採用高純水清洗ito玻璃

❶ 玻璃清洗純水設備有哪些優缺點

1、玻璃清洗純水設備第一種採用離子交換樹脂其優點在於初期投資少，佔用的地方少內，但缺點就是容需要經常進行離子再生，耗費大量酸鹼，而且對環境有一定的破壞。
2、玻璃清洗純水設備第二種採用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初期投資比採用離子交換樹脂方式要高，但離子交換設備再生周期相對要長，耗費的酸鹼比單純採用離子樹脂的方式要少很多。但對環境還是有一定的破壞性。
3、玻璃清洗純水設備第三種採用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前製取超純水較經濟，較環保的工藝方式，不需要用酸鹼進行再生便可連續製取超純水，對環境沒什麼破壞性。其缺點在於初期投資相對以上兩種方式過於昂貴。

❷ 求教ITO玻璃的切割方法，清洗方法

需要使用專門的轉頭來切割或者使用激光切割。通常先對ITO 表面用濕法處理，即用洗滌劑清洗，再用乙醇，丙酮及超聲波清洗或用有機溶劑的蒸汽洗滌，後用紅外燈烘乾。

洗凈後對ITO表面進行活化處理，使ITO 表面層含氧量增加，以提高ITO 表面的功函數，也可以用過氧化氫處理ITO 表面，用比例為水：雙氧水：氨水=5：1：1 的混合溶液處理後,使OLED 器件亮度提高一個數量級。

因為過氧化氫處理會使ITO 表面過剩的錫含量減少而氧的比例增加，使ITO 表面的功函數增加從而增加空穴注入的幾率。

推薦使用:HJ-B311 ITO玻璃清洗劑 適用於LCD前段FTO玻璃清洗。 本品是一種水基型FTO玻璃清洗劑。本品由固體鹽類、聚氧乙烯醚等非離子表面活性劑復配而成，清洗效果好，對玻璃無腐蝕性，對環境污染小。

❸ 玻璃在真空鍍膜前怎麼清洗、烘幹才幹凈

鍍膜玻璃對玻璃的新鮮度要求很高的，一般為7天內最好，超過15天一般就不能用了。至於怎樣清洗呢！還是買一台鍍膜專用的清洗機為好。我只能簡單的回答你清洗的基本程序。玻璃表面噴水—排刷—滾刷—滾刷—滾刷—滾刷—擠水——烘乾，噴水為自來水或者混合水箱的水，前兩道滾刷水是自來水（或者有一道含葯水的自來水)，3、4道水是離子水純度最好在15兆歐以上，烘幹部分注意空氣過濾，最好10萬基以上的空氣質量為好。平時注意棍子的清洗，最好一周2次，用丙酮擦拭。

❹ ITO清洗原則

ITO導電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫（俗稱ITO）膜加工製作成的。液晶顯示器專用ITO導電玻璃，還會在鍍ITO層之前，鍍上一層二氧化硅阻擋層，以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內液晶里擴散。高檔液晶顯示器專用ITO玻璃在濺鍍ITO層之前基片玻璃還要進行拋光處理，以得到更均勻的顯示控制。液晶顯示器專用ITO玻璃基板一般屬超浮法玻璃，所有的鍍膜面為玻璃的浮法錫面。因此，最終的液晶顯示器都會沿浮法方向，規律的出現波紋不平整情況。

在濺鍍ITO層時，不同的靶材與玻璃間，在不同的溫度和運動方式下，所得到的ITO層會有不同的特性。一些廠家的玻璃ITO層常常表面光潔度要低一些，更容易出現「麻點」現象；有些廠家的玻璃ITO層會出現高蝕間隔帶，ITO層在蝕刻時，更容易出現直線放射型的缺劃或電阻偏高帶；另一些廠家的玻璃ITO層則會出現微晶溝縫。
ITO膜層的主要成份是氧化銦錫。在厚度只有幾千埃的情況下，氧化銦透過率高，氧化錫導電能力強，液晶顯示器所用的ITO玻璃正是一種具有高透過率的導電玻璃。由於ITO具有很強的吸水性，所以會吸收空氣中的水份和二氧化碳並產生化學反應而變質，俗稱「霉變」，因此在存放時要防潮。
ITO層在活性正價離子溶液中易產生離子置換反應，形成其它導電和透過率不佳的反應物質，所以在加工過程中，盡量避免長時間放在活性正價離子溶液中。
ITO層由很多細小的晶粒組成，晶粒在加溫過程中會裂變變小，從而增加更多晶界，電子突破晶界時會損耗一定的能量，所以ITO導電玻璃的ITO層在600度以下會隨著溫度的升高，電阻也增大。
ITO導電玻璃按電阻分，分為高電阻玻璃（電阻在150~500歐姆）、普通玻璃（電阻在60~150歐姆）、低電阻玻璃（電阻小於60歐姆）。高電阻玻璃一般用於靜電防護、觸控屏幕製作用；普通玻璃一般用於TN類液晶顯示器和電子抗干擾；低電阻玻璃一般用於STN液晶顯示器和透明線路板。
ITO導電玻璃按尺寸分，有14」x14」、14」x16」、20」x24」等規格；按厚度分，有2.0mm、1.1mm、0.7mm、0.55mm、0.4mm、0.3mm等規格，厚度在0.5mm以下的主要用於STN液晶顯示器產品。

影響ITO玻璃性能的主要參數：

長度、寬度、厚度及允差（±0.20）
垂直度（≤0.10%）
翹曲度（厚度0.7mm以上≤0.10%，厚度0.55mm以下≤0.15%）
微觀波紋度

倒邊
C倒邊（0.05mm≤寬度≤0.40mm）
R倒邊（0.20mm≤寬度≤1.00mm，曲率半徑≤50mm）
倒角（浮法方向2.0mmX5.0mm；其餘1.5mmx1.5mm）
SIO2阻擋層厚度（350埃±50埃，550nm透過率≥90%）
ITO層光學、電學、蝕刻性能（蝕刻液：600C 37%HCL:H2O:67%HNO3=50:50:3）：見表1-1。
表1-1

化學穩定性：

耐鹼為浸入600C、濃度為10%氫氧化鈉溶液中5分鍾後，ITO層方塊電阻變化值不超過10%。
耐酸為浸入250C、濃度為6%鹽酸溶液中5分鍾後，ITO層方塊電阻變化值不超過10%。
耐溶劑為在250C、丙酮、無水乙醇或100份去離子水加3分EC101配製成的清洗液中5分鍾後，ITO層方塊電阻變化值不超過10%。
附著力：在膠帶貼附在膜層表面並迅速撕下，膜層無損傷；或連撕三次後，ITO層方塊電阻變化值不超過10%。
熱穩定性：在3000C的空氣中，加熱30分鍾後，ITO導電膜方塊電阻值應不大於原方塊電阻的300%。

外觀質量：

裂紋：不允許。
粘附物：包括塵粒、玻璃碎等凸起物，TN型ITO導電玻璃鍍膜面不允許有不可去除的高度超過0.1mm的粘附物；STN型ITO導電玻璃鍍膜面不允許有不可去除的高度超過0.05mm的粘附物。
沾污：不可有不溶於水或一般清洗劑無法除去的沾污。
崩邊：長X寬≤2.0mmx1.0mm；深度不超過玻璃基片厚度的50%；總長度≤總邊長的5%。
劃痕：見表1-2。
表1-2

玻璃體點狀缺陷：包括氣泡、夾雜物、表面凹坑、異色點等。點狀缺陷的直徑定義為：d=(缺陷長+缺陷寬)/2。見表1-3。
表1-3

膜層點狀缺陷：SIO2阻擋層和ITO導電層的點狀缺陷包括針孔、空洞、顆粒等，點狀缺陷的直徑定義為：d=(缺陷長+缺陷寬)/2。見表1-5。
表1-5

尺寸：A、測試方法：用直尺和游標卡尺測量待測玻璃原片的長度、寬度、厚度。
B、判定標准：測量結果在供貨商所提供的參數范圍之內為合格。
面電阻: A、測試方法：把待測試玻璃整個區域做為測試區域，然後測試區域分成九等份後再用四探針測試儀分別測試各區域的面電阻。
B、判定標准：根據測試結果計算出電阻平均值及電阻資料分散值，結果在要求范圍內既是合格。
ITO層溫度性能A、測試方法：把待測玻璃原片在3000C的空氣中，加熱30分鍾，測試其加溫前後的同一點面電阻阻值。
B、判定標准：ITO導電膜方塊電阻值應不大於原方塊電阻的300%為合格。
蝕刻性能：A、測試方法：把待測玻璃原片放入生產線所用的蝕刻液中測試其蝕刻完全的時間。
B、判定標准：蝕刻完全的時間值小於生產工藝所設定時間的一半值為合格。
或按表1-1蝕刻性能指標檢測。

ITO層耐鹼性能

A、測試方法：把待測玻璃原片放在600C、濃度為10%氫氧化鈉溶液中5分鍾後，測試其浸泡前後的同一點面電阻阻值。
B、判定標准：ITO層方塊電阻變化值不超過10%為合格。
光電性能與可靠性：
A、測試方法：把待測玻璃與現生產用玻璃按現生產工藝參數，選擇一型號製作成成品並測試其光電與可靠性性能；
B、判定標准：光電性能與可靠性測試結果與現生產用玻璃結果相當，並在測試產品型號要求范圍之內。

ITO導電玻璃的選用規則：

模數在240以上的產品，一般可選用供貨商B級品玻璃；
模數在40模以上，240模以下的產品，一般選用普通A級品玻璃；
模數在40模以下的產品，STN產品，一般選用低電阻拋光玻璃。
COG產品，一般選用15歐姆拋光玻璃。

任何時候都不容許疊放；
除規定外，一般要求豎向放置；平放操作時，盡量保持ITO面朝下；厚度在0.55mm以下的玻璃只能豎向放置；
取放時只能接觸四邊，不能接觸導電玻璃ITO表面；
輕拿輕放，不能與其它治具和機器碰撞；
如果要長時間存放，一定要注意防潮，以免影響玻璃的電阻和透過率；
對於大面積和長條形玻璃，在設計排版時要考慮玻璃基片的浮法方向。
ITO導電玻璃的貯存方法：
ITO導電玻璃應貯存在室溫條件下，濕度在65%以下乾燥保存；貯放時玻璃保持豎向放置，玻璃間堆放不可超過二層，木箱裝ITO導電玻璃貨物堆放不可超過五層。紙箱裝貨ITO導電玻璃貨物，原則上不能堆放。
ITO導電玻璃搬運方法：
易碎品，小心輕放，保持搬運過程中的穩定性，搬運時層高不得超過三層

❺ ITO玻璃怎麼清洗啊！

ITO玻璃清洗：
沒有塗層的一面可以按常規玻璃清洗；
有塗層的一面，採用的是先濕法（乙醇。丙酮）超聲清洗過，紅外烘乾，然後採用干法清洗（紫外臭氧光清洗）以提高ITO表面的功函數。

ITO導電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎上，利用濺射、蒸發等多種方法鍍上一層氧化銦錫（俗稱ITO）膜加工製作成的。作為納米銦錫金屬氧化物，具有很好的導電性和透明性，可以切斷對人體有害的電子輻射，紫外線及遠紅外線。因此，噴塗在玻璃，塑料及電子顯示屏上後，在增強導電性和透明性的同時切斷對人體有害的電子輻射及紫外、紅外線。

❻ 用純水清洗玻璃器皿，最後如何判定清洗是否干凈測試電導率是否可以判斷

做實驗用，玻璃抄器皿清洗不是一個簡單襲事情，關系很重要。國外都是一次性。
清洗1根據器皿使用情況分類，採用一些試劑清除中和上次實驗殘留。
2清水加清潔類清洗，用刷子刷干凈。
3 清水清 2次。
4純水清一次。
5 烘乾，打包。備用

❼ 液晶顯示器是什麼原理製造的

液晶是一種具有規則性分子排列的有機化合物，它即不是固體也不是液體，它是介於固態和液態之間的物質，把它加熱時它會呈現透明的液體狀態，把它冷卻時它則會出現結晶顆粒的混濁固體狀態。液晶按照分子結構排列的不同分為三種：粘土狀的Smectic液晶，細柱形的Nematic液晶和軟膠膽固醇狀的 Cholestic液晶。這三種液晶的物理特性各不相同，而第二類的細柱形的Nematic液晶最適於用來製造液晶顯示器。

TN、STN、DSTN三種液晶都屬於無源矩陣LCD，它們的原理基本相同，不同之處只是各個液晶分子的扭曲角度略有差異而已，其中DSTN（俗稱「偽彩 」）在早期的筆記本電腦顯示器及掌上游戲機上廣為應用，但由於其必須借用外界光源來顯像所以其有很大的應用局限性，但這些早期的反射型單色或彩色沒有背光設計的LCD可以做得更薄、更輕和更省電，如果能在技術上對其進行革新這些東東對於掌上型電腦和游戲機來說還是非常有用的。而TFT薄膜晶體管型有源矩陣 LCD則是我們今天液晶顯示器上應用的主流，它具有屏幕反應速度快，對比度好，亮度高，可視角度大，色彩豐富等優點。

最早的液晶顯示器TN它由玻璃板，偏光器，ITO膜，配向膜組成兩個夾層等組成，它是所有液晶顯示器技術原理的鼻祖。而TFT液晶顯示器同TN系列液晶顯示器一樣由玻璃基板、ITO膜、配向膜、偏光板等部分組成，它也同樣採用兩夾層間填充液晶分子的設計，只不過把TN上部夾層的電極改為FET晶體管，而下層改為共同電極。在光源設計上，TFT的顯示採用「背透式」照射方式，即假想的光源路徑不是像TN液晶那樣的從上至下，而是從下向上，這樣的作法是在液晶的背部設置類似日光燈的光管。光源照射時先通過下偏光板向上透出，它也藉助液晶分子來傳導光線，由於上下夾層的電極改成FET電極和共通電極。在FET電極導通時，液晶分子的表現如TN液晶的排列狀態一樣會發生改變，也通過遮光和透光來達到顯示的目的。但不同的是，由於FET晶體管具有電容效應，能夠保持電位狀態，先前透光的液晶分子會一直保持這種狀態，直到FET電極下一次再加電改變其排列方式。相對而言，TN系列液晶屏就沒有這個特性，液晶分子一旦沒有施壓，立刻就返回原始狀態，這是TFT液晶屏的優點。

大家知道TFT液晶顯示器的每個點都由紅綠藍三部分組成，一般情況下15寸解析度為1024X768的TFT液晶顯示器的點距為0.30mm左右。TFT 液晶顯示器與CRT顯示器不同，其具有固定的解析度，只有在指定使用的解析度下其畫質才最佳，在其它的解析度下可以以擴展或壓縮的方式，將畫面顯示出來。

❽ 工業生產中為什麼要用純水清洗材料

edi水處理模塊是超純水裝置中重要組成部分，制水純度的高低直接受到離子水設備edi膜塊運行狀態的影響，所以必須對EDI膜塊進行定期維護清洗，確保設備長期穩定運行。
超純水edi清洗操作流程概述
獨立循環清洗程序
1、排空清洗系統。
2、若是使用直通清洗方法，則不能在開始清洗之前或在清洗步驟之間排空 EDI系統(如果已工作超過一個步驟)。若是使用再循環清洗方法，則在開始清洗之前或在清洗過程中排空EDI系統(如果已工作超過一個步驟)。
3、通過關閉 EDI系統淡水進口，淡水出口，淡水沖洗出口，濃水排放，及極水出口閥將 EDI系統與上游及下游隔離開。
4、通過關閉濃水進口隔離閥來將濃水管線與淡水和極水管線隔離開。
edi超純水處理設備清洗程序
清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒。
清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、首選清洗模式：直通，逆流(低及 高 pH值都可);再循環(氧化劑)。
2、可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可)。
注意: 由於硬度結垢幾乎完全發生在濃水室和極水室，淡水室的低PH清洗並不常用。在極端嚴重結垢或十分混亂的條件下，需要保留淡水室的低PH清洗。
清洗程序 3: 極水管線清洗及消毒。
清洗及消毒模式
1、直通逆流(低及 高 pH值都可)再循環(氧化劑)。
2、可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可。

❾ 計算器的顯示器有什麼顯示的也有什麼

液晶顯示器(lcd)是基於液晶電光效應的顯示器件。包括段顯示方式的字元段顯示器件；矩陣顯示方式的字元、圖形、圖像顯示器件；矩陣顯示方式的大屏幕液晶投影電視液晶屏等。液晶顯示器的工作原理是利用液晶的物理特性，在通電時導通，使液晶排列變得有秩序，使光線容易通過；不通電時，排列則變得混亂，阻止光線通過。一．工藝流程簡述：

前段工位：

ITO 玻璃的投入（grading）—— 玻璃清洗與乾燥（CLEANING）——塗光刻膠（PR COAT）——前烘烤（PREBREAK）——曝光（DEVELOP） 顯影（MAIN CURE）——蝕刻（ETCHING）—— 去膜（STRIP CLEAN）—— 圖檢（INSP）——清洗乾燥（CLEAN）——TOP 塗布（TOP COAT）——
UV 烘烤（UV CURE）—— 固化（MAIN CURE）——清洗（CLEAN）—— 塗取向劑（PI PRINT）——固化（MAIN CURE）—— 清洗（CLEAN）——絲網印刷（SEAL/SHORT PRINTING）—— 烘烤（CUPING FURNACE）—— 噴襯墊料（SPACER SPRAY）—— 對位壓合（ASSEMBLY）—— 固化（SEAL MAIN CURING）

1． ITO 圖形的蝕刻：（ITO 玻璃的投入到圖檢完成）

A． ITO 玻璃的投入：根據產品的要求，選擇合適的ITO 玻璃裝入傳遞籃具中，要求ITO 玻璃的規格型號符合產品要求，切記ITO 層面一定要向上插入籃具中。

B． 玻璃的清洗與乾燥： 將用清洗劑以及去離子水（DI 水）等洗凈ITO 玻璃，並用物理或者化學的方法將ITO 表面的雜質和油污洗凈，然後把水除去並乾燥，保證下道工藝的加工質量。

C． 塗光刻膠： 在ITO 玻璃的導電層面上均勻塗上一層光刻膠，塗過光刻膠的玻璃要在一定的溫度下作預處理：（如下圖）

D． 前烘：在一定的溫度下將塗有光刻膠的玻璃烘烤一段時間，以使光刻膠中的溶劑揮發，增加與玻璃表面的粘附性。

E． 曝光：用紫外光（UV）通過預先製作好的電極圖形掩模版照射光刻膠表面，使被照光刻膠層發生反應，在塗有光刻膠的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對光刻膠進行選擇性曝光：（如圖所示）

F． 顯影：用顯影液處理玻璃表面，將經過光照分解的光刻膠層除去，保留未曝光部分的光刻膠層，用化學方法使受UV 光照射部分的光刻膠溶於顯影液中，顯影後的玻璃要經過一定的溫度的堅膜處理。（如圖：）

G． 堅膜：將玻璃再經過一次高溫處理，使光刻膠更加堅固。

H． 刻蝕：用適當的酸刻液將無光刻膠覆蓋的ITO 膜蝕掉，這樣就得到了所需要的ITO 電極圖形，如圖所示：

註：ITO 玻璃為（In2O3 與SnO2）的導電玻璃，此易與酸發生反應，而用於蝕刻掉多餘的ITO，從而得到相應的拉線電極。

I． 去膜：用高濃度的鹼液（NaOH 溶液）作脫膜液，將玻璃上餘下的光刻膠剝離掉，從而使ITO 玻璃上形成與光刻掩模版完全一致的ITO 圖形。（即按客戶要求進行顯示的部分拉線蝕刻完成，如圖）

J． 清洗乾燥：用高純水沖洗餘下的鹼液和殘留的光刻膠以及其它的雜質。

2． 特殊製程：（TOP 膜的塗布到固化後清洗）

一般的TN 與STN 產品不要求此步驟，TOP 膜的塗布工藝是在光刻工藝之後再做一次SiO2 的塗布，以此把刻蝕區與非刻蝕區之間的溝槽填平並把電極覆蓋住，這既可以起到絕緣層的作用，又能有效地消除非顯示狀態下的電極底影，還有助於改善視角特性等等，因此大部分的高檔次產品要求有TOP 塗布。

3． 取向塗布（塗取向劑到清洗完成）

此步工藝為在蝕刻完成的ITO 玻璃表面塗覆取向層，並用特定的方法對限向層進行處理，以使液晶分子能夠在取向層表面沿特定的方向取向（排列），此步驟是液晶顯示器生產的特有技術。

A． 塗取向劑：將有機高分子取向材料塗布在玻璃的表面，即採用選擇塗覆的方法，在ITO 玻璃上的適當位置塗一層均勻的取向層，同時對取向層做固化處理。（一般在顯示區）

B． 固化： 通過高溫處理使取向層固化。

C． 取向摩擦：用絨布類材料以特定的方向摩擦取向層表面，以使液晶分子將來能夠沿著取向層的摩擦方向排列。如TN 型號摩擦取向：45 度

D． 清洗： 取向摩擦後的玻璃上會留下絨布線等污染物，需要採取特殊的清洗步驟來消除污染物。

4． 空盒製作：（絲網印刷到固化）

此步工藝是把兩片導電玻璃對疊，利用封接材料貼合起來並固化，製成間隙為特定厚度的玻璃盒。制盒技術是製造液晶顯示器的最為關鍵的技術之一。（必須嚴格控制液晶盒的間距）

A． 絲印邊框及銀點：將封接材料（封框膠）用絲網印刷的方法分別對上板印上邊框膠和和下板玻璃印是導電膠。

B． 噴襯墊料： 在下玻璃上均勻分布支撐材料。將一定尺寸的襯墊料（一般為幾個微米）均勻分散在玻璃表面，制盒時就靠這些材料保證玻璃之間的間距即盒厚。

C． 對位壓合： 按對位標記上與下玻璃對位粘合，將對應的兩片玻璃面對面用封接材料粘合起來。

D． 固化： 在高溫下使封接材料固化。固化時一般在上下玻璃上加上一定的壓力，以使液晶盒間距（厚度保持均勻）。

後段工位：

切割（SCRIBING）—— Y 軸裂片（BREAK OFF）—— 灌注液晶（LC INJECTION）—— 封口（END SEALING）——X 軸裂片（BREAK OFF）—— 磨邊—— 一次清洗（CLEAN） ——再定向（HEATING） ——光台目檢（VISUAL INSP）—— 電測圖形檢驗（ELECTRICAL）——二次清洗（CLEAN）—— 特殊製程（POLYGON）——背印（BACK PRINTING）—— 干墨（CURE）—— 貼片（POLARIZER ASSEMBLY）—— 熱壓（CLEAVER）—— 成檢外觀檢判（FQC） ——上引線（BIT PIN）—— 終檢（FINAL INSP）——包裝（PACKING）—— 入庫（IN STOCK