淮北電子級超純水設備

Ⅰ 電子工業超純水設備流程和特點有哪些

方式不同其流程也是不同的 下面只介紹一種採用EDI方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
電子工業超純水設備特點有如下幾點

第一，產水水質穩定、混床往往因為人工再生的不確定性和不準確而造成產水水質不合格。

第二，容易實現全自動控制、混床實現全自動控製成本昂貴，幾乎全為手動控制。

第三，連續運行，想要連續產水需要至少一用一備。

第四，離子交換樹脂是用電解水中氫離子和氫氧根離子進行再生、混床離子交換柱中的陰樹脂是用下行的氫氧化鈉再生，陽樹脂是用上行的鹽酸再生，化學再生操作復雜，有很多的不安全生產因素。

Ⅱ 電子級超純水設備的工作原理是什麼

超純水設備介紹

超純水，是一般工藝很難達到的程度，採用預處理、反滲透技術、超內純化處理以及後級處容理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除τoC裝置、ED電除鹽裝置、拋光混床單元等多種處理方法，電阻率方可達18.25M"CM（25℃）。

超純水設備特點

1.產水水質高而具有較佳的穩定度高

2.連續不間斷制水，不因再生而停機

3.模塊化生產，並可實現全自動控制

4.不須酸鹼再生，無污水排放。

5.無酸鹼再生設備和化學葯品儲運

6.設備結構緊湊，佔地面積小

7.運行費用及維修成本低

8.運行操作簡單，勞動強度低

詳情可見官網：網頁鏈接

Ⅲ 談談超純水設備的優點及性能指標有哪些

超純水設備性來能指標及特點介紹源

(1) 脫鹽率大於99.9%，效率遠遠高於兩級反滲透和單純的離子交換。
(2) 較傳統的離子交換法脫鹽節約樹脂95%以上
(3) 離子交換樹脂不需使用酸鹼再生，節約大量酸鹼和清洗用水，降低勞動 強度。
(4) 清潔生產，無廢水處理問題，利於環保。
(5)電子級超純水設備 自動化程度高，易維護，可設計成完善的膜技術高純水生產線。
(6) 產水電阻率15-18MΩ·cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，徹底無菌。
(7) 電子級超純水設備佔地面積小，單一系統連續運轉，不需建設備用系統。

Ⅳ 電子工業超純水設備的應用范圍

為了滿足電子行業用水需求，根據光電材料，液晶顯示屏生產，加工，清洗等所需使用超純水標准，而設計並生產的一套超純水設備。

edi水處理設備出水符合標准

超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標准、我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

edi超純水裝置-電子行業超純水系統

edi超純水系統工藝流程

預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

應用領域

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製

集成電路生產中高純水清洗矽片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品

Ⅳ 電子工業超純水設備的組成

電子、半導體、液晶顯示等工業在生產過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到後續工藝的處理效果和使用壽命，因此水的質量相當重要。超純水設備在凈化水質方面具有很好的效果，是很多企業都會選擇的水處理設備。
超純水設備一般包括預處理系統、反滲透裝置、後處理系統、清洗系統和電氣控制系統等。

預處理系統一般包括原水泵、加葯裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。預處理系統的設備配置應該根據原水的具體情況而定。
反滲透裝置主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使產水水質滿足使用要求。
後處理系統是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。後處理系統能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。
清洗系統主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。
電氣控制系統是用來控制整個反滲透系統正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制櫃等。
以上這些系統共同組成了一套完整的超純水設備，通過超純水設備制備出來的工業純水，其純度可達到18MΩ·CM，且系統穩定，使用壽命長，且生產過程所產生的廢水又可回用再生，節能環保。

Ⅵ 電子行業用超純水設備幹嘛

EDI高純水設備技術的先抄進性
①不需化學再生葯劑，生產過程無任何污染，屬清潔生產;
②不需停機再生,連續生產水質穩定的高純水(15～18MΩ•cm);
③運行穩定可靠，維護簡單、運行費用低;
④佔地面積小，節約場地建設費用。
EDI高純水設備的主要作用和適用范圍
EDI的作用是精除鹽。在使用RO滲透水脫除97～99%離子的前提下，EDI可直接將反滲透產水提純到純水、高純水、超純水的標准，而無需使用離子交換混床，其產水的電阻率最高可達18MΩ•cm。
EDI設備在對水質要求較高的行業中具有廣泛的應用市場。在電子工業、科研實驗室、檢驗分析行業常用EDI製取18MΩ•cm以上的超純水，在精細化工、發電、電鍍行業常用EDI製取15MΩ•cm以上的高純水，在醫院和制葯行業常用EDI製取5MΩ•cm以上的純化水，在食品飲料行業應用EDI製取0.5MΩ•cm以上的初純水等。

Ⅶ 超純水生產需要哪些設備

1、採用離子交抄換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→後置保安過濾器→用水點2、採用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→後置保安過濾器→用水點3、採用反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配製備電子工業超純水的的方式，這是一種製取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→後置保安過濾器→用水點
。
從以上工藝就能看出你需要哪些設備啦

Ⅷ 電子級超純水 國家標准

電子級純水分為四個級別：Ⅰ級、Ⅱ級、Ⅲ級、Ⅳ級。

這個圖片比較詳細

Ⅸ 電子級超純水設備的工作原理是什麼

電子級超純水設備一般以二級反滲透(RO)純水作為EDI給水，RO純水電阻率一般是40-2µS/cm(25℃)。電子級超純水電阻率可以高達18MΩ.cm(25℃)，但是根據超純水用途和系統配置設置，電子級超純水設備適用於制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水。EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。一定數量的EDI單元間被格板隔開，形成濃水室和淡水室。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室，而通過濃水室的水將離子帶出系統，成為濃水。

Ⅹ 電子級超純水裝置和普通超純水裝置最大的區別是什麼

因為電復子行業生產過程中使用制的葯水不同，生產工藝流程的差異，對純水的品質要求也不一樣。最關鍵的指標是：電導率(電阻率)，總硅，pH值，顆粒度。例如線路板、電路板用純水因為本身工藝流程的不同對純水製造的工藝流程也不同。按照目前絕大部分線路板廠的使用情況來看，大概分為以下三種類型：預處理加離子交換純水系統;反滲透加離子交換系統;高效反滲透EDI超純水設備。
電子級超純水裝置制備的超純水在電導率(電阻率)，總硅，pH值，顆粒度等方面要遠遠好於普通超純水裝置。