無錫電子級純水製作設備多少錢

① 電子級純水標準是什麼

中國實驗室用純化水國家標准

② 純化水設備節約用水合理化建議

EDI制葯純化水設備工藝優勢

1、化學再生，節約大量內酸鹼和清洗用水，節約財力物力容。

3、無酸鹼廢液的排放，是清潔的生產技術，屬於環保產品。

4、全自動控制，產水水質穩定，與RO等水處理技術相結合能形成完善的超純水生產設備。

5、產水水質高，可達到國家電子級水Ⅰ級標准，電阻率為15-18MΩ·cm，細菌內毒素含量<0.1mg/L，可完全滿足《中國葯典》、《美國葯典》對葯用水的要求。

6、有優異的除弱解離物質(二氧化碳、硅、硼、氨等)的能力，更適合超純水的需要。

7、純化水生產過程連續進行，無需像混床那樣一用一備。

③ 純水設備和超純水設備的區別

純水設備又稱純凈水設備，指以符合生活飲用水衛生規范的水為原水，通過電滲析內器法、離子交換器法、容反滲透法、製得純水，製得的密封於容器內，且不含任何添加物，無色透明，可直接飲用的水。

超純水設備是是純水設備的基礎上進一步將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大於18MΩ*cm或接近18.25MΩ*cm極限值。超純水設備是一般工藝很難達到水平，可以將微濾技術、超濾技術、反滲透技術、EDI技術，離子交換技術中的兩種及以上的技術，通過合理的工藝設計，設備選型，方可製造出超純水，電阻率可達18.20MΩ*cm。
純水設備和超純水設備區別存在於很多方面，這里只列舉了其中的一些方面，現歸納如下：
1、 產水電導率不同，純水電導率在2-10us/cm之間，超純水的電導率為0.056us/cm
2、重金屬、細菌、微粒數等指標也大不相同，純水雜質含量是ppm級，而超純水為ppb級，簡單地說超純水設備產的水中已經沒有什麼雜質，接近於理論上的水。
3、使用的領域也不相同;

④ 電子工業超純水設備的應用范圍

為了滿足電子行業用水需求，根據光電材料，液晶顯示屏生產，加工，清洗等所需使用超純水標准，而設計並生產的一套超純水設備。

edi水處理設備出水符合標准

超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標准、我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

edi超純水裝置-電子行業超純水系統

edi超純水系統工藝流程

預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

應用領域

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製

集成電路生產中高純水清洗矽片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品

⑤ 什麼叫全膜法超純水設備

純水一號水處理為抄您解答，全膜法水處理工藝是將超濾、微濾、反滲透、EDI等不同的膜工藝有機地組合在一起，達到高效去除污染物以及深度脫鹽的目的一種水處理工藝。全膜法處理後的出水可直接滿足鍋爐補給水、工藝用水、電子超純水、回用水、循環用水等要求該工藝已成功應用於電力、冶金、石化等多個領域。該工藝的關鍵技術EDI系電滲析（ED）和離子交換技術（DI）有機結合，達到連續除鹽、運行維護簡單、無酸鹼排放污染。而超/微濾、反滲透已廣泛應用於海水（苦鹹水）淡化及廢水回用。

⑥ 電鍍中為什麼要使用純水，電鍍超純水設備好處有哪些

1.首先,很多鍍液對雜質來離子很敏感源,比如銀、亞銅都怕氯離子.有些表面活性劑（除油劑、濕潤劑等）對鈣鎂離子很敏感,很可能會產生沉澱.
2.很多東西如電鍍液用自來水配製也沒什麼,但後續會不斷的添加.很可能會積累裡面的雜質,如氯離子和鈣鎂離子,積累到一定程度,鍍液報廢.也就是降低壽命.
3.一般最後一道水洗要用純水,如果用自來水很容易產生水漬.

⑦ 工業純水設備怎麼選型

電子清洗用超純水設備工藝流程
預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混回合床-純水箱-純水泵答-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象。(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。(≥18MΩ.CM)(新工藝)
預處理-一級反滲透-加葯機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。(≥17MΩ.CM)