废水废气收集装置

❶ 实验室废水处理方法和装置有哪些

实验室废水含有酸、碱、有机污染物、重金属离子、病原微生物，PH 值变化幅度大，COD 浓度高，主要分为三大类：

1、有机废水：主要来源是实验试剂、溶剂；
2、无机废水：主要来源是酸碱试剂、重金属试剂；
3、生物致病废水：主要来源是微生物培养、血液生化实验，血站、疾控中心等；

实验室废水排放标准：【GB8978-1996】《污水综合排放标准》；
主要检测指标是：重金属、PH值、悬浮物、色度、COD、大肠杆菌等。

实验室废水处理比较成熟的方法及设备：
1、重金属混凝共沉工艺：去除重金属、悬浮物、色度；
2、PH自动调节工艺：酸碱废水自动调节PH值；
3、臭氧氧化消毒工艺：有机废水降解、去除COD、杀灭大肠杆菌；
4、医疗废水按要求还要投二氧化氯；
5、实验室废水处理净化装置：一体化组合工艺处理，全自动运行

❷ 水钻打孔怎么收集废水

水钻打孔收集废水现在出了防污染便携式水钻废水收集装置。

技术方案是：一种防污染便携式水钻废水收集装置，包括固定支撑板和水钻机构，所述固定支撑板上固定设置有钻体轨道杆，固定支撑板的上方设置有废水收集罩体，所述废水收集罩体呈两端开口的筒状，用来收集水钻孔流出的和水钻机构甩出的泥水，废水收集罩体远离待钻平面一端设置有罩体端密封，废水收集罩体通过固定支撑板上安装的罩体固定架压合在待钻平面上，且废水收集罩侧壁上连通设置有排水管;所属水钻机构包括水钻钻头、水钻套筒和电动机，所述水钻套筒位于水钻钻头外围，且水钻套筒一端伸入废水收集罩体内，电动机滑动设置于钻体轨道杆上，水钻钻洞时通过钻体轨道杆向前推进水钻机构，打入待钻平面内。

❸ 废水处理有机废气收集处理装置是一套装置还是两套装置

两套装置 废水和废气的处理方式不一样

❹ 污水处理设备有哪些

首先单纯污水处理的设备有化粪池、地埋式污水处理设备、气浮机、mbr中水回用设内备、mbbr污水处理设备容、sbr污水处理设备、BAF生物曝气滤池、IC厌氧反应器、UASB厌氧塔、WD微电解反应器、氨氮吹脱塔、二氧化氯发生器、格栅、转鼓过滤机、水力筛、沉淀池、机械过滤器、微滤机、一体化净水器、无阀过滤器。另外还有污水里还有矿渣、污泥的，这些就需要真空过滤机、带式压滤机、污泥脱水机。垃圾处理设备就需要垃圾焚烧炉，像餐厨垃圾、生活垃圾、医疗垃圾、塑料垃圾、动物尸体、垃圾场等。

❺ voc废气处理装置

您好楼主

VOCs装置可以分为以下两种

第一：UV光氧和活性炭处理

第二：催化燃烧处理 RTO RCO

以上两种处理方式各有利弊。UV光氧和活性炭处理废气会有一些废气残留。不能完全处理掉所有的废气。整体工程造价相对来说比较低。适合中小微企业。一样能过环评。

UV光氧废气处理流程图

喷涂vocs废气处理工艺

利用高能高奥氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡，所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。

化学原理: UV+O2→O -+O* (活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。

利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸( DNA)，再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。

当恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能C波光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。

本产品利用特制的高能光束照射恶臭气体，裂解恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC类、苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H₂O等。

❻ 有哪些常用的废气回收处理装置

废气处理设备，主要是运用不同工艺技术，通过回收或去除减少排放尾气的有害成分，达到保护环境、净化空气的一种环保设备。

吸收设备

吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收，再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。

含VOCs的气体自吸收塔底部进入塔内，在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触，净化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后，进入汽提塔顶部，在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。

活性炭吸附装置

在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。吸附处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质，多孔固体物质称为吸附剂。

低温等离子设备

等离子体就是处于电离状态的气体，其英文名称是plasma，它是由美国科学muir，于1927年在研究低气压下汞蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成，但电子和正离子的电荷数必须体表现出电中性，这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同，因此又有人把它称为物质的第四种状态。根据状态、温度和离子密度，等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体(包子体和冷等离子体)。其中高温等离子体的电离度接近1，各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态，它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态，各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti)，可达104K以上，而其离子和中性粒子的温度却可低到300～500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。

光催化和生物净化设备

光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几网络的高温。

从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

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