㈠ 水處理中EDI膜塊具不具備消毒作用，它的原理是什麼
1 不具備來消毒。消毒用紫外線及巴氏消自毒或蒸汽消毒。
2 EDI工藝系統代替傳統的DI混合樹脂床來製造去離子水。利用反滲透技術進行一次除鹽，再用EDI技術進行二次除鹽就可以徹底使純水製造過程連續化避免使用酸鹼再生。
電去離子（EDI）工藝採用一種離子選擇性膜和離子交換樹脂夾在直流電壓下兩個電極之間離子選擇性膜同離子交換樹脂有著相同的工作原理和原材料，他們用於將某種特定的離子進行分離。陰離子選擇性膜允許陰離子透過而不能透過陽離子，陽離子選擇性膜允許陽離子透過而不能透過陰離子，這兩種膜不允許水透過。
通過在一個層狀、框架式的組件中放置不同的陰離子選擇性膜和陽離子選擇性膜，就建立了並列交替的淡水室和濃水室。離子選擇性膜被固定在一個惰性的聚合體框架上，框架內裝填混合樹脂就形成淡水室，淡水室之間的層就形成了濃水室。
EDI基本重復單元叫做「膜對」，見插圖1。模塊的膜對放置在兩個電極之間，兩電極提供直流電場給模塊。在提供的直流電場推動下，離子通過膜從淡水室被輸送到濃水室。因此，當水通過淡水室流動時，逐步達到無離子狀態，這股水流就是產品水流。
㈡ 請問美國Ionpure EDI模塊清洗和消毒的方法有那些
清洗
隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
- 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；
- 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；
- 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；
- EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢；
- 以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。
例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用於例行的消毒，只適用於嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。
安全
1) 避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學物質，過氧化氫是氧化劑。
2) 將整個管線降壓以避免高壓化學葯劑噴濺。
3) EDI系統在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電並鎖定。
清洗化學品規范
所有化學品應必須達到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%: ACS級,或達到水系統清洗的商用濃度。鹽酸(HCl) ACS或技術級氫氧化鈉(NaOH): 球狀, NF, ACS或凈化級; 或50% w/w 溶液。
㈢ 實驗室超純水機常用的消毒方法有幾種
1、消毒
可以用物理、化學方法消滅傳播媒介上的病原微生物（物理消毒法是利用輻射、超聲波等物理因子殺滅微生物），使其達到無害化。一般這種方法可以殺死病原微生物的繁殖體，但不能破壞芽孢，無法徹底滅菌。
2、巴氏消毒
巴氏消毒就是將液體加熱到一定溫度並保持一段時間，從而殺死微生物的過程。可用於實驗室超純水機的活性炭等預處理單元的周期性消毒、RO/EDI單元的周期性消毒、儲存與分配管網單元的周期性消毒。
3、滅菌
細菌的繁殖體、芽孢、真菌、病毒等都會影響到制水效果，建議用化學或物理方法進行消滅（化學滅菌法是用化學葯物滲透至細菌內部，使菌體蛋白凝固變性，干擾細菌酶的活性，抑制細菌代謝和生長或損害細胞膜的結構，改變其滲透性，破壞其生理功能等），從而達到無菌的效果
4、臭氧殺菌
臭氧殺菌系統可採用不銹鋼或PVDF材質進行製造，其中PVDF相對經濟一些。臭氧殺菌系統操作簡單、方便快捷，通過氧化作用破壞微生物膜的結構，消滅細菌繁殖體和芽孢、病毒、真菌等。
5、過熱水殺菌
過熱水殺菌是利用高溫高壓過熱水進行滅菌。過熱水可使原生質膠體、蛋白質等變性凝固，破壞酶系統，殺死包括細菌芽孢、真菌孢子、休眠體等耐高溫個體在內的一切微生物。
6、紫外線殺菌
紫外線殺菌可通過減慢系統中新的菌落生長速度而影響生物膜的生成，達到殺菌、降解TOC、破除臭氧的作用。紫外線殺菌主要對浮游微生物起作用。
㈣ 純化水設備常見的消毒方式和常見的滅菌方式有哪幾種
純化水設備常見的消毒方式和常見的滅菌方式有哪幾種?
一、常見的消毒方式有：巴氏消毒，臭氧消毒，過熱水消毒。
二、預處理活性炭消毒用巴氏消毒或者純蒸汽消毒，臭氧消毒或者過熱水消毒用於分配系統，紫外線一般用於EDI後面進行消毒。
1、 臭氧殺菌與巴氏消毒的區別：臭氧殺菌系統除了操作簡單、水溫無波動、消毒時間短和降解生物膜等優勢外，管道材質選擇餘地也非常大。臭氧殺菌系統能採用不銹鋼材質或PVDF材質進行建造，採用PVDF材質建造的純化水臭氧殺菌系統能有效降低投資成本。
2、 消毒：用物理或化學方法殺滅或清除傳播媒介上的病原微生物，使其達到無害化。通常是指殺死病原微生物的繁殖體，但不能破壞其芽孢，所以消毒是不徹底的，不能代替滅菌。
3、滅菌：以化學劑或物理方法消滅所有活的微生物，包括所有細菌的繁殖體、芽孢、真菌及病毒，從而達到無菌的過程。
4、巴氏消毒：是指將液體加熱到一定溫度並持續一段時間，以殺死可能導致疾病、變質或不需要的發酵微生物的過程。巴氏消毒有兩個主要功能：①用於純化水系統中的活性炭等預處理單元的周期性消毒，RO/EDI單元的周期性消毒，以及儲存與分配管網單元的周期性消毒；②用於注射用水系統正常運行時的微生物抑制。
5、紫外線殺菌: 紫外線是通過減慢系統中新的菌落生長速度而影響生物膜的生成，但是這只對浮游微生物部分有效。紫外線主要有殺菌、降解TOC和破除臭氧等三個作用。
6、臭氧殺菌： 臭氧是一種廣譜殺菌劑，可殺滅細菌繁殖體和芽孢、病毒、真菌等。並可破壞肉毒桿菌毒素。臭氧殺菌機制為通過氧化作用破壞微生物膜的結構而實現殺菌效果。臭氧首先作用於細胞膜，使膜構成成分受損傷而導致新陳代謝障礙。臭氧繼續滲透穿透膜並破壞膜內脂蛋白和脂多糖，改變細胞的通透性，導致細胞溶解、死亡。臭氧滅活病毒機制為通過氧化作用破壞病毒核糖核酸(RNA)或脫氧核糖核酸(DNA)。
7、純蒸汽殺菌：指利用高溫高壓蒸汽進行滅菌的方法。由於純蒸汽的穿透力強，蛋白質、原生質膠體在濕熱條件下容易變性凝固，酶系統容易被破壞，蒸汽進入細胞內凝結成水，能放出潛在熱量而提高溫度，更增強了殺菌力。
8、過熱水殺菌：指利用高溫高壓過熱水進行滅菌的方法。與純蒸汽殺菌一樣，過熱水能使蛋白質、原生質膠體在濕熱條件下變性凝固，酶系統被破壞，可殺死一切微生物，包括細菌的芽孢，真菌的孢子或休眠體等耐高溫的個體。
與純蒸汽相比，過熱水消毒有如下優點：
①採用工業蒸汽為熱源，無需另外製備純蒸汽。
②滅菌過程中，無需考慮最低點冷凝水的排放問題。高壓過熱水循環流經整個系統，不會發生冷凝水排放不及時引起的滅菌死角。
③採用注射用水系統已有的維持80℃高溫循環用雙板管式換熱器進行系統升溫，節省項目投資且操作非常方便。
㈤ edi膜塊結垢的清洗方法
EDI設備的化學清洗及再生
膜塊堵塞的原因主要有下面幾種式：
o 顆粒/膠體污堵
o 無機物污堵
o 有機物污堵
o 微生物污堵
清洗方法時間（分） 備注
酸洗30-50
鹼洗30-50
鹽水清洗35-60
消毒25-40
沖洗≥50
再生≥120 根據系統的工藝要求直至達到出水電阻率要求指標
單個膜塊清洗時葯液配用量
型號葯液配用量（升） 備注
MX-50 50 1. 酸洗溫度15-25℃
2. 鹼洗溫度25-30℃
3. 配葯液用水必須是RO產水
或高於RO產水的去離子水
MX-100 80
MX-200 110
MX-300 150
• 對於膜塊數量大於1塊時，按表中配液的數量乘以膜塊數量
EDI膜塊的再生
o 確認EDI膜塊內沒有任何的化學葯品殘留存在。
o 使系統構建成一個閉路自循環管路。
o 按照正常運行的模式調節好所有的流量和壓力。
o 給EDI送電，調節電流從2A開始分步緩慢向EDI載入電流（最大不能超
過4A）。
o 直至產水電阻率達工藝要求到或者≥12MΩ.cm
o 提示：膜塊的再生是一個比較長的時間，有時可能會長達10-24小時甚
至更長的時間。
EDI運行維護注意事項
注意:試車、操作及維護前,請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊. 本注意事項僅提醒使用者於試車、操作及維護時需要特別注意之事項,詳細操作維護內容請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊.
一、 進流水質要求與必要之附屬設備
(一)進流水質要求: 前處理系統一定要有 RO 系統,且要確保 RO 系統操作正常. 進流水質最低要求如下:
1 導電度(包括 SiO2 及CO2) μs/cm < 40
2 溫度 ℃ 5 - 45
3 壓力 Psi 20-100
4 自由余氯(Cl2) ppm < 0.02
5 鐵(Fe)、錳(Mn) ppm < 0.01
6 硫化物(S- ) ppm < 0.01
7 pH 4-11
8 總硬度(as CaCO3) ppm < 1.0
9 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.0
10 總有機碳(TOC) ppm < 0.5
備注: 1. 導電度計算方式=導電度計測量之導電度+2.66xCO2 濃度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)
2. 啟動初期應特別注意進流硬度、二氧化硅濃度,應避免超過1.0ppm.
(二)附屬設備： 為了保護模塊及便利後續系統監測,強烈建議 EDI 系統應至少包括下列附屬設備:
1. 穩定的電源供應設備：為了維持系統操作穩定,電源供應系統應供給穩定的直流電源給模塊,且系統能在定電流模式下操作(V=IR, 亦即設定電流(I)後,電流並不會隨進流水質改變,進流水質改變 僅會影響電阻(R)及電壓(V)).
2. 流量開關或流量控制設備：為了保護模塊,當沒有水進入模塊時, 模塊電源必須馬上被關閉,流量開關需與電源供應連動.
3. 壓力計：應至少於進流端與產水、濃縮水出水端設置壓力計,以監 測進出水壓力.
4. 進出水流量計：方便調整產水率.可使用附控制點之流量計(可作為流量開關使用).
5. 系統控制(PLC 控制)：系統除了控制沒水進入時之斷電裝置外,亦應控制在進流水進入一段時間後,若電源仍無供應,應停止進流(例 如泵啟動30 秒後(視泵至EDI 距離調整時間),若電源仍無供應, 則應關閉泵,並發出警報),以避免EDI 膜堆內樹脂飽和,影響後續產水水質。
二、 試車注意事項：
(一)試車前檢查
1. 試車前應檢查管路、配件及控制系統是否安裝完成,各項檢查前應先關閉電源,以維護人員安全.
2. 模塊扭矩檢查：依照操作手冊 3.2 節檢查並鎖緊. 聯接螺栓 扭矩 1-8 25 ft.lbs. 11-14 12.5 ft.lbs. 9, 10 10 ft.lbs. 工具：扭矩扳手(19mm)+活動扳手
3. 管路檢查：檢查配管路線及閥門開關.
4. 電源控制檢查(以Ionpure 原廠電源控制為例)：
1.)檢查整流器及顯示板 Jumper 的選擇是否正確：
甲、 ACV：例如 LX30,需要 660V,則選擇 660V(共有 440,550, 660 三個選項).
乙、 DC ：選擇最高電流限制,例如：LX 選擇10A(共有 2.5, 4, 6.5, 10A 四個選項).選擇之電流需與顯示板上之選擇相同.
丙、 頻率：選擇 60Hz 或50Hz.
2.)檢查變壓器至控製版接線(T1, T2)及至模塊接線.
3.)檢查接地線(DC-).
4.)選擇控制模式：選擇定電流控制(A)或定電壓(V)(建議選擇定電流控制).
5.)檢查流量開關.
5. 確認進流泵容量：進流泵之汲水流量需滿足系統所需之流量,同時其揚程需能克服各項設備及管路壓損(LX 模塊壓損約 1.5-2bar(與處理量相關)).
Ionpure 原廠顯示板背面 Jumper 調整 Ionpure 原廠控制板背面 Jumper 調整及接線
(二)試車所需注意事項
1. 確認 RO 系統操作是否正常?建議 RO 系統操作穩定後,才將進流水 切換至 EDI 系統,以避免 RO 啟動初期水質較差,影響模塊性能.
2. 檢測進流水水質：檢測進流水水質,以確認進流水質符合要求,檢測項目至少包括導電度、總硬度、二氧化硅、總氯及 CO2.若水質有任一項不符前述進流水質要求,即不可將水汲入 EDI 模塊,並需檢查 前處理是否有問題. 若進流水 CO2 濃度太高(超過 5ppm),即不建議將濃縮水迴流至 RO 系統前貯槽(除非先將 CO2 去除),以避免造成 CO2 累積,影響產水水質.
3. 清洗管路：注意：為避免管路中殘留管屑等污染物進入模塊造成堵塞,建議在未試車前(包括架台配管時),先不要將原廠所附進出口之紅色套頭取出(但試車前一定要將該物取出). 在水進入模塊前,需先確定其前處理管路中已無管屑等污染物.建議 於啟動前先將模塊進水接頭拆開,並以 RO 水沖洗管路.
4. 測試各項安全保護裝置：
1.)測試進流水泵浦與EDI 連動裝置：測試進流水泵浦與 EDI 連動裝置,使得 EDI 只有在進流泵浦啟 動時才開啟電源,且當 EDI 電源沒有開啟一段時間後要關閉進流 水泵浦.
2.)流量開關測試：啟動前需先測試流量開關是否會動作,亦即沒水時電源關閉,通水啟動流量開關後(迴路連通),直流電源才供應至模塊.
5. 系統啟動注意事項
1.)當上述安全保護測試完成後,再一次檢查管路閥門開關,確定閥門開關正確後,才啟動進流泵浦.
2.)進流泵浦啟動後,檢查電源供應是否正常啟動.例如,以Ionpure 原廠顯示板為例,顯示板上燈號會由 Standby 跳至 On,若無,先關閉進流泵浦,並檢查流量開關及各接線是否正常.
3.)進流泵浦啟動後,以手動閥(最好是用膜片閥,以方便調整)調整產水及濃縮水流量,初期產水率先調整為 90%.
4.)剛啟動時,先將電流調小(例如 0.5A),確定水流及電源沒問題後, 再將電流慢慢調整到軟體計算所需之電流值(與進流水質、水量相關),觀察電壓及出水水質. 啟動初期水質可能較差,切勿因水質不佳,即貿然調高電流至遠超 過軟體所計算之值. 例如:進流水質導電度– 10μs/cm, CO2 – 8mg/l, SiO2 – 0.2mg/l 時, 以計算軟體計算所需之電流為 2.43 安培,則設定電流在約 2.5 安培 即可(以水質最差時計算),切勿一開始即將電流調整超過該值(例如4.0 安培),以避免損壞模塊.
5.)觀察進出水壓力,並以手動閥調整,使產水水壓略高於濃縮水壓約 2-5psi(若產水出口壓力低於濃縮水壓力,會影響產水水質).
6.)為避免 EDI 啟動初期產水水質不佳,建議於產水端設置二隻自動控制閥,並以 PLC 控制:當產水水質低於要求時,將EDI 產水迴流至 EDI 前貯槽,當水質高過設定水質時,才切換至下一處理設 備.
7.)當系統在穩定狀態(水質符合要求且操作穩定)時,應依據操作手冊4.0 章最後所附的資料表上記錄操作資料(檢測項目至少需包括進水溫度、導電度、總硬度、CO2,產水電阻值,進出口流量及壓力(含濃縮端),操作電壓、電流),以利後續設備檢修.
三、 操作維護注意事項
1. 應每天填寫IP-LX 系統記錄表,以便及早發現是否有可能會使保修失效或對膜堆造成破壞的問題.
2. 應至少每六個月對膜堆進行一次膜塊外觀檢測,檢查是否有漏水或鹽類沈積;並定期旋緊所有電氣連接頭及按照 3.2 章節的規定,檢查膜堆螺栓的扭矩.
3. 在下述情況下,膜堆可能需要清洗:
溫度和流量不變,產水壓降增加50%;
溫度和流量不變,濃水壓降增加50%;
溫度、流量、或進水電導率不變,產水水質下降;
溫度不變,膜堆的電阻增加25%. 清洗方法請參考操作維護手冊.
4. 若模塊發生故障可參考原廠所附操作維護手冊內之膜堆故障檢測流程或聯絡當地en-link服務商.
四、 有助於 EDI 系統穩定及水質提升的前處理設計為增加EDI系統穩定度及提升產水水質,可於前處理增加下列設備
1. 去除 CO2 設備:一般 RO 產水皆含有一定量之CO2,若能將進流水CO2 濃度降低,將有助於產水水質提升及減少結垢可能性；
2. UV:於EDI 前增設紫外線殺菌器(UV)可減少模塊長菌可能；
3. 精密過濾器:於EDI 前增設精密過濾器可避免微細顆粒物進入模塊,造成堵塞；
4. Two pass RO:當原水硬度及二氧化矽濃度相對較高或變化較大時, 為避免原水水質變化大或軟化系統出問題時,RO 產水硬度、二氧化硅濃度超過EDI 進流水標准,或減少EDI 模塊結垢可能性,建議前處理採用 Two pass RO 系統。
㈥ Ionpure EDI模塊正確清洗的方法
沖洗：清洗水箱中消毒液放掉後，清洗Ionpure EDI模塊至水箱中迴流水至電導率降至100μs/cm以下。深圳恆通源可告訴你正確的清洗方法！
㈦ 西門子EDI模塊一般的清洗步驟有那些
一般就這四個步驟：1．准備 2．酸洗 3．消毒 4．鹼洗
㈧ 純化水設備系統常見的消毒方式有哪幾種
1、 紫外線殺菌消毒方法
在純化水設備當中，紫外線殺菌是常用的殺菌方法，主要有殺菌、降解TOC和破除臭氧的作用。它可以減慢水系統中的新菌落生產速度進而影響生物膜的形成，但對已經生成的生物膜是無效的，只對浮游微生物部分有效。紫外線殺菌的效果有紫外線的強度、紫外線的光譜度和照射時間決定。當波長為253.7mm時可以獲得優質的殺菌效果。
2、臭氧殺菌消毒方法
臭氧殺菌通過氧化作用破壞微生物膜的結構，可以滅殺細菌繁殖體和芽孢、病毒、真菌等，還能夠破壞肉毒桿菌黴素。在制葯純化水設備系統中，純化水水罐、各種過濾器、膜和分配管網系統中都會有微生物繁殖和滋生，臭氧能夠有效除去水中的鹵化物並降解生物膜，同時沒有殘留物，是目前純化水系統和高純水系統中能連續去除細菌和病毒的好方法。臭氧殺菌方法已經成為國內外主流的制葯純化水消毒方式。
3、巴氏殺菌消毒方法
巴氏消毒用於純化水設備正常運行時的微生物抑制。經過巴氏消毒後的純化水設備系統仍然有小部分無害或者有益、較耐熱的細菌，同時消毒操作時間相對較長，常採用80℃以上的熱水循環一兩個小時才能完成巴士消毒。優點是可以有效的控制純化水系統中的微生物污染水平在50CFU/ml，並且可以控制純化水設備的內毒素在5EU/ml的水平。
㈨ EDI模塊怎麼保養
1.EDI模塊的清洗保養方案 1、RO系統的清洗 1)准備關閉對應系統的產水手動專閥屬,打開對應系統的產水排放閥,濃水底部放水閥,放盡系統內存水後,關閉這幾個閥門門。打開對應系統的清洗進水閥,產水回水閥、濃水回水閥...
2.EDI系統清洗保養方案 1)、EDI的清洗方法: 2) 根據EDI的運行狀態,EDI的清洗採用酸洗—消毒—鹼洗的方法來清洗EDI模塊。 1.清洗時,EDI的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從「原水進」...
㈩ Ionpure EDI模塊濃水室結垢清洗的方法有哪些
清洗
隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為：
- 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內；
- 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）；
- 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢；
- EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢；
- 以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。
高溫消毒
美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。
例行的消毒最好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用於例行的消毒，只適用於嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。
安全
1) 避免接觸氫氧化鈉，過乙酸，過氧化氫及氯代烴等具有腐蝕性的化學物質，過氧化氫是氧化劑。
2) 將整個管線降壓以避免高壓化學葯劑噴濺。
3) EDI系統在高電壓下運行，在任何維護工作前，確保整流器不通電並鎖定。
清洗化學品規范
所有化學品應必須達到推薦使用的等級或者更好。 氯化鈉(NaCl)，食用級(≥99.80%), ACS或USP級醋酸(CH3COOOH)以及過氧化氫(H2O2)30%: ACS級,或達到水系統清洗的商用濃度。鹽酸(HCl) ACS或技術級氫氧化鈉(NaOH): 球狀, NF, ACS或凈化級; 或50% w/w 溶液