半導體工廠純水參數

① 純水的電導率是多少

根據國家2010版葯典標准，可以得知：

純水的電導率是 ≤2μS/cm (換算為電阻率≥0.5 MΩ.CM)。

當然這只是標准而已，影響純化水導電率的因素還有很多比如溫度、水的純度還有很多的因素。

純水指的是不含雜質的H2O。從學術角度講，純水又名高純水，是指化學純度極高的水，其主要應用在生物、 化學化工、冶金、宇航、電力等領域，但其對水質純度要求相當高，所以一般應用最普遍的還是電子工業。例如電力系統所用的純水，要求各雜質含量低達到「微克/升」級。

(1)半導體工廠純水參數擴展閱讀

電導率，物理學概念，也可以稱為導電率。在介質中該量與電場強度E之積等於傳導電流密度J。對於各向同性介質，電導率是標量；對於各向異性介質，電導率是張量。生態學中，電導率是以數字表示的溶液傳導電流的能力。單位以西門子每米（S/m）表示。

影響因素：

1、溫度

電導率與溫度具有很大相關性。金屬的電導率隨著溫度的升高而減小。半導體的電導率隨著溫度的升高而增加。在一段溫度值域內，電導率可以被近似為與溫度成正比。為了要比較物質在不同溫度狀況的電導率，必須設定一個共同的參考溫度。電導率與溫度的相關性，時常可以表達為，電導率對上溫度線圖的斜率。

2、摻雜程度

固態半導體的摻雜程度會造成電導率很大的變化。增加摻雜程度會造成電導率增高。水溶液的電導率高低相依於其內含溶質鹽的濃度，或其它會分解為電解質的化學雜質。水樣本的電導率是測量水的含鹽成分、含離子成分、含雜質成分等等的重要指標。

3、各向異性

有些物質會有各向異性(anisotropy) 的電導率，必需用 3 X 3 矩陣來表達（使用數學術語，第二階張量，通常是對稱的）。

② 為什麼晶元廠的純水要求sio2

晶元廠的純水要求sio2，是因為sio2具有良好的抗氧化性，可以有效防止水中的氧化物對晶元的腐蝕，從而保證晶元的質量。此外，sio2還具有良好的抗熱性，可以有效防止晶元在高溫下的損賣櫻棗壞，從而保證晶元的穩定性。另外，sio2還具有頌戚良好的抗腐蝕中拆性，可以有效防止晶元在水中的腐蝕，從而保證晶元的安全性。因此，晶元廠的純水要求sio2，是為了保證晶元的質量、穩定性和安全性。

③ 純水的電導率是多少

在25攝氏度時的電導率：

一、工業純水：

1、普通純水：EC=1~10us/cm；

2、高純水：EC=0.1~1.0us/cm；

3、超純水：EC=0.1~0.055；

二、飲用純水：

EC=1~10us/cm(國家標准)。

(3)半導體工廠純水參數擴展閱讀

概念

純水是具有一定結構的液體，雖然它沒有剛性，但它比氣態水分子的排列有規則得多。在液態水中，水的分子並不是以單個分子形式存在，而是有若干個分子以氫鍵締合形成水分子簇( H2O)，因此水分子的取向和運動都將受到周圍其他水分子的明顯影響。對於水的結構還沒有肯定的結構模型，目前被大多數接受的主要有3 種: 混合型、填隙式和連續結構(或均勻結構)模型。

相關指標

在我國桶裝飲用水市場上，主要有純凈水、礦泉水、泉水和天然水、礦物質水等，由於礦泉水、泉水等受資源限制，而純凈水是利用自來水經過一定的生產流程進行生產，因此市場上老百姓飲用最多的還是純凈水，純凈水的質量和老百姓的生活有著密切的關系。為此，國家質量技術監督局於1998年4月發布了GB173233－1998《瓶裝飲用純凈水》和GB17324－1998《瓶裝飲用純凈水衛生標准》。在這兩個標准中，共設有感觀指標4項、理化指標4項、衛生指標11項。

感觀指標

感觀指標包括色度、濁度、臭味、肉眼可見物。這幾個指標是純凈水質量控制中最基本的指標，其制定的標准值參照了飲用水（即自來水）的標准，而大多廠家生產純凈水的水源是自來水，又經過粗濾、精濾和去離子凈化的流程，因此，一般純凈水都能達到國家標准所要求的數值。

理化指標

理化指標中較重要的是電導率和高錳酸鉀消耗量。電導率是純凈水的特徵性指標，反映的是純凈水的純凈程度以及生產工藝的控制好壞。由於生活飲用水不經過去離子純化的過程，因此是不考察此項指標的。而對於純凈水來說「純凈」是其最基本的要求，金屬元素和微生物過高，都會導致電導率偏高。所以，電導率越小的水越純凈。

高錳酸鉀消耗量是指1L水中還原性物質在一定條件下被高錳酸鉀氧化時所消耗的氧毫克數，它考察的主要是水中有機物尤其是氯化物的含量。GB17323－1998《瓶裝飲用純凈水》中規定，飲用純凈水中高錳酸鉀消耗量（以O2計）不得超過1.0mg/L。

如果高錳酸鉀消耗量偏高，有可能水中有微生物超標，也可能是一些廠家為防止微生物超標而增加消毒劑ClO2的量，從而產生一些新的有機鹵代物，在這種情況下，一般游離氯也會超標。

基本標准

高純水的國家標准為：GB1146.1-89至GB1146.11-89[168]，目前我國高純水的標准將電子級水分為五個級別：Ⅰ級、Ⅱ級、Ⅲ級、Ⅳ級和Ⅴ級，該標準是參照ASTM電子級標准而制定的。

高純水的水質標准中所規定的各項指標的主要依據有：

1. 微電子工藝對水質的要求；

2.制水工藝的水平；

3.檢測技術的現狀。

反滲透機理

1、優先吸附細孔模型：弱點干態電鏡下，沒發現孔。濕態膜標本不是電鏡的樣品。

2、溶解擴散模型：不認為有孔。

3、干閉濕開模型，上個世紀，1993年提出了「干閉濕開」反滲透模型，統一了兩個最經典的反滲透機制模型，細孔模型，溶解擴散模型。

干閉濕開模型簡述：膜干時收縮，孔閉合，電鏡下膜「緻密無孔」，稱「干閉」；濕態時，膜溶脹，孔被溶劑撐開，生成動態活膜孔，叫「濕開」。合起來稱「干閉濕開反滲透模型」。

④ 純水和超純凈水的標准各是什麼

純水和超抄純水一般都沒有統一襲的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。

⑤ 純水,純化水,超純水有什麼區別

純水,純化水,超純水的區別如下：

1、製造工藝的的難易程度不同。

純水的製作工藝是經過反滲透、蒸餾等方法製得的。

純化水是用水經蒸餾法、離子交換法、反滲透法或其他適宜方法制備得到的制葯用水。

超純水是在純水的基礎上經過光氧化技術、精處理和拋光處理等一系列復雜的純化技術製得的。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

2、重金屬、細菌、微粒數等指標也大不相同。

純水雜質含量是ppm級，而超純水為ppb級，這種水中除了水分子外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

3、用途不一樣

純水主要應用在生物、 化學化工、冶金、宇航、電力等領域。

純化水一般作為供葯用的水。

超純水一般用於電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

4、電導率不同。

純水電導率在 2-10us/cm 之間，純化水電導率≤0.2us/cm，超純水的電導率為 0.056us/cm。

⑥ 各行業使用純水的標準是什麼

電導率≤10μS/CM 動物飲用純水(醫葯)、普通化工原料配料用純水、食品行業配料用純水等。

電導率≤專4μS/CM 電鍍化屬學品生產用純水、化工行業表面活性劑生產用純水、醫用純化純水、白酒生產用純水、啤酒生產用純水、民用飲用純凈純水用純水、普通化妝品生產用純水、血透純純水機用純水。

電阻率5~10MΩ.CM 鋰電池生產用純水、蓄電池生產用純水、化妝品生產用純水、電廠鍋爐用純水等。

電阻率>17 ML2 CM 磁性材料鍋爐用軟化純水、敏感新材料用純水、半導體材料生產用純水、尖端金屬材料用純水、防

老化材料實驗室用純水、有色金屬; 貴金屬冶煉用純水、鈉米級新材料生產用純水、航空新材料生產用純水、太陽能電池

生產用純水、純水晶片生產用純水、超純化學試劑生產用純水、實驗室用高純水、其它有相同純水質要求的用純水;

5、電阻率>18 ML2 C ITO導電玻璃製造用純水、化驗室用純水、電子級無塵布生產用純水等其它有相同純水質要求的用純水。

⑦ 超純水水質標准

超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

制備
在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

應用
超純水可以在以下領域使用：

（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

（4）高壓變電器的清洗等

⑧ 請問半導體廠房用的純水，按流量計費每立方大約多少錢廢水處理，按流量計費的每立方大約多少錢

半導體廠房用的純水有各種不同等級和運用不同的設備，按基本要求提煉純水流量計費每立方大約由美元1-20不等;
廢水處理也一樣，按流量計費的每立方大約美元0.5-10不等;

⑨ 純水和超純水的pH值該如何檢測

1、攪拌速度：PH值反映的是H+的活度，(H+)而不是H+的濃度[H+]，其關系為(H+)=f×[H+]。F為H+的活度系數。它是由溶液中所有離子的總濃度決定而不只決定於被測離子的濃度。在理論純水中活度系數f等於1，但只要有其它離子存在，活度系數就要改變，PH值也就會改變。即PH值受溶液中總的離子濃度的影響，總離子濃度變化，PH值就要改變。由於復合電極液接界很靠近PH敏感玻璃球泡，從液接界滲漏出的鹽橋溶液首先聚集在敏感球泡周圍，改變了其附近的總離子濃度，由上述原因可知，使用測量值只是敏感球泡附近的被改變了PH值，不能反映其真實的PH值。雖然採用攪拌或搖動燒杯的方法可以改變這種情況，但實踐證明，攪拌速度不同，測試的值也會不一樣，同時攪拌或搖動又會加速CO2的溶解，所以也不可取。 2、高濃度3mol/L的Kcl：由於純水中離子濃度非常低，而參比電極鹽橋溶液選中高濃度3mol/L的Kcl，相互之間的濃度差較大，與它在普通溶液中的情況差別很大。在純水會加大鹽橋溶液的滲透速度，促使鹽橋的損耗，從而加速了K+和CL-的濃度的降低。引起液接界電位的變化和不穩定，而Ag/AgCl參比電極本身的電位取決於CL-的濃度。CL-濃度發生了變化，其參比電極自身電位也會隨之變化，於是就使得示值漂移，特別是不能補充內參比液的復合電極更會如此。 3、Kcl濃度的降低：為了保證復合電極的pH零電位，鹽橋必須採用高濃度的Kcl，同時為了防止Ag/AgCl鍍層被高濃度的Kcl溶解，在鹽橋中又必須添加粉末狀的AgCl，使鹽橋溶液被AgCl飽和。但是根據上述第1條所述，由於鹽橋溶液中Kcl濃度的降低，又使原本溶解在其中的AgCl過飽和而沉澱，從而堵塞液接界。 4、易受污染：純水很容易受到污染，在燒杯中敞開測量，很容易受到CO2吸收的影響，PH值會不停地往下降，有關國際標准規定測量必須在一個特殊的裝置中密閉中進行，但在一般實驗室中難於實行。

⑩ 什麼是UP水

超純水英文名為Ultrapure water又稱水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水，改水幾乎沒有什麼雜質。

高純水是化學純度極高的水，其中的雜質的含量小於0.1mg/L。目前人們製成的高純水的純度已經達到99.%，其中雜質含量低於0.01mg/L。

高純水主要指水的溫度為25℃時，電導率小於0.1us/cm,pH值為6.8-7.0及去除其他雜質和細菌的水。

高純水中的導電介質幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體和有機物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導率小於0. 2μs/cm。

超純水中除了水分子外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

(10)半導體工廠純水參數擴展閱讀

超純水可以在以下領域使用：

（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

（4）高壓變電器的清洗等。