A. 超純水設備一般應用於哪些行業
超純水設備應用行業
1、電解電容器生產鋁箔及工內作件的清洗。
2、電子管生產、電子管陰容極塗敷碳酸鹽配液。
3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。
4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管徑清洗用純水。
5、液晶顯示器的生產、平面需用純水清洗及純水配液。
6、晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製。
7、集成電路生產中高純水清洗矽片、高品質顯像管、熒光粉生產。
8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。
9、LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。
10、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料、實驗室和中試車間。
11、汽車、家電表面拋光處理、光電產品、其他高科技精微產品。
B. 請問純水設備哪家做得好純水設備與超純水設備的區別大嗎
水處理設備一般都很好理解，廢水處理是處理廢水的，電鍍廢水處理是處理電鍍廢水的。但是在水處理中，純水設備、純化水設備、超純水設備三種設備傻傻分不清楚。很多人覺得純水和純化水設備是一樣的，只是一個簡稱一個全程。大多數人對於純水設備和超純水設備都有一定的認識，但是三個放在一起就完全蒙圈了。今天科普一下純水設備、純化水設備、超純水設備的主要區別和水質分別。
應用領域：
純水設備主要應用於食品和飲用水領域
純化水設備主要應用於醫葯領域。
超純水設備主要用於電子行業、半導體、光學、玻璃等領域。
進水水質：
純水設備的進水水質一般為自來水。
純化水設備和超純水設備主要是純水，所以純化水設備和超純水設備都是在純水設備的基礎上增加水質提純工序。
1.純水電阻率0.1×10^6Ω·cm（歐·厘米）（25℃，蒸餾水試驗數據，理論上純水不導電）；
2.超純水電阻率10MΩ*cm（25℃）。電阻率在工作溫度25℃時,最高理論值能達到18.3MΩ•cm。實際超純水設備產水在線測試最高值是18.2MΩ•cm。
3.純化水電阻率≥0.5MΩ.CM（25攝氏度）。對於注射劑、滴眼液容器沖洗用的純化水的電阻率應≥1MΩ.CM/25℃。
註：15MΩ*cm（25℃）意思是：某一溫度下,邊長為1CM立方體水的相對兩側面間的電阻大於等於15歐姆。
其實這三種設備主要是針對三種不同的水質而設計的，所以主要的區別還是在於水質不同，純水主要是飲用水，純化水是醫葯方面用水：分為注射用水和醫用純化水。超純水主要就是要水質純度達標，水中除氫氧以外幾乎沒有其他原子的水，特點就是夠純。
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C. 高純水設備，半導體高純水設備多少錢
純水一號水處理專業解答，半導體超純水對工藝設計要求極為復雜，對設備專要求高，主要體現在設備屬對二氧化硅，溶解氧，顆粒有極高的要求，因此，不同的工藝設計對價格影響要求很大，設備的品牌，選型不同，也會影響價格，所以，如果需要知道報價，就必須要知道用戶採用何種工藝，對管道，設備品牌有無要求，一套5T/H的半導體超純水，可達百萬元之巨。
D. 沈陽集成電路晶元清洗超純水設備有幾家公司
河南萬達為你解答：超純水是美國科技界為了研製超純材料（半導體原件材料、納內米精容細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。
超純水，主要工藝流程
⒈預處理----復床 ----混床---拋光樹脂
⒉預處理----反滲透---混床---拋光樹脂
⒊預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂
傳統超純水製取設備工藝流程：原水—多介質過濾器—活性炭過濾器—一級除鹽—混床—超純水
膜法超純水製取設備工藝流程：原水—超濾—反滲透—EDI—超純水
在膜法工藝中，超濾，微濾替代澄清，石英砂過濾器，活性炭過濾器，除去水中的懸浮物膠體和有機物，降低濁度，SDI，COD等，可以實現反滲透裝置對污水回用的安全，高效運行，以反滲透替代離子交換器脫鹽，進一步除去有機物，膠體，細菌等雜質，可以保證反滲透出水滿足EDI進水的要求，以EDI代替混床深度脫鹽，利用電而不是酸鹼對樹脂再生，避免了二次污染。
E. 超純水設備
1.首先搞清楚，超純水你要做什麼用。
2.超純水是美國科技界為了研製超純材料(半導內體原件材料、納米精細容陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，超純水無硬度，口感較甜，又常稱為軟水，可直接飲用，也可煮沸飲用。
超純水,是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大於18MΩ*cm（沒有明顯界線），則稱為超純水。
3.超純水一般有三種工藝：
A：電滲析
B：（反滲透）RO＋混床
C：（反滲透）RO＋EDI
現在最常用的就是反滲透加EDI模塊，純水回收率高。
4.現在有很多廠家都能生產超純水設備，在技術上應該都是一樣的，現在就是售後和價格，建議你在附近城市進行采購。
F. 專業做超純水設備的廠家多嗎
LTLD超純水設備的優勢特點
1、不需要酸鹼再生
電除鹽的操作是安全的，廢水的處理變得簡單了。
2、可連續生產
電除鹽的生產是連續的，免除了使用混床過程中復雜的再生操作，減少了很多備用設備。
3、不需要處理廢酸鹼
沒有廢酸鹼的中和排放處理系統。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進口。
4、安裝條件簡單
電除鹽在安裝時，佔地面積小，廠房都能滿足，對於較低的廠房，可通過對電除鹽模塊的水平配置解決。
G. 半導體超純水設備有沒有好一點的廠家推薦
LTLD半導復體超純水設制備特點
1、整體化程度高，易於擴展，增加膜數量即可增加處理量。
2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。
3、膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。
4、能耗低，水利用率高，運行成本低。
5、結構合理，佔地面積少。
6、先進的膜保護系統，在設備關機，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。
7、系統無易損部件，無需大量維修，運行長期有效。
8、設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。
9、可根據客戶具體要求提供設備定製服務。
H. 半導體超純水設備的價格為何會有很大的差別
當前國內半導體行業應用的超純水設備一般有前端預處理及RO、回EDI提純等工序。
1.根據超純水設答備的材質不同，選用的RO膜的品牌不同以及EDI模塊的噸位及品牌區別，價格上也有很大的差距。
2.其中價格中膜元件及設備材質因素會極大地影響整體設備的價格。
3.具體的加工工藝以及廠家報價也會對價格有所影響。
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I. 超純水設備哪些牌子的好，有什麼推薦
工業高純水設備可以將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率約10～18.3MΩ.cm極限值。超純水,是一般純水設備很難達到的程度，通常採用預處理、反滲透技術、高純化處理以及後級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換(拋光)、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ.cm。
工業高純水設備用途:超純水水質分為五個行業標准，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
工業高純水設備的應用領域
最近幾年電去離子在各個工業領域都越來越受重視，許多工業系統開始採用電去離子作為其水處理系統的更新換代技術，如電力工業、制葯工業、微電子工業、電鍍與金屬表面處理等。
(1)電力工業
據推算電力行業水處理單元的操作費用約占電力成本的10%，而用電去離子替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。
(2)制葯工業
雖然葯用水的特點是並不要求很高的去離子程度，但電去離子系統具有同時去鹽和控制微生物指標的特點，因此已有多家企業採用RO/EDI集成系統。據稱該類系統性能穩定，全流程計算機連續監控，全自動操作無人值守。
(3)電子工業
電子工業對水質的要求極高，水電阻率要穩定的大於18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右，因此在電子級水的生產過程多採用EDI+拋光樹脂系統，即在EDI之後加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由於EDI已除去了大部分離子，拋光樹脂幾乎不用再生，因此水處理費用仍然很低。
(4)電鍍與金屬表面處理
電去離子可用於電鍍廢水處理可以使水重復使用並回收重金屬離子。美國已有該類型系統的實驗裝置。
(5)其他領域
電去離子在食品工業、化學工業等都有很廣泛的應用：多室流化床、設備的橫截面一般為矩形，用垂直擋板將設備沿長度方向分成多室(一般4～8室)。擋板下沿與分布板面之間留有幾十毫米的間隙，作為室間粉粒通道。最後一室有控制床面的堰板。流體平行進入各室，顆粒則依次通過各室，因此多室流化床不僅能抑制顆粒在整個床層內的返混，而且還能調節通入各室流體的流速和溫度。多室流化床比多層流化床設備容易控制，總壓降也小;但傳熱、傳質推動力較多層床小，用於乾燥時空氣熱量利用效率較差。 兩器流化床 有兩個流化床，在左側流化。
工業高純水設備工藝流程
1、採用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
2、採用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、採用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
工業高純水設備水質標准
出水水質完全符合我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。