超聲波去離子水設備

1. 離心甩乾式超聲波清洗機它的系統結構有誰知道，謝謝

1.電源：380V 50HZ, 3相5線（3根火線及地線和零線），每相35A；
2.環境溫度：27℃以下，維持良好通風；
3.水源：進水管2″，排水管2″；
4.供冷卻水：溫度范圍：17～25攝氏度軟化水（去離子水，防止結水垢）；
5.壓力范圍：約0.3～1MPa；
6.管路介面：外徑約9.5毫米（3/8英寸），
7.塑料水管用於連接；
8.供水流量：約6升/分鍾;單位換算：1MPa = 10kgf/cm2 = 145psi；
9. 3.5. 氣源：空壓機氣源，經過濾乾燥，壓力達到8-10kgf/cm2；
希望對你有幫助！

2. 半導體行業有用到超聲波清洗機嗎

超聲波清洗機已經在半導體行業廣泛應用了，超聲波清洗機能有效去除矽片、晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性。

3. 晶元黑面暗痕如何清洗

預清洗、鹼洗等
該晶元表面的清洗方法依次包括以下步驟：
預清洗：用去離子水利用超聲波清洗機對晶元進行預清洗，去離子水的溫度為50～60度，具體地，該超聲波的功率為30W，頻率為50KHz。
鹼洗：晶元置於鹼性溶液中利用超聲波進行清洗，鹼性溶液的溫度為80～90度，較佳地，該鹼性溶液可為氫氧化鈉溶液，濃度為2％～5％，清洗時間為5～10分鍾，在此步驟中，氫氧化鈉溶液的溫度不宜過高，如20～25度為佳。超聲波的功率為20W，頻率為40KHz。
有機溶劑清洗：晶元置於異丙醇和水的混合液中利用超聲波進行清洗，時間為5～10分鍾，超聲波的功率在20～30W，頻率為40KHz～50KHz。該步驟可有效溶劑去除晶元表面的有機殘留物。
酸洗：配製檸檬酸和去離子水的混合液，混合液的pH值為5～6。晶元被置於到該酸性溶液中，藉助超聲波振盪清洗技術，使晶元表面快速進行中和反應。
去離子水漂洗：用去離子水漂洗該晶元，漂洗時間為20～30分鍾，經過漂洗，晶元表面的酸液、鹼液等清洗液殘留被漂洗干凈。

4. 什麼是去離子水設備，去離子水採用的工藝有離子交換

去離子水設備，是離來子交換系統自。離子交換系統是通過陰、陽離子交換樹脂對水中的各種陰、陽離子進行置換的一種傳統水處理工藝，陰、陽離子交換樹脂按不同比例進行搭配可組成離子交換陽床系統，離子交換陰床系統及離子交換混床系統，而混床系統又通常是用在反滲透等水處理工藝之後用來製取超純水，高純水的終端工藝，它是用來制備超純水、高純水不可替代的手段之一。
去離子水設備主要用途
1、化妝品行業：護膚品、洗發水、染發劑、牙膏、洗手液生產用水
2、電子工業：鋁箔清洗、電子管噴塗配液、顯相管玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶體管和集成電路的矽片清洗用水、配製水
3、電池行業：蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水
4、混凝土外加劑配製用水
5、玻璃鍍膜、玻璃製品清洗及燈具清洗用水
6、紡織印染工業：印染助劑配製、濕巾及面膜生產用水
7、超聲波清洗用水
8、塗裝行業：塗料配製、電鍍配製清洗、電泳漆配製清洗用水

5. 超聲波清洗機能清洗矽片嗎

可以的。

隨著半導體材料技術的發展，對矽片的規格和質量也提出更高的要求，適合微細加工的大直徑矽片在市場的需求比例將日益加大。半導體,晶元,集成電路,設計,版圖,晶元,製造,工藝目前世界普遍採用先進的切、磨、拋和潔凈封裝工藝，使製片技術取得明顯進展。最新尖端技術的導入，使SOI等高功能晶片的試制開發也進入批量生產階段。對此，矽片生產廠家也增加了對300mm矽片的設備投資，針對設計規則的進一步微細化。利用超聲波清洗技術，在清洗過程中超聲波頻率在合理的范圍內往復掃動，帶動清洗液形成細微迴流，使工件污垢在被超聲剝離的同時迅速帶離工件表面，提高清洗效率。

超聲波清洗方法及其放置方向

將被洗研磨矽片水平狀放置在清洗槽底部上方柵欄狀的石英棒框架上，在確保清洗槽內具有去離子水高度並不斷流動的條件下，利用設在清洗槽底部的超聲波振子進行清洗，超聲波頻率為40KHz，每5分鍾將研磨矽片翻一個面，連續超洗至被超洗的研磨矽片表面沒有黑色污染物冒出止。超聲波清洗單晶矽片裝置清洗槽的槽壁上設有進水口和出水口，槽底部下方設有超聲波振子，清洗槽槽內設有一擱置單晶矽片的框架，框架底壁為柵欄狀的石英棒形成的平面低於去離子水水平面，整個框架由支撐腳支撐在清洗槽內。

具體實施時，石英棒距離清洗槽的底壁為15厘米。清洗時，單晶矽片可以平置在石英棒上，將現有的豎超洗改成平超洗，消除了單晶矽片在豎超洗狀態下，污染物會殘留堆積在矽片表面，形成局部區域清洗不幹凈，以及承載矽片的軟體花籃會吸附和阻擋掉超聲波源的傳遞，從而造成矽片表面局部區域清洗不幹凈的現象，具有結構更簡單、用水量大大減少的優點。

採用超聲波清洗機的優點

1、採用了真空脫氣技術有效去除液體中氣體，且運用拋動功能，增強超聲對工件表面油污和污垢的清洗能力，縮短清洗時間;

2、洗籃設計轉動機構重疊不可分拆的零件或形狀復雜的零件，也可做到均勻完整的清洗;

3、減壓真空系統能吸出盲孔、縫隙及疊加零件之間的空氣，使超聲波在減壓的狀態下產生

4、真空蒸汽清洗+真空乾燥系統利用蒸汽洗凈做養護，完美實現清洗效果;

5、蒸汽清洗、乾燥及清洗液加熱的全過程在減壓真空中進行，更有效地確保了安全性;

6、防爆配件及簡潔加熱系統，進一步提高安全度;

7、加熱溫度自動可調;

8、設有安全保險裝置;

9、超聲輸出頻率可根據不同工作情況進行微調.

6. 太陽能玻璃用超聲波清洗機嗎

去離子水清洗機也可以啊

7. 離子色譜儀用的淋洗液和去離子水如何超聲去氣泡選擇什麼玻璃儀器

超聲使用的玻璃儀器要厚實一些的，避免在超聲過程中玻璃容器被超聲波震碎掉，超聲波清洗器的水槽要能放下你選用的玻璃容器，超聲時間3~5分鍾可以。

8. 去離子水設備的優點和用途是什麼

去離子水設備主要用途
1、化妝品行業：護膚品、洗發水、染發劑、牙膏、內洗手液生產用容水
2、電子工業：鋁箔清洗、電子管噴塗配液、顯相管玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶體管和集成電路的矽片清洗用水、配製水
3、電池行業：蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水
4、混凝土外加劑配製用水
5、玻璃鍍膜、玻璃製品清洗及燈具清洗用水
6、紡織印染工業：印染助劑配製、濕巾及面膜生產用水
7、超聲波清洗用水
8、塗裝行業：塗料配製、電鍍配製清洗、電泳漆配製清洗用水

9. 超聲波加濕機的使用條件

超聲波加濕機使用環境溫、濕度：1～40℃≤90%RH
超聲波加濕機給水水質：去離子水、純凈水、軟化水。
超聲波加濕機給水壓力、溫度：0.1～0.4Mpa1～35℃

10. 超聲清洗，用酒精超聲後為什麼還要用去離子水超聲

1、清洗劑必須抄蓋過電路板襲2mm的高度
2、先在超聲波清洗劑中靜泡3分鍾
3、超聲波清洗時間大約在5-8分鍾，這要根據你的清洗劑清洗效果和電路板錫膏型號適當調整時間。
4、清洗後的電路板先使用自來水沖洗，然後在使用去離子水或者蒸餾水在超聲波里打5分鍾即可。