次数单位。

波长：采用谐振液位深度试验洗净洁净度对比结论。市水或DI水或碱性洗涤液的推荐液深

超声波频率为：25KHZ：推荐液位深度为29mm的整数倍液深

超声波频率为：28KHZ：推荐液位深度为2927mm的整数倍液深

超声波频率为：40KHZ：推荐液位深度为21mm的整数倍液深深

上述值会随着液温而变化。

虽然超声波清洗机在工业生产中广泛应用，但由于不同材质和形状等原因，可能会产生清洗损坏。另外，请注意因长时间清洗时因超声波频率不匹配而导致清洗机损坏。